發(fā)聲器的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種發(fā)聲器，包括盆架以及收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括副磁鋼，所述盆架包括側(cè)壁、由所述側(cè)壁圍成的收容空間以及自所述側(cè)壁向所述收容空間延伸的凸伸部，所述側(cè)壁與凸伸部圍成收容所述副磁鋼的凹槽，所述凸伸部包括第一下表面、與所述副磁鋼抵接的側(cè)面以及連接所述側(cè)面和第一下表面的第一斜面。本實用新型的發(fā)聲器易于裝配，且能減少裝配過程中的盆架損壞。
【專利說明】發(fā)生器【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本實用新型涉及一種發(fā)聲器，尤其涉及一種運用在便攜式電子產(chǎn)品領(lǐng)域內(nèi)的發(fā)聲器。
【【背景技術(shù)】】
[0002]在移動電話等便攜設(shè)備快速發(fā)展的過程中，人們對產(chǎn)品的功能性要求越來越強，發(fā)聲器的發(fā)展也相應加快。
[0003]相關(guān)技術(shù)的發(fā)聲器具有盆架及收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)具有副磁鋼，所述盆架具有對所述副磁鋼限位的限位部。通常限位部與副磁鋼抵接的面與限位部的上、下表面垂直連接。裝配磁路系統(tǒng)時，為了使磁路系統(tǒng)和盆架的結(jié)合牢固，需要壓合磁路系統(tǒng)，如果副磁鋼和盆架之間的定位略有偏差，在受壓的時候，副磁鋼會損壞盆架。
[0004]因此，實有必要提出一種新的發(fā)聲器克服上述問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型的目的在于解決上述結(jié)構(gòu)引起的盆架損壞問題，而提供一種易于裝配，且能減少裝配過程中的盆架損壞的發(fā)聲器。
[0006]本實用新型的技術(shù)方案如下:一種發(fā)聲器，包括盆架以及收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括副磁鋼，所述盆架包括側(cè)壁、由所述側(cè)壁圍成的收容空間以及自所述側(cè)壁向所述收容空間延伸的凸伸部，所述側(cè)壁與凸伸部圍成收容所述副磁鋼的凹槽，所述凸伸部包括第一下表面、與所述副磁鋼抵接的側(cè)面以及連接所述側(cè)面和第一下表面的
第一斜面。
[0007]優(yōu)選的，所述凸伸部包括連接所述側(cè)壁的連接部以及自所述連接部向所述收容空間彎折延伸的延伸部，所述第一斜面位于所述延伸部。
[0008]優(yōu)選的，所述側(cè)壁包括第二下表面、朝向所述收容空間的內(nèi)壁以及連接所述內(nèi)壁和第二下表面的第二斜面。
[0009]優(yōu)選的，所述第二斜面具有貫通所述內(nèi)壁及第二下表面的間隔設(shè)置的缺口。
[0010]優(yōu)選的，所述凸伸部還包括與所述第一下表面相對的第一上表面以及連接所述豎直壁和第一上表面的第三斜面。
[0011]優(yōu)選的，所述側(cè)壁還包括與所述第二下表面相對的第二上表面以及連接所述內(nèi)壁和第二上表面的第四斜面。
[0012]優(yōu)選的，所述盆架為長方形，其包括一對第一側(cè)壁及一對第二側(cè)壁，所述凸伸部位于所述第一側(cè)壁兩端，所述凸伸部與第一側(cè)壁圍成相對的兩個凹槽。
[0013]本實用新型的有益效果在于:由于在盆架上設(shè)置了第一斜面，當磁路系統(tǒng)和盆架的裝配中出現(xiàn)很小的偏位時，副磁鋼一旦受壓，會沿第一斜面滑動至預定位置而不會壓壞盆架，易于裝配，且能減少裝配過程中的盆架損壞。【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0014]圖1為本實用新型發(fā)聲器的立體組合圖；
[0015]圖2為本實用新型發(fā)聲器的立體分解圖；
[0016]圖3為本實用新型發(fā)聲器的裝配有一個副磁鋼的盆架的仰視圖；
[0017]圖4為圖1沿A-A線的剖面圖。
【【具體實施方式】】
[0018]下面結(jié)合附圖和實施方式以發(fā)聲器為例對本實用新型作進一步說明。
[0019]如圖1-3所示，發(fā)聲器I包括盆架10、收容于所述盆架10內(nèi)的磁路系統(tǒng)11、振動系統(tǒng)(未圖示)以及固定于所述盆架10上的導電端子12。
[0020]所述磁路系統(tǒng)11包括固定于所述盆架10底部的磁軛110、設(shè)置在所述磁軛110上的主磁鋼111、分別位于所述主磁鋼111兩側(cè)并與所述主磁鋼111形成磁間隙(未標號)的兩個副磁鋼112以及分別設(shè)置于所述主磁鋼111和副磁鋼112上的極片113。
[0021]所述盆架10呈長方形，其包括側(cè)壁1000、由所述側(cè)壁1000圍成的收容空間100以及自所述側(cè)壁1000向所述收容空間100延伸的凸伸部103，所述側(cè)壁1000與所述凸伸部103圍成收容所述副磁鋼112的凹槽104。在本實施例中，所述側(cè)壁1000包括一對第一側(cè)壁101、一對第二側(cè)壁102，所述導電端子12固定于所述第二側(cè)壁102，所述凸伸部103與第一側(cè)壁101圍成相對的兩個凹槽104。
[0022]如圖3和圖4所示，所述凸伸部103具有第一下表面1031、與所述副磁鋼112抵持的側(cè)面1032以及連接所述側(cè)面1032和第一下表面1031的第一斜面1033。所述凸伸部103包括連接所述第一側(cè)壁101的連接部1034以及自所述連接部1034向所述收容空間100彎折延伸的延伸部1035，所述第一斜面1033位于所述延伸部1035。
[0023]盆架10的所述第一側(cè)壁101具有第二下表面1011、朝向所述收容空間100的內(nèi)壁1012以及連接所述內(nèi)壁1012和第二下表面1011的第二斜面1013。所述第二斜面1013具有貫通所述內(nèi)壁1012及第二下表面1011的間隔設(shè)置的缺口 1010。
[0024]進行裝配時，副磁鋼112從下向上安裝到盆架10內(nèi)，由于將盆架10上可能和副磁鋼112接觸到的部分做成斜面，當磁路系統(tǒng)11和盆架10在裝配過程中出現(xiàn)很小的偏位時，副磁鋼112 —旦受壓，會沿第一斜面1033及第二斜面1013滑動至預定位置而不會壓壞盆架10。
[0025]所述凸伸部103還包括第一上表面1036，所述第一側(cè)壁101還包括第二上表面1016，所述凸伸部103還具有連接所述第一上表面1036和側(cè)面1032的第三斜面1037，所述第一側(cè)壁101還具有連接所述第二上表面1016和內(nèi)壁1012的第四斜面1017，這樣，無論副磁鋼112從上下哪個方向裝配，都能滑動至預定位置而不壓壞盆架10。
[0026]在本實施例中，所述副磁鋼112為單獨的磁鋼，與所述極片113分離，在其他實施例中，所述副磁鋼112也可以是磁鋼與極片的組合體，即所述凹槽104可同時對磁鋼和極片限位；另外，存在僅有磁鋼而無極片的實施形態(tài)，也是可行的。再或者，所述凹槽104對副磁鋼112的限位，也可以是凹槽104對極片113的限位。因而，本實用新型所謂的“凹槽104對副磁鋼112的限位”，可以解釋成:單獨針對副磁鋼112的限位(不包括極片113)、對副磁鋼112的限位(包括極片113)或者單獨針對副磁鋼112上的極片113的限位；所謂的“與副磁鋼112抵持的側(cè)面1032”的表述，可以解釋成:單獨的副磁鋼112與側(cè)面1032抵持或者副磁鋼112上的極片113與側(cè)面1032抵持。綜上所述，實際上只要所述側(cè)面1032能夠抵持并使得磁鋼或極片能夠滑至預定位置，既是本實用新型所揭示的內(nèi)容。
[0027]以上所述的僅是本實用新型的實施方式，在此應當指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出改進，但這些均屬于本實用新型的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種發(fā)聲器，包括盆架以及收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)，其特征在于:所述磁路系統(tǒng)包括副磁鋼，所述盆架包括側(cè)壁、由所述側(cè)壁圍成的收容空間以及自所述側(cè)壁向所述收容空間延伸的凸伸部，所述側(cè)壁與凸伸部圍成收容所述副磁鋼的凹槽，所述凸伸部包括第一下表面、與所述副磁鋼抵接的側(cè)面以及連接所述側(cè)面和第一下表面的第一斜面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述凸伸部包括連接所述側(cè)壁的連接部以及自所述連接部向所述收容空間彎折延伸的延伸部，所述第一斜面位于所述延伸部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述側(cè)壁包括第二下表面、朝向所述收容空間的內(nèi)壁以及連接所述內(nèi)壁和第二下表面的第二斜面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述第二斜面具有貫通所述內(nèi)壁及第二下表面的間隔設(shè)置的缺口。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述凸伸部還包括與所述第一下表面相對的第一上表面以及連接所述側(cè)面和第一上表面的第三斜面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述側(cè)壁還包括與所述第二下表面相對的第二上表面以及連接所述內(nèi)壁和第二上表面的第四斜面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器，其特征在于:所述盆架為長方形，其包括一對第一側(cè)壁及一對第二側(cè)壁，所述凸伸部位于所述第一側(cè)壁兩端，所述凸伸部與第一側(cè)壁圍成相對的兩個凹槽。
【文檔編號】H04R9/02GK203482384SQ201320330194
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年6月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月7日
【發(fā)明者】蔡斌 申請人:瑞聲聲學科技(常州)有限公司