本實(shí)用新型涉及電聲領(lǐng)域，具體的涉及一種揚(yáng)聲器模組。

背景技術(shù)：

揚(yáng)聲器是一種能夠?qū)㈦娔苻D(zhuǎn)化為聲能的器件，其廣泛應(yīng)用于手機(jī)、電腦、MP3、PAD等終端電子裝置中。現(xiàn)有技術(shù)中，揚(yáng)聲器與終端裝置組配時(shí)，通常需要將揚(yáng)聲器單體置于收容單體的外部殼體中，以模組的形式裝配到手機(jī)等終端設(shè)備中去。

伴隨著科學(xué)技術(shù)與電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，人們對于揚(yáng)聲器產(chǎn)品的性能提出了更高的要求，在當(dāng)前的市場環(huán)境下，不僅要求揚(yáng)聲器模組聲音響亮、音質(zhì)較好，同時(shí)也需要使其諧波失真降低，這就對揚(yáng)聲器產(chǎn)品的諧波失真測試劃定了更為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)，對在大電壓下進(jìn)行揚(yáng)聲器產(chǎn)品的聽音和測試是一個(gè)極大的挑戰(zhàn)。然而，現(xiàn)有的揚(yáng)聲器模組結(jié)構(gòu)，其出聲通道的設(shè)計(jì)各種各樣，部分出聲通道的設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)額定電壓下高次諧波失真測試合格，但對于大電壓下的相關(guān)測試則很難實(shí)現(xiàn)。因此，針對這一問題，仍然需要著重對出聲通道的設(shè)計(jì)做進(jìn)一步的改進(jìn)和探索。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是：提供一種揚(yáng)聲器模組，通過對其出聲通道結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)，降低產(chǎn)品高次諧波失真，改善揚(yáng)聲器模組的音質(zhì)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：一種揚(yáng)聲器模組，包括外圍殼體以及收容于所述外圍殼體內(nèi)的揚(yáng)聲器單體；所述揚(yáng)聲器單體包括振膜；所述外圍殼體的側(cè)壁上設(shè)置有所述揚(yáng)聲器模組的側(cè)出聲孔；所述振膜、所述外圍殼體與所述側(cè)出聲孔之間形成的空間為前聲腔的出聲通道，其中，所述出聲通道包括靠近所述振膜的根部、靠近所述側(cè)出聲孔的口部以及連接所述根部與所述口部并且相對設(shè)置的側(cè)壁；所述側(cè)壁包括平直側(cè)壁和彎折側(cè)壁；所述出聲通道根部的寬度大于所述口部的寬度。

作為一種改進(jìn)，所述外圍殼體包括模組上殼和與所述模組上殼相配合的模組下殼；所述側(cè)出聲孔設(shè)置于所述模組上殼的側(cè)壁上。

作為一種改進(jìn)，所述揚(yáng)聲器模組的出聲通道的側(cè)壁為設(shè)置于所述模組上殼上的側(cè)壁。

作為一種改進(jìn)，所述平直側(cè)壁垂直于所述出聲通道的根部，向所述口部的方向平直延伸。

作為一種改進(jìn)，所述彎折側(cè)壁包括垂直于所述根部的平直部以及彎曲部；所述彎曲部向所述口部的方向延伸，并且與所述口部平緩接合。

作為一種改進(jìn)，所述彎曲部逐漸靠近所述揚(yáng)聲器模組出聲通道的平直側(cè)壁；所述出聲通道靠近所述口部的部分向內(nèi)收縮。

作為一種改進(jìn)，所述平直部的長度為所述彎折側(cè)壁長度方向的1/2。

作為一種改進(jìn)，所述側(cè)出聲孔沿平行于所述振膜的方向設(shè)置。

作為一種改進(jìn)，所述揚(yáng)聲器模組還設(shè)置有密封所述前聲腔與后聲腔的PET片。

相較于現(xiàn)有技術(shù)而言，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組，其出聲通道包括靠近振膜的根部、靠近側(cè)出聲孔的口部以及連接根部與口部并且相對設(shè)置的側(cè)壁，側(cè)壁包括平直側(cè)壁和彎折側(cè)壁，同時(shí)出聲通道根部的寬度大于口部的寬度，這種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可以使得聲波在出聲通道內(nèi)更為順暢的傳播，減小聲道的側(cè)壁對聲波造成的反射和干擾，從而有效實(shí)現(xiàn)高次諧波失真最小化，能夠有效改善產(chǎn)品音質(zhì)，使得聲音更為清脆悅耳，帶給受眾更美妙的聽覺享受，也能夠滿足當(dāng)下對揚(yáng)聲器產(chǎn)品性能越來越高的要求。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組結(jié)構(gòu)的爆炸圖；

圖2為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組結(jié)構(gòu)的剖視圖；

其中的附圖標(biāo)記包括：1、模組上殼，2、模組下殼，3、揚(yáng)聲器單體，4、出聲通道，41、根部，42、口部，43、平直側(cè)壁，44、彎折側(cè)壁，440、平直部，441、彎曲部，5、PET片。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，詳細(xì)說明本實(shí)用新型內(nèi)容：

實(shí)施例：

參閱圖1和圖2所示，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組包括外圍殼體以及收容于外圍殼體內(nèi)的揚(yáng)聲器單體，具體到本實(shí)施方式而言，外圍殼體包括模組上殼1和模組下殼2，模組上殼1和模組下殼2相互配合形成一個(gè)具有容置空間的腔體，腔體內(nèi)收容有揚(yáng)聲器單體3，揚(yáng)聲器單體3作為基本的發(fā)聲單元，其具體包括磁路系統(tǒng)、振動系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)，其中，振動系統(tǒng)又包括能夠在音圈的驅(qū)動下發(fā)聲的振膜(未圖示)，振膜在音圈的帶動下振動，產(chǎn)生聲波，而揚(yáng)聲器內(nèi)腔中則配合設(shè)置有出聲通道，也就是聲波向外界輻射的通道，外部殼體上設(shè)有聲波的出口，即出聲孔。本實(shí)施方式示出的是一種側(cè)出聲揚(yáng)聲器模組，其外圍殼體的側(cè)壁上設(shè)置有揚(yáng)聲器模組的側(cè)出聲孔，具體設(shè)置于模組上殼1的側(cè)壁上。前聲腔的出聲通道4是由發(fā)聲的位置(振膜)到側(cè)出聲孔之間的通道，由振膜、外圍殼體以及側(cè)出聲孔共同配合形成。

參閱圖2所示，出聲通道4包括靠近振膜的根部41、靠近側(cè)出聲孔的口部42以及連接根部41與口部42并且相對設(shè)置的側(cè)壁(此處所指的側(cè)壁，實(shí)際為設(shè)置于模組上殼1上的側(cè)壁)，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組，其出聲通道4的側(cè)壁包括平直側(cè)壁43和彎折側(cè)壁44，其中，平直側(cè)壁43垂直于出聲通道的根部41，向口部42的方向平直延伸，而彎折側(cè)壁44則為彎折的結(jié)構(gòu)，具體包括平直部440和彎曲部441兩部分，平直部440同樣垂直于出聲通道的根部41，而彎曲部441則向口部42的方向延伸，并且與口部42平緩接合。另外，彎折側(cè)壁44的彎曲部441延伸過程中逐漸向平直側(cè)壁43靠近，也就是說，出聲通道4接近口部42的部分呈現(xiàn)向內(nèi)收縮狀，換言之，出聲通道根部41的寬度要大于口部42的寬度。

通過上述技術(shù)方案，將側(cè)出聲揚(yáng)聲器模組出聲通道的側(cè)壁設(shè)計(jì)為一側(cè)平直一側(cè)彎折的結(jié)構(gòu)，同時(shí)保證根部相較于口部而言寬度更大，可以使得聲波在出聲通道內(nèi)更為順暢的傳播，減小聲道的側(cè)壁對聲波造成的反射和干擾，從而有效實(shí)現(xiàn)高次諧波失真最小化，能夠有效改善產(chǎn)品音質(zhì)。

優(yōu)選的，平直部440的長度為彎折側(cè)壁44長度方向的1/2，在具體實(shí)施時(shí)，只要出聲通道的側(cè)壁一側(cè)平直一側(cè)彎折，并且滿足根部41的寬度大于口部42的寬度即可實(shí)現(xiàn)本技術(shù)方案的效果，此處示明的1/2僅為在此方案下最優(yōu)化的一種設(shè)計(jì)，也就是說，假定彎折側(cè)壁44在長度方向上的取值為L，那么當(dāng)平直部440的長度為1/2L時(shí)，效果最優(yōu)。

優(yōu)選的，側(cè)出聲孔沿平行于所述的方向設(shè)置，當(dāng)振膜在音圈的驅(qū)動下振動時(shí)，聲波可以更為順暢的通過聲道傳遞至側(cè)出聲孔。

優(yōu)選的，揚(yáng)聲器模組腔體內(nèi)部還設(shè)置有PET片(聚對苯二甲酸乙二醇酯)，PET片用于密封模組的前聲腔與后聲腔。

需要說明的是，本技術(shù)方案主要適用于側(cè)出聲揚(yáng)聲器模組，本實(shí)施方式示出的模組結(jié)構(gòu)，其外部殼體包括模組上殼和模組下殼兩部分，實(shí)際上，本技術(shù)方案的適用并不限于上述兩部分殼體的模組結(jié)構(gòu)，對于同時(shí)包括模組上殼、模組中殼和模組下殼三部分殼體等結(jié)構(gòu)的模組也同樣適用，并不因此而受到影響；同樣的，無論側(cè)出聲孔設(shè)置于哪一部分殼體上，只要其出聲通道的設(shè)計(jì)滿足本方案的要求，均不影響實(shí)施。

以上僅為本實(shí)用新型實(shí)施案例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，但凡本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型所揭示內(nèi)容所作的等效修飾或變化，皆應(yīng)納入權(quán)利要求書中記載的保護(hù)范圍內(nèi)。