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自清潔云臺攝像頭防護罩的制作方法

文檔序號:12193508閱讀:711來源:國知局
自清潔云臺攝像頭防護罩的制作方法與工藝

本實用新型涉及攝像頭防護裝置技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,涉及一種自清潔云臺攝像頭防護罩。



背景技術(shù):

近些年來,攝像頭作為一種視頻輸入設(shè)備,被廣泛的應用于各種領(lǐng)域,方便了消費者對信息的攝取,加快了信息的傳遞。攝像頭的鏡頭對保證成像精度、成像質(zhì)量等具有直接的影響,對于清晰度或成像質(zhì)量越高的攝像頭,其鏡頭的影響也就越大。但攝像頭的鏡頭又不可避免的需要工作時暴露與外界環(huán)境中,這就使得攝像頭的鏡頭極易受到損傷。為了對攝像頭的鏡頭進行保護,現(xiàn)有技術(shù)中通常會在攝像頭處設(shè)置一防護罩,該防護罩的設(shè)計雖然是能夠?qū)z像頭的鏡頭與外界環(huán)境進行隔離,卻由于制造精度或材料的問題,對光線具有較大的反射率,進而大大降低了攝像頭的成像質(zhì)量。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型的內(nèi)容是提供一種自清潔云臺攝像頭防護罩,其能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的某種或某些缺陷。

根據(jù)本實用新型的自清潔云臺攝像頭防護罩,其包括用于與攝像頭鏡頭配合的膜體,膜體包括至少一層膜層單元,膜層單元包括在遠離攝像頭鏡頭的方向上依次層疊的膜層單元組件A和膜層單元組件B,膜層單元組件A的材質(zhì)采用四氮化三硅,膜層單元組件B的材質(zhì)采用二氧化硅。

本實用新型中,膜體的設(shè)置能夠大大的降低防護罩處的光線反射率,進而能夠較佳的降低防護罩對攝像頭成像質(zhì)量所造成的不良影響。另外,由于膜層單元組件A的材質(zhì)采用四氮化三硅,膜層單元組件B的材質(zhì)采用二氧化硅,從而使得膜體能夠具備較佳的硬度,從而能夠較佳的防止膜體受到不可意料的損傷的幾率。

作為優(yōu)選,所述至少一層膜層單元的數(shù)量為3個,分別為在遠離攝像頭鏡頭的方向上依次層疊的第一膜層單元、第二膜層單元和第三膜層單元。

作為優(yōu)選,第一膜層單元包括第一膜層單元組件A和第一膜層單元組件B,第一膜層單元組件A的厚度為9.23nm,第一膜層單元組件B的厚度為44.75nm;

第二膜層單元包括第二膜層單元組件A和第二膜層單元組件B,第二膜層單元組件A的厚度為39.33nm,第二膜層單元組件B的厚度為11.52nm;

第三膜層單元包括第三膜層單元組件A和第三膜層單元組件B,第三膜層單元組件A的厚度為75.06nm,第三膜層單元組件B的厚度為86.18nm。

本實用新型中,通過設(shè)置3層膜層單元,且將該3層膜層單元的構(gòu)造采用上述方式,使得膜體的表面硬度能夠達到9H以上,且能夠具備較小的光線反射率,尤其是在可見光段,光線的反射率能夠保持在0.5%左右。

附圖說明

圖1為實施例1中的一種自清潔云臺攝像頭防護罩的膜體示意圖;

圖2為實施例1中的膜體對不同波長光線的反射率關(guān)系圖。

圖2中,橫軸為波長(nm),縱軸為反射率(%)。

具體實施方式

為進一步了解本實用新型的內(nèi)容,結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作詳細描述。應當理解的是,實施例僅僅是對本實用新型進行解釋而并非限定。

實施例1

如圖1所示,本實施例提供了一種自清潔云臺攝像頭防護罩,其包括用于與攝像頭鏡頭配合的膜體100,膜體100包括至少一層膜層單元,膜層單元包括在遠離攝像頭鏡頭的方向上依次層疊的膜層單元組件A和膜層單元組件B,膜層單元組件A的材質(zhì)采用四氮化三硅,膜層單元組件B的材質(zhì)采用二氧化硅。

本實施例中,膜層單元的數(shù)量為3個,分別為在遠離攝像頭鏡頭的方向上依次層疊的第一膜層單元、第二膜層單元和第三膜層單元。

第一膜層單元包括第一膜層單元組件A111和第一膜層單元組件B112,第一膜層單元組件A111的厚度為9.23nm,第一膜層單元組件B112的厚度為44.75nm。

第二膜層單元包括第二膜層單元組件A121和第二膜層單元組件B122,第二膜層單元組件A121的厚度為39.33nm,第二膜層單元組件B122的厚度為11.52nm。

第三膜層單元包括第三膜層單元組件A131和第三膜層單元組件B132,第三膜層單元組件A131的厚度為75.06nm,第三膜層單元組件B132的厚度為86.18nm。

如圖2所示,本實施例中的膜體100對可見光范圍內(nèi)的波長均具有較小的反射率,約在0.5%左右。另外,本實施例中的膜體100的表面硬度能夠達到9H。

以上示意性的對本實用新型及其實施方式進行了描述,該描述沒有限制性,附圖中所示的也只是本實用新型的實施方式之一,實際的結(jié)構(gòu)并不局限于此。所以,如果本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員受其啟示,在不脫離本實用新型創(chuàng)造宗旨的情況下,不經(jīng)創(chuàng)造性的設(shè)計出與該技術(shù)方案相似的結(jié)構(gòu)方式及實施例,均應屬于本實用新型的保護范圍。

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