1.一種磁路系統(tǒng)，包括
環(huán)形磁間隙，由磁軛、磁鐵、頂片圍成；
其特征在于，還包括
兩個(gè)以上低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)，設(shè)于所述環(huán)形磁間隙內(nèi)；
磁隙區(qū)，其為所述環(huán)形磁間隙內(nèi)任意兩個(gè)低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)之間的部分；以及
磁流體，被填充于至少一個(gè)磁隙區(qū)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述磁軛包括
磁軛底板；以及
磁軛側(cè)板，設(shè)于所述磁軛底板邊緣處。
3.如權(quán)利要求2所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述磁鐵包括
中央磁鐵，貼附于所述磁軛底板上表面的中部；和/或
邊磁鐵，貼附于所述磁軛底板上表面的邊緣處。
4.如權(quán)利要求3所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述頂片包括
中央頂片，貼附于所述中央磁鐵上表面；和/或
邊頂片，貼附于所述邊磁鐵上表面。
5.如權(quán)利要求4所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)包括
兩個(gè)以上中央頂片缺口，設(shè)于所述中央頂片邊緣處，其開口方向朝向所述環(huán)形磁間隙；和/或
兩個(gè)以上邊頂片缺口，設(shè)于所述邊頂片邊緣處，其開口方向朝向所述環(huán)形磁間隙；和/或
兩個(gè)以上磁軛凹槽，設(shè)于所述磁軛側(cè)板上端。
6.如權(quán)利要求5所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，
當(dāng)所述低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)包括中央頂片缺口、邊頂片缺口和/或磁軛凹槽時(shí)，
每一中央頂片缺口的位置與一個(gè)邊頂片缺口和/或一個(gè)磁軛凹槽的位置彼此對(duì)應(yīng)。
7.如權(quán)利要求1所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述磁軛包括磁軛底板。
8.如權(quán)利要求7所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述磁鐵包括
中央磁鐵，貼附于所述磁軛底板上表面的中部；
邊磁鐵，貼附于所述磁軛底板上表面的邊緣處。
9.如權(quán)利要求8所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，所述頂片包括
中央頂片，貼附于所述中央磁鐵上表面；
邊頂片，貼附于所述邊磁鐵上表面。
10.如權(quán)利要求9所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，
所述低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)包括
兩個(gè)以上中央頂片缺口，設(shè)于所述中央頂片邊緣處，其開口方向朝向所述環(huán)形磁間隙；和/或
兩個(gè)以上邊頂片缺口，設(shè)于所述邊頂片邊緣處，其開口方向朝向所述環(huán)形磁間隙。
11.如權(quán)利要求9所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，
當(dāng)所述低磁場(chǎng)節(jié)點(diǎn)包括中央頂片缺口和邊頂片缺口時(shí)，
每一中央頂片缺口的位置與一個(gè)邊頂片缺口的位置彼此對(duì)應(yīng)。
12.如權(quán)利要求1所述的磁路系統(tǒng)，其特征在于，
填充有所述磁流體的磁隙區(qū)為軸對(duì)稱圖形，其對(duì)稱軸為所述環(huán)形磁間隙的一中心線。
13.一種微型揚(yáng)聲器，包括權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的磁路系統(tǒng)。
14.如權(quán)利要求13所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于，
所述微型揚(yáng)聲器還包括音圈，設(shè)于所述環(huán)形磁間隙內(nèi)；
所述磁流體填充于所述音圈兩側(cè)和/或其底部；
所述磁流體粘附于所述磁軛和/或所述磁鐵和/或所述頂片的邊緣處。
15.如權(quán)利要求13所述的微型揚(yáng)聲器，其特征在于，
所述微型揚(yáng)聲器包括但不限于平板形振膜揚(yáng)聲器、圓錐形振膜揚(yáng)聲器或球頂形揚(yáng)聲器。