1.一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，包括：
在陣列光探測(cè)器的前端設(shè)置光衰減模塊，以此來(lái)提高陣列光探測(cè)器響應(yīng)光功率的線性范圍；
當(dāng)進(jìn)行光信號(hào)檢測(cè)時(shí)，若存在超過(guò)預(yù)定值的強(qiáng)光干擾時(shí)，在光衰減模塊的作用下，使陣列光探測(cè)器中的部分或全部探測(cè)單元輸出帶有有用信息的信號(hào)，然后再進(jìn)行后級(jí)處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光信號(hào)檢測(cè)檢測(cè)的光波段包括：可見(jiàn)光波段、紅色光波段與紫外光波段。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，所述陣列光探測(cè)器包括：PD、APD和PMT陣列光探測(cè)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光衰減模塊包括：可變系數(shù)衰減片，以及具有漸變孔徑尺寸或漸變微孔密度的微孔陣列板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，所述微孔陣列板的材質(zhì)為二氧化硅玻璃或者亞克力，表面涂覆有黑色亞光漆；單個(gè)微孔直徑在50微米與1毫米范圍之內(nèi)變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種強(qiáng)光干擾下的光信號(hào)檢測(cè)方法，其特征在于，所述后級(jí)處理包括：
如果陣列光探測(cè)器為PD陣列光探測(cè)器，則對(duì)被光衰減模塊覆蓋的圖像區(qū)域進(jìn)行提取和區(qū)域分割，根據(jù)光衰減模塊的衰減系數(shù)與圖像灰度的變化關(guān)系，設(shè)定不同的圖像灰度門限進(jìn)行信號(hào)提取，同時(shí)根據(jù)不同光衰減模塊的衰減系數(shù)下數(shù)據(jù)單元之間的相關(guān)關(guān)系進(jìn)行信號(hào)檢測(cè)分析，最后獲取有用的數(shù)據(jù)單元。