本發(fā)明的技術涉及一種逆光校正裝置、逆光校正裝置的運作方法、逆光校正裝置的運作程序及攝像裝置。

背景技術：

1、專利文獻1中記載了一種攝像裝置，其具備：攝像部，拍攝被攝體，并生成圖像數據；第1檢測部，檢測圖像數據中與被攝體的面部對應的面部區(qū)域；第2檢測部，檢測圖像數據中與被攝體的至少一部分對應的被攝體區(qū)域；及控制部，通過與圖像數據相關的測光來控制曝光。當第1檢測部檢測出面部區(qū)域時，控制部根據檢測出的面部區(qū)域的測光來校正曝光。并且，當此后第1檢測部未檢測出面部區(qū)域且第2檢測部檢測出與檢測出的面部區(qū)域的被攝體對應的被攝體區(qū)域時，繼續(xù)校正與檢測出的面部區(qū)域的測光對應的曝光。

2、專利文獻1：日本專利第6817590號

技術實現思路

1、本發(fā)明的技術所涉及的一個實施方式提供一種能夠進行適當的逆光校正的逆光校正裝置、逆光校正裝置的運作方法、逆光校正裝置的運作程序及攝像裝置。

2、本發(fā)明的逆光校正裝置具備處理器，處理器執(zhí)行如下處理：在作為圖像內的逆光校正的基準的基準區(qū)域與基準區(qū)域的周邊區(qū)域的亮度之差為預先設定的第1閾值以上的情況下，進行判定為圖像的攝影場景為光從被攝體的后方照射的逆光場景的第1判定；在通過第1判定判定為是逆光場景的情況下，通過向增加圖像整體的亮度的方向進行曝光校正來進行逆光校正；進行判定圖像中是否存在飽和的區(qū)域的第2判定；及在通過第1判定判定為是逆光場景且通過第2判定判定為存在飽和的區(qū)域的情況下，將第1閾值設定為比判定為不存在飽和的區(qū)域的情況低的值。

3、優(yōu)選，處理器以周邊區(qū)域為第2判定的對象。

4、優(yōu)選，處理器根據分割圖像而得的多個分割區(qū)域中周邊區(qū)域與圖像整體的亮度之差和預先設定的第2閾值的比較結果來進行第2判定。

5、優(yōu)選，處理器在與圖像整體的亮度之差為第2閾值以上的周邊區(qū)域存在規(guī)定數量以上的情況下，判定為存在飽和的區(qū)域。

6、優(yōu)選，基準區(qū)域為圖像的中央區(qū)域、檢測出被攝體的區(qū)域及使用者指定的區(qū)域中的任一個。

7、本發(fā)明的攝像裝置具備上述逆光校正裝置。

8、優(yōu)選，本發(fā)明的攝像裝置為監(jiān)控攝像機。

9、本發(fā)明的逆光校正裝置的運作方法包括如下步驟：在作為圖像內的逆光校正的基準的基準區(qū)域與基準區(qū)域的周邊區(qū)域的亮度之差為預先設定的閾值以上的情況下，進行判定為圖像的攝影場景為光從被攝體的后方照射的逆光場景的第1判定；在通過第1判定判定為是逆光場景的情況下，通過向增加圖像整體的亮度的方向進行曝光校正來進行逆光校正；進行判定圖像中是否存在飽和的區(qū)域的第2判定；及在通過第1判定判定為是逆光場景且通過第2判定判定為存在飽和的區(qū)域的情況下，將閾值設定為比判定為不存在飽和的區(qū)域的情況低的值。

10、本發(fā)明的逆光校正裝置的運作程序使計算機執(zhí)行包括如下步驟的處理：在作為圖像內的逆光校正的基準的基準區(qū)域與基準區(qū)域的周邊區(qū)域的亮度之差為預先設定的閾值以上的情況下，進行判定為圖像的攝影場景為光從被攝體的后方照射的逆光場景的第1判定；在通過第1判定判定為是逆光場景的情況下，通過向增加圖像整體的亮度的方向進行曝光校正來進行逆光校正；進行判定圖像中是否存在飽和的區(qū)域的第2判定；及在通過第1判定判定為是逆光場景且通過第2判定判定為存在飽和的區(qū)域的情況下，將閾值設定為比判定為不存在飽和的區(qū)域的情況低的值。

技術特征：

1.一種逆光校正裝置，其具備處理器，

2.根據權利要求1所述的逆光校正裝置，其中，

3.根據權利要求2所述的逆光校正裝置，其中，

4.根據權利要求3所述的逆光校正裝置，其中，

5.根據權利要求1至4中任一項所述的逆光校正裝置，其中，

6.一種攝像裝置，其具備權利要求1所述的逆光校正裝置。

7.根據權利要求6所述的攝像裝置，其為監(jiān)控攝像機。

8.一種逆光校正裝置的運作方法，其包括如下步驟：

9.一種計算機可讀的存儲介質，存儲有逆光校正裝置的運作程序，所述運作程序使計算機執(zhí)行包括如下步驟的處理：

技術總結
本發(fā)明提供一種能夠進行適當的逆光校正的逆光校正裝置、逆光校正裝置的運作方法、存儲介質及攝像裝置。在作為圖像內的逆光校正的基準的基準區(qū)域的區(qū)域曝光值的代表值與基準區(qū)域的周邊區(qū)域的區(qū)域曝光值的代表值之差為預先設定的第1閾值以上的情況下，第1判定部進行判定為圖像的攝影場景為逆光場景的第1判定。在通過第1判定判定為是逆光場景的情況下，曝光控制部通過向增加圖像整體的亮度的方向進行曝光校正來進行逆光校正。第2判定部進行判定圖像中是否存在飽和區(qū)域的第2判定。在通過第1判定判定為是逆光場景且通過第2判定判定為存在飽和區(qū)域的情況下，第1判定部將第1閾值設定為比判定為不存在飽和區(qū)域的情況低的值。

技術研發(fā)人員：內田亮宏
受保護的技術使用者：富士膠片株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/2