本技術(shù)專(zhuān)利涉及保護(hù)殼的,具體而言,涉及橫縱向切換支撐保護(hù)殼。
背景技術(shù):
1、保護(hù)殼,用于裝配電子設(shè)備,從而對(duì)電子設(shè)備起到保護(hù)作用,例如,手機(jī)、平板等。
2、目前,為了便于電子設(shè)備的使用,在保護(hù)殼上設(shè)置有支架,從而實(shí)現(xiàn)電子設(shè)備的放置使用;例如,公開(kāi)號(hào)為cn203340125u,公開(kāi)了一種帶支架的手機(jī)殼,包括手機(jī)殼、支架框和支架,所述手機(jī)殼的邊框上設(shè)有所述支架框的安裝槽,所述支架框可拆卸的設(shè)置在所述安裝槽內(nèi),所述支架與所述支架框鉸接。
3、現(xiàn)有技術(shù)中,電子設(shè)備僅橫置布置時(shí)才滿(mǎn)足支撐,支架的支撐方式單一,導(dǎo)致電子設(shè)備的使用場(chǎng)景受限。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型的目的在于提供橫縱向切換支撐保護(hù)殼,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中,保護(hù)殼的支架支撐方式單一的問(wèn)題。
2、本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,橫縱向切換支撐保護(hù)殼,包括殼體、橫撐片、第一支撐片、第二支撐片以及縱撐片,所述殼體用于放置電子設(shè)備,所述殼體設(shè)有橫吸附塊、第一中吸附塊、第二中吸附塊以及縱吸附塊,所述橫吸附塊、所述第一中吸附塊、所述第二中吸附塊和所述縱吸附塊呈依序間隔對(duì)應(yīng)布置;所述橫撐片、所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述縱撐片呈依序?qū)硬贾茫宜鰴M撐片和所述縱撐片分別與所述殼體呈對(duì)接布置,所述橫撐片用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述縱撐片用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置。
3、進(jìn)一步的,所述橫撐片包括橫撐部和橫固部,所述橫撐部和所述橫固部呈對(duì)接布置,所述橫撐部用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述殼體具有朝內(nèi)的內(nèi)殼面,所述橫固部貫穿所述殼體延伸與所述內(nèi)殼面呈平鋪固定布置。
4、進(jìn)一步的,所述橫撐部具有第一片吸附塊,所述第一片吸附塊用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置;所述第一片吸附塊、所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為磁塊,或者,所述第一片吸附塊為磁塊,所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為金屬塊,或者,所述第一片吸附塊為金屬塊,所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為磁塊。
5、進(jìn)一步的,所述殼體具有朝外的外殼面,所述外殼面具有橫撐槽,所述橫撐槽沿朝內(nèi)方向呈凹陷布置,所述橫撐槽用于供所述橫撐片呈平鋪嵌設(shè)布置,所述橫撐槽用于定位所述橫撐片。
6、進(jìn)一步的,所述縱撐片包括縱撐部和縱固部,所述縱撐部和所述縱固部呈對(duì)接布置,所述縱撐部用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置,所述殼體具有朝內(nèi)的內(nèi)殼面,所述縱固部貫穿所述殼體延伸與所述內(nèi)殼面呈平鋪固定布置。
7、進(jìn)一步的,所述縱撐部具有第二片吸附塊,所述第二片吸附塊用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置;所述第二片吸附塊、所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為磁塊,或者,所述第二片吸附塊為磁塊,所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為金屬塊,或者,所述第二片吸附塊為金屬塊,所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為磁塊。
8、進(jìn)一步的,所述殼體具有朝外的外殼面,所述外殼面具有縱撐槽,所述縱撐槽沿朝內(nèi)方向呈凹陷布置,所述縱撐槽用于供所述縱撐片呈平鋪嵌設(shè)布置,所述縱撐槽用于定位所述縱撐片。
9、進(jìn)一步的,所述橫撐片和所述第一支撐片受外力呈彎折布置,所述第一支撐片和所述第二支撐片受外力呈彎折布置,所述第二支撐片和所述縱撐片受外力呈彎折布置;當(dāng)支撐時(shí),所述第一支撐片和所述第二支撐片呈彎折狀態(tài),且所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述殼體呈三角狀對(duì)應(yīng)布置。
10、進(jìn)一步的,所述橫縱向切換支撐保護(hù)殼包括皮質(zhì)層,所述皮質(zhì)層同步包裹所述橫撐片、所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述縱撐片,且所述皮質(zhì)層呈可彎折布置。
11、進(jìn)一步的,所述第一支撐片具有第一撐塊,所述第一撐塊用于與所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述第二支撐片具有第二撐塊,所述第二撐塊用于與所述第二中吸附塊呈吸附布置。
12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型提供的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,橫向支撐時(shí),擺動(dòng)橫撐片與橫吸附塊呈疊合吸附布置,同時(shí),擺動(dòng)縱撐片與第二中吸附塊呈疊合吸附布置,此時(shí),第一支撐板和第二支撐板呈彎折布置且靠近殼體的中部,通過(guò)第一支撐板和第二支撐板實(shí)現(xiàn)支撐橫置狀態(tài)的殼體;縱向支撐時(shí),擺動(dòng)縱撐片與縱吸附塊呈疊合吸附布置,同時(shí),擺動(dòng)橫撐片與第一中吸附塊呈疊合吸附布置,此時(shí),第一支撐板和第二支撐板呈彎折布置且靠近殼體的底部,通過(guò)第一支撐板和第二支撐板實(shí)現(xiàn)支撐縱置狀態(tài)的殼體;這樣,基于支撐需求,用戶(hù)殼隨意切換殼體呈橫置狀態(tài)和縱置狀態(tài),且橫置狀態(tài)和縱置狀態(tài)均滿(mǎn)足支撐,使殼體的放置場(chǎng)景多樣化,滿(mǎn)足多種使用需求。
1.橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,包括殼體、橫撐片、第一支撐片、第二支撐片以及縱撐片,所述殼體用于放置電子設(shè)備,所述殼體設(shè)有橫吸附塊、第一中吸附塊、第二中吸附塊以及縱吸附塊,所述橫吸附塊、所述第一中吸附塊、所述第二中吸附塊和所述縱吸附塊呈依序間隔對(duì)應(yīng)布置;所述橫撐片、所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述縱撐片呈依序?qū)硬贾茫宜鰴M撐片和所述縱撐片分別與所述殼體呈對(duì)接布置,所述橫撐片用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述縱撐片用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置。
2.如權(quán)利要求1所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述橫撐片包括橫撐部和橫固部,所述橫撐部和所述橫固部呈對(duì)接布置,所述橫撐部用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述殼體具有朝內(nèi)的內(nèi)殼面,所述橫固部貫穿所述殼體延伸與所述內(nèi)殼面呈平鋪固定布置。
3.如權(quán)利要求2所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述橫撐部具有第一片吸附塊,所述第一片吸附塊用于與所述橫吸附塊或所述第一中吸附塊呈吸附布置;所述第一片吸附塊、所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為磁塊,或者,所述第一片吸附塊為磁塊,所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為金屬塊,或者,所述第一片吸附塊為金屬塊,所述橫吸附塊和所述第一中吸附塊均為磁塊。
4.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述殼體具有朝外的外殼面,所述外殼面具有橫撐槽,所述橫撐槽沿朝內(nèi)方向呈凹陷布置,所述橫撐槽用于供所述橫撐片呈平鋪嵌設(shè)布置,所述橫撐槽用于定位所述橫撐片。
5.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述縱撐片包括縱撐部和縱固部,所述縱撐部和所述縱固部呈對(duì)接布置,所述縱撐部用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置,所述殼體具有朝內(nèi)的內(nèi)殼面,所述縱固部貫穿所述殼體延伸與所述內(nèi)殼面呈平鋪固定布置。
6.如權(quán)利要求5所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述縱撐部具有第二片吸附塊,所述第二片吸附塊用于與所述縱吸附塊或所述第二中吸附塊呈吸附布置;所述第二片吸附塊、所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為磁塊,或者,所述第二片吸附塊為磁塊,所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為金屬塊,或者,所述第二片吸附塊為金屬塊,所述縱吸附塊和所述第二中吸附塊均為磁塊。
7.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述殼體具有朝外的外殼面,所述外殼面具有縱撐槽,所述縱撐槽沿朝內(nèi)方向呈凹陷布置,所述縱撐槽用于供所述縱撐片呈平鋪嵌設(shè)布置,所述縱撐槽用于定位所述縱撐片。
8.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述橫撐片和所述第一支撐片受外力呈彎折布置,所述第一支撐片和所述第二支撐片受外力呈彎折布置,所述第二支撐片和所述縱撐片受外力呈彎折布置;當(dāng)支撐時(shí),所述第一支撐片和所述第二支撐片呈彎折狀態(tài),且所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述殼體呈三角狀對(duì)應(yīng)布置。
9.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述橫縱向切換支撐保護(hù)殼包括皮質(zhì)層,所述皮質(zhì)層同步包裹所述橫撐片、所述第一支撐片、所述第二支撐片和所述縱撐片,且所述皮質(zhì)層呈可彎折布置。
10.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的橫縱向切換支撐保護(hù)殼,其特征在于,所述第一支撐片具有第一撐塊,所述第一撐塊用于與所述第一中吸附塊呈吸附布置,所述第二支撐片具有第二撐塊,所述第二撐塊用于與所述第二中吸附塊呈吸附布置。