發(fā)聲裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及電聲領(lǐng)域，具體的涉及一種發(fā)聲裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]發(fā)聲單元是耳機等電聲器件中設(shè)計比較復(fù)雜的部分，也是關(guān)系到聲學(xué)性能的關(guān)鍵部件。動圈耳機的工作原理與動圈揚聲器基本相同，音頻信號輸入音圈后，在不斷變化的電磁場的作用下，音圈發(fā)生位移的變化，帶動與其連接的振膜振動，從而策動空氣發(fā)聲。隨著電子技術(shù)的不斷發(fā)展，對耳機發(fā)聲單元的性能提出了更高的要求，需要滿足在長期大功率下工作的可靠性需求。另外，當(dāng)前電子產(chǎn)品小型化趨勢愈發(fā)明顯，在尺寸較小的前提下，產(chǎn)品的振動位移卻越來越大，產(chǎn)品的內(nèi)部空間的確有限。如圖4所示，處于下方的音圈引線51與外殼I距離較近，此時，當(dāng)產(chǎn)品在較大電壓下工作時，其位移較大，音圈51引線容易觸碰到外殼1，從而引起產(chǎn)品HOHD(高次諧波失真)不良。但由于產(chǎn)品的MCO(外觀尺寸管控)受限，不能通過增加外部尺寸的方式來增加振動空間。
[0003]如圖2和圖3所示，一般的圓形發(fā)聲裝置，盆架2設(shè)計四個缺口用于與外殼的定位，此時可以保證BL(力電耦合系數(shù))是對稱的。但音圈引線51與盆架2的距離較近，如果產(chǎn)品的靈敏度較高，音圈引線51亦很容易觸碰到盆架2，同樣會引起產(chǎn)品HOHD (高次諧波失真)不良。但如果把磁路的位置降低，則相當(dāng)于音圈5在磁路中的位置發(fā)生了變化，不能保證產(chǎn)品的BL (力電耦合系數(shù))對稱，會影響產(chǎn)品的總諧波失真曲線。
[0004]因此，有必要對現(xiàn)有的發(fā)聲裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)，在產(chǎn)品尺寸較小的前提下，增大產(chǎn)品的振動空間，優(yōu)化產(chǎn)品性能。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是:提供一種發(fā)聲裝置，通過對盆架以及外殼結(jié)構(gòu)的改進(jìn)，增大產(chǎn)品的振動空間。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案:一種發(fā)聲裝置，包括具有內(nèi)腔的外殼、磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)；所述外殼包括底部和側(cè)部；所述磁路系統(tǒng)包括固定于所述外殼底部的盆架以及依次與所述盆架粘結(jié)固定的磁鐵和華司；所述振動系統(tǒng)包括振膜和與所述振膜粘結(jié)固定的音圈；所述音圈包括音圈引線，其中，所述盆架的開口部設(shè)置有去料形成的缺口 ；所述缺口位于所述音圈引線下方的位置，所述音圈引線從所述缺口處穿出；所述外殼側(cè)部對應(yīng)所述音圈引線下方的部分減料設(shè)置。
[0007]作為一種改進(jìn)，所述音圈引線包括入線端和出線端；所述盆架的開口部設(shè)置有兩個分別位于所述入線端和所述出線端下方的缺口。
[0008]作為一種改進(jìn)，所述盆架的開口部還設(shè)置有另一缺口，并且與所述音圈引線下方的兩個缺口呈軸對稱均勻分布。
[0009]作為一種改進(jìn)，所述盆架的開口部缺口的數(shù)量設(shè)置為三個。
[0010]作為一種改進(jìn)，所述外殼注塑成型；所述外殼側(cè)部對應(yīng)所述音圈引線下方的部分的注塑料少于所述外殼側(cè)部其他部分的注塑料。
[0011]作為一種改進(jìn)，所述盆架呈圓筒狀；所述磁鐵和所述華司的截面為圓形。
[0012]作為一種改進(jìn)，所述振膜中間位置的上側(cè)結(jié)合有補強部；所述振膜下側(cè)固定有支撐所述振膜的金屬環(huán)；所述振膜包括邊緣部和結(jié)合于所述邊緣部內(nèi)側(cè)的折環(huán)部；所述邊緣部與所述金屬環(huán)對應(yīng)固定。
[0013]作為一種改進(jìn)，所述華司上設(shè)置有一對導(dǎo)電件；所述音圈引線與所述導(dǎo)電件電性連接。
[0014]作為一種改進(jìn)，所述外殼的側(cè)部設(shè)置有所述發(fā)聲裝置的出聲孔；所述外殼對應(yīng)所述出聲孔的位置覆蓋有阻尼。
[0015]采用了上述技術(shù)方案以后，本實用新型發(fā)生裝置的有益效果是:
[0016]由于本實用新型的發(fā)聲裝置，盆架開口部設(shè)置有缺口，且兩個缺口分別位于音圈入線端和出線端下方的位置，音圈引線從缺口處穿出，這樣可以增加音圈引線下部的振動空間，同時不會造成產(chǎn)品靈敏度的損失。
[0017]由于本實用新型的發(fā)聲裝置，只針對外殼側(cè)部對應(yīng)音圈引線下方的部分進(jìn)行減料設(shè)置，而不需要對整個外殼結(jié)構(gòu)的注塑料都進(jìn)行減薄處理，即只有外殼側(cè)部對應(yīng)音圈引線下方的部分的注塑料少于外殼側(cè)部其他部分的注塑料，可以保證產(chǎn)品在獲得更大的振動空間的同時也保證外殼本身的厚度和強度。
[0018]由于盆架的開口部還設(shè)置有另一缺口，并且該缺口與位于音圈引線下方的兩個缺口呈軸對稱均勻分布，因此在進(jìn)行上料組裝時不需要區(qū)分方向，便于操作。
[0019]綜上所述，本實用新型的發(fā)聲裝置，通過對盆架設(shè)置三個缺口，并且針對外殼對應(yīng)音圈引線下方的部分進(jìn)行減料處理，可以增大產(chǎn)品的振動空間，同時保證產(chǎn)品的靈敏度及外殼的強度。
【附圖說明】
[0020]圖1為本實用新型發(fā)聲裝置結(jié)構(gòu)的爆炸圖；
[0021]圖2為傳統(tǒng)發(fā)生裝置的磁路系統(tǒng)和音圈的裝配示意圖；
[0022]圖3為圖2沿A-A線的剖視圖；
[0023]圖4為傳統(tǒng)發(fā)聲裝置結(jié)構(gòu)的剖視圖；
[0024]圖5為本實用新型發(fā)聲裝置的磁路系統(tǒng)和音圈的裝配示意圖；
[0025]圖6為圖5沿B-B線的剖視圖；
[0026]圖7為本實用新型發(fā)聲裝置結(jié)構(gòu)的剖視圖；
[0027]圖8為本實用新型發(fā)生裝置結(jié)構(gòu)的立體圖；
[0028]其中的附圖標(biāo)記包括:1、外殼，2、盆架，21、缺口，3、磁鐵，4、華司，5、音圈，51、音圈引線，6、振膜，61、邊緣部，62、折環(huán)部，7、補強部，8、金屬環(huán)，9、阻尼，10、導(dǎo)電件。
【具體實施方式】
[0029]下面結(jié)合附圖，詳細(xì)說明本【實用新型內(nèi)容】:
[0030]實施例:
[0031]參閱圖1所示，本實用新型的發(fā)聲裝置包括具有內(nèi)腔的外殼1、磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)。其中，外殼I包括底部和側(cè)部，磁路系統(tǒng)包括固定于外殼I底部的盆架2以及依次與盆架2粘結(jié)固定的磁鐵3和華司4 ;振動系統(tǒng)包括振膜6和與振膜6粘結(jié)固定的音圈5，音圈5包括音圈引線51。實施時，外殼I的側(cè)部和磁路系統(tǒng)之間形成磁間隙，音圈引線51在該磁間隙中布線。
[0032]參閱圖5所示，盆架2的開口部設(shè)置有去料形成的缺口 21，缺口 21位于音圈引線51下方的位置，音圈引線51從缺口 21處穿出。參閱圖6所示，音圈引線51下部與盆架2之間的距離為L2，相較于圖3示出的現(xiàn)有設(shè)計而言，L2明顯大于LI，即將盆架2的開口部的缺口 21設(shè)置于音圈引線51的下方位置，增大了音圈引線51的振動空間，保證產(chǎn)品在較大電壓下工作時，音圈引線51不會觸碰到盆架2。
[0033]參閱圖7所示，外殼I側(cè)部對應(yīng)音圈引線51下方的位置減料設(shè)置，也就是說，該部分的注塑料要少于外殼I其他部分的注塑料，進(jìn)行減薄處理，相較于圖4示出的現(xiàn)有設(shè)計而言，增大了音圈引線51下方至外殼I的距離，即圖7中H所示，同樣的，產(chǎn)品在較大電壓下工作時，可以增大振動空間，避免音圈引線51觸碰到外殼I。
[0034]可以看出，盆架2對應(yīng)音圈引線51下方設(shè)置缺口，外殼I對應(yīng)音圈引線51下方部分減料處理，以上，均可增大產(chǎn)品的振動空間，同時也保證了外殼I結(jié)構(gòu)本身的強度和厚度。
[0035]優(yōu)選的，音圈引線51包括入線端和出線端，盆架2的開口部設(shè)置的兩個缺口 21分別位于入線端和出線端的下方。
[0036]優(yōu)選的，如圖8所示，盆架2的開口部還設(shè)置有另一缺口，并且與音圈引線51下方的兩個缺口呈軸對稱均勻分布，這樣在產(chǎn)品進(jìn)行上料組裝時，可以不用區(qū)分方向，更便于操作。
[0037]優(yōu)選的，盆架2的開口部缺口 21的數(shù)量設(shè)置為三個。
[0038]優(yōu)選的，盆架2呈圓筒狀，磁鐵3和華司4的截面為圓形。
[0039]優(yōu)選的，振膜6中間位置的上側(cè)結(jié)合有補強部7，振膜6下側(cè)固定有支撐振膜6的金屬環(huán)8，振膜6包括邊緣部61和結(jié)合于邊緣部61內(nèi)側(cè)的折環(huán)部62，邊緣部61與金屬環(huán)8對應(yīng)固定。
[0040]優(yōu)選的，華司4上設(shè)置有一對導(dǎo)電件10，導(dǎo)電件10與音圈引線51電性連接，可將其接收到的電流信號傳遞給音圈5。
[0041]優(yōu)選的，外殼I的側(cè)部設(shè)置有發(fā)聲裝置的出聲孔，外殼I對應(yīng)出聲孔的位置覆蓋有阻尼9，可以防塵。
[0042]以上僅為本實用新型實施案例而已，并不用于限制本實用新型，但凡本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)本實用新型所揭示內(nèi)容所作的等效修飾或變化，皆應(yīng)納入權(quán)利要求書中記載的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種發(fā)聲裝置，包括具有內(nèi)腔的外殼、磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)；所述外殼包括底部和側(cè)部；所述磁路系統(tǒng)包括固定于所述外殼底部的盆架以及依次與所述盆架粘結(jié)固定的磁鐵和華司；所述振動系統(tǒng)包括振膜和與所述振膜粘結(jié)固定的音圈；所述音圈包括音圈引線，其特征在于:所述盆架的開口部設(shè)置有去料形成的缺口 ；所述缺口位于所述音圈引線下方的位置，所述音圈引線從所述缺口處穿出；所述外殼側(cè)部對應(yīng)所述音圈引線下方的部分減料設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述音圈引線包括入線端和出線端；所述盆架的開口部設(shè)置有兩個分別位于所述入線端和所述出線端下方的缺口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述盆架的開口部還設(shè)置有另一缺口，并且與所述音圈引線下方的兩個缺口呈軸對稱均勻分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述盆架的開口部缺口的數(shù)量設(shè)置為三個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述外殼注塑成型；所述外殼側(cè)部對應(yīng)所述音圈引線下方的部分的注塑料少于所述外殼側(cè)部其他部分的注塑料。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述盆架呈圓筒狀；所述磁鐵和所述華司的截面為圓形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述振膜中間位置的上側(cè)結(jié)合有補強部；所述振膜下側(cè)固定有支撐所述振膜的金屬環(huán)；所述振膜包括邊緣部和結(jié)合于所述邊緣部內(nèi)側(cè)的折環(huán)部；所述邊緣部與所述金屬環(huán)對應(yīng)固定。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述華司上設(shè)置有一對導(dǎo)電件；所述音圈引線與所述導(dǎo)電件電性連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲裝置，其特征在于:所述外殼的側(cè)部設(shè)置有所述發(fā)聲裝置的出聲孔；所述外殼對應(yīng)所述出聲孔的位置覆蓋有阻尼。
【專利摘要】本實用新型公開了一種發(fā)聲裝置，包括具有內(nèi)腔的外殼、磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)，外殼包括底部和側(cè)部，磁路系統(tǒng)包括固定于外殼底部的盆架以及依次與盆架粘結(jié)固定的磁鐵和華司，振動系統(tǒng)包括振膜和與振膜粘結(jié)固定的音圈，音圈包括音圈引線，盆架的開口部設(shè)置有去料形成的缺口，缺口位于音圈引線下方的位置，音圈引線從缺口處穿出，外殼側(cè)部對應(yīng)音圈引線下方的部分減料設(shè)置。本實用新型的發(fā)聲裝置，可以增大產(chǎn)品的振動空間，保證外殼的強度，同時也便于上料組裝。
【IPC分類】H04R9-02, H04R9-00
【公開號】CN204539453
【申請?zhí)枴緾N201520185457
【發(fā)明人】常秀麗, 張永華, 楊健斌
【申請人】歌爾聲學(xué)股份有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年3月30日