專利名稱：電光學(xué)裝置及其制造方法、制造裝置以及電子機(jī)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及尤其適用于用作攜帶電話等的攜帶機(jī)器、電腦或電視等的顯示器的電光學(xué)裝置、電光學(xué)裝置的制造方法、電光學(xué)裝置的制造裝置以及電子機(jī)器。
背景技術(shù)：
以往，在有機(jī)EL裝置的制造工序中，為了密封有機(jī)EL基板，用粘接劑在有機(jī)EL基板上粘合密封基板。在該密封工序中，為了控制有機(jī)EL基板和密封基板之間的間隙，在粘接劑中混入填縫劑，即使壓接密封基板在填縫劑的直徑以上也要使粘接劑形成的粘接層的厚度不能變小，使粘接層的厚度在所需的一定值以上。并且壓接密封基板并在粘接層有一定量壓碎時(shí)通過紫外線或加熱使粘接劑固化。
以往的這樣用填縫劑控制兩個(gè)基板間隔的方法，即使在液晶面板的制造工序中也使用。
但是，在所述以往的控制兩個(gè)基板間隔的方法中，由于必須在粘接劑中混入填縫劑，所以具有1)由于填縫劑導(dǎo)致制造成本升高，2)填縫劑在噴出粘接劑的噴嘴上堵塞，3)不能準(zhǔn)確控制兩個(gè)基板的間隙等的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于提供能夠準(zhǔn)確控制作為電光學(xué)裝置的構(gòu)成要素的兩個(gè)基板的間隙或者準(zhǔn)確控制粘接兩個(gè)基板的粘接層的厚度的電光學(xué)裝置、電光學(xué)裝置的制造方法、電光學(xué)裝置的制造裝置以及電子機(jī)器。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，為至少設(shè)有第一基板、由粘接于所述第一基板上的透明板狀部件構(gòu)成的第二基板的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板，通過粘接層粘接的同時(shí)，所述第一基板和所述第二基板之間有空洞，在所述空洞內(nèi)設(shè)置用于測(cè)定所述粘接層厚度的測(cè)定面。
根據(jù)這類裝置，在制造該電光學(xué)裝置時(shí)，由于能夠用測(cè)定面測(cè)定粘接第一基板和第二基板的粘接層的厚度，所以可以制造將粘接層的厚度(第一基板和第二基板之間的間隔)設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置。所以，根據(jù)這類類裝置，可以延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，根據(jù)這類裝置，由于不必在形成粘接層的粘接劑中混入填縫劑，所以可以降低對(duì)于填縫劑的制造成本，并可以防止在噴出粘接劑的噴嘴上填縫劑的堵塞。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選在所述測(cè)定面上不附著粘接劑。根據(jù)這類裝置可以利用測(cè)定面準(zhǔn)確地測(cè)定粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選所述測(cè)定面至少作為所述第二基板中的與所述第一基板相對(duì)的面的一部分設(shè)置。
根據(jù)這類裝置，可以利用測(cè)定面測(cè)定第一基板和第二基板之間的間隔，由于由此可以測(cè)定粘接第一基板和第二基板的粘接層的厚度，所以在減少制造成本的同時(shí)可以制造將粘接層的厚度設(shè)定為所需厚的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選具有與所述測(cè)定面相對(duì)的所述第一基板的面的反射率在90％以下的部分。
根據(jù)這類裝置，由于可以利用測(cè)定面反射的光和與該測(cè)定面相對(duì)的第一基板的面上反射的光之間的干涉測(cè)定粘接層的厚度，所以能夠非常精確地測(cè)定粘接層的厚度，從而能夠制造將粘接層的厚度(第一基板和第二基板之間的間隔)準(zhǔn)確設(shè)定為所需厚度的電光學(xué)裝置。所以，根據(jù)這類裝置，可以延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選所述測(cè)定面在相對(duì)于所述粘接層和所述第二基板的粘接面的高度為大致相同高度的位置上設(shè)定。
根據(jù)這類裝置，由于能夠利用測(cè)定面使測(cè)定的間隔(實(shí)際的測(cè)定值)和粘接層的厚度大致相同，所以可以更準(zhǔn)確地測(cè)定粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選粘接面和所述測(cè)定面的高度差在100微米以下。
根據(jù)這類裝置，由于可以利用測(cè)定面使測(cè)定的間隔(實(shí)際的測(cè)定值)和粘接層的厚度之間的差設(shè)置在100微米以下，所以可以準(zhǔn)確地測(cè)定粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選對(duì)所述測(cè)定面進(jìn)行平滑化處理。
根據(jù)這類裝置，由于可以利用測(cè)定面反射的光和與該測(cè)定面相對(duì)的第一基板的面上反射的光之間的干涉測(cè)定粘接層的厚度，所以能夠非常精確地測(cè)定粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選將所述測(cè)定面設(shè)置為所述第二基板中的與所述第一基板相對(duì)的面上設(shè)置的凸?fàn)畈糠值囊徊糠帧?br> 根據(jù)這類裝置，在制造該裝置時(shí)，由于可以防止形成粘接第一基板和第二基板的粘接層的粘接劑侵入測(cè)定面，所以可以利用測(cè)定面準(zhǔn)確地測(cè)定粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選將所述測(cè)定面設(shè)置在4處以上。
根據(jù)這類裝置，在將粘接層配置在第一基板或第二基板的周圍附近等時(shí)，對(duì)于該粘接層的大致整個(gè)范圍可以準(zhǔn)確測(cè)定其厚度，從而可以延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，所述第一基板和所述第二基板設(shè)置為四角形狀，所述測(cè)定面優(yōu)選設(shè)置在所述四角形狀的各個(gè)角上。
根據(jù)這類裝置，粘接層配置在第一基板或者第二基板的周邊附近時(shí)，對(duì)于該粘接層的大致整個(gè)范圍可以準(zhǔn)確測(cè)定其厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置電極和發(fā)光層。
根據(jù)這類裝置，對(duì)于作為電光學(xué)裝置的有機(jī)EL裝置(電致發(fā)光裝置)可以通過第二基板(密封基板)、粘接層以及第一基板精確地密封發(fā)光層(有機(jī)EL元件層)，從而在降低有機(jī)EL裝置的制造成本的同時(shí)，可以延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選在所述空洞內(nèi)至少配置干燥單元或脫氧單元。
根據(jù)這類裝置，可以使空洞內(nèi)長(zhǎng)期保持干燥等，從而可以制造長(zhǎng)期維持穩(wěn)定發(fā)光特性的有機(jī)EL裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置，優(yōu)選所述電光學(xué)裝置設(shè)有形成矩陣狀的多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線、在所述掃描線和數(shù)據(jù)線上連接的開關(guān)單元、連接于所述開關(guān)單元上的象素電極。
根據(jù)這類裝置，將作為電光學(xué)裝置的液晶裝置或有機(jī)EL裝置的構(gòu)成要素作為第一基板和第二基板，通過在該第一基板或第二基板上形成設(shè)置為矩陣狀的多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線、在所述掃描線和數(shù)據(jù)線上連接的開關(guān)單元、連接于所述開關(guān)單元上的象素電極，可以降低液晶裝置或有機(jī)EL裝置的制造成本，同時(shí)能夠延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電子機(jī)器，其特征在于，設(shè)置所述電光學(xué)裝置。
根據(jù)本實(shí)用新型，可以在降低電子機(jī)器的制造成本的同時(shí)延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，是制造所述電光學(xué)裝置時(shí)使用的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，設(shè)有測(cè)定所述粘接層厚度的測(cè)定單元、按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方的壓接單元、根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 根據(jù)這種電光學(xué)裝置的制造裝置，由于可以制造使粘接層的厚度為所需的一定厚度的電光學(xué)裝置，所以在減少制造成本的同時(shí)，能夠制造壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，是制造所述電光學(xué)裝置時(shí)使用的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，設(shè)有將所述第二基板中的與所述第一基板相對(duì)的面的至少一部分作為測(cè)定面，利用該測(cè)定反射的光和與該測(cè)定面相對(duì)的第一基板的面反射的光的干涉測(cè)定所述粘接層厚度的測(cè)定單元；按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方的壓接單元；以及根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造裝置，由于可以制造將粘接層的厚度進(jìn)一步準(zhǔn)確地設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置，所以在降低制造成本的同時(shí)，能夠制造顯示均勻性良好、壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，是制造所述電光學(xué)裝置時(shí)使用的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，設(shè)有利用將顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第一基板的一定面上的狀態(tài)和將所述顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第二基板一定面或所述測(cè)定面的任一面上的狀態(tài)的差測(cè)定所述粘接層的厚度的測(cè)定單元、按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方的壓接單元、以及根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造裝置，由于可以利用顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)準(zhǔn)確測(cè)定粘接層的厚度的同時(shí)進(jìn)行制造，所以可以制造準(zhǔn)確地將粘接層設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置，在降低制造成本的同時(shí)，能夠制造顯示均勻性良好、壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，優(yōu)選在所述第一基板的一定面、所述第二基板的一定面以及所述測(cè)定面中的至少一個(gè)上形成聚合所述焦點(diǎn)時(shí)使用的所需圖形。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造裝置，由于可以容易地將顯微鏡系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在形成圖形的面上，所以更迅速并且準(zhǔn)確地測(cè)定粘接層厚度的同時(shí)進(jìn)行制造。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，優(yōu)選所述測(cè)定單元測(cè)定通過所述壓接單元按壓處附近的所述粘接層的厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造裝置，由于可以更容易地對(duì)粘接層的厚電光學(xué)裝置度進(jìn)行調(diào)整，所以可以制造進(jìn)一步將粘接層的厚度準(zhǔn)確設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造裝置，優(yōu)選所述壓接單元具有多個(gè)按壓地方，所述測(cè)定單元，由測(cè)定通過所述壓接單元按壓的多個(gè)地方的各個(gè)附近的所述粘接劑的厚度的部分構(gòu)成，所述控制器由控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯牟糠謽?gòu)成，以便使通過所述測(cè)定單元測(cè)定的多個(gè)地方的各個(gè)測(cè)定值為所需的值。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造裝置，可以自動(dòng)并且準(zhǔn)確地調(diào)整粘接層的厚度，在降低電光學(xué)裝置的制造成本的同時(shí)，能夠均勻顯示并且延長(zhǎng)制品的壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，是至少設(shè)有第一基板、由粘接于第一基板的透明板狀部件構(gòu)成的第二基板的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，具有至少在所述第一基板和所述第二基板中至少一方上涂敷粘接劑的工序、在所述第一基板上配置所述第二基板以便使涂敷粘接劑的部分被夾持在第一基板和第二基板中形成粘接層的工序、至少按壓所述第一基板和所述第二基板中的一方并在所述第一基板上按壓第二基板的工序、在所述按壓工序中逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，逐次測(cè)定粘接層的厚度，根據(jù)這類測(cè)定值通過控制在第一基板上按壓第二基板的力，可以制造將粘接層的厚度設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置，例如為有機(jī)EL裝置時(shí)，可以制造制品壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置，若為液晶裝置時(shí)，可以制造無顯示沖壓(ram)的電光學(xué)裝置。
另外，根據(jù)這類制造方法，由于在形成粘接層的粘接劑中不必混入填縫劑，所以可以減少制造成本、防止填縫劑堵塞在噴出粘接劑的噴嘴上。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選將所述第二基板中與所述第一基板相對(duì)的面的至少一部作為測(cè)定面并利用該測(cè)定面的反射的光和與該測(cè)定面對(duì)向的所述第一基板的面反射的光的干涉測(cè)定所述粘接層的厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，由于可以制造能夠進(jìn)一步將粘接層的厚度設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置，所以可以在減少制造成本的同時(shí)，制造顯示均勻并且壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選利用將顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第一基板的一定面上的狀態(tài)和將所述顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第二基板一定面上的狀態(tài)的差測(cè)定所述粘接層的厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，由于可以在利用顯微鏡系統(tǒng)準(zhǔn)確測(cè)定粘接層厚度的同時(shí)制造電光學(xué)裝置，所以可以制造將粘接層的厚度進(jìn)設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置，可以在減少制造成本的同時(shí)，制造顯示均勻并且壽命長(zhǎng)的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在所述按壓工序中，將所述粘接層按壓至所需厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，可以制造將粘接層的厚度準(zhǔn)確設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選具有以所述粘接層為一定厚度的狀態(tài)對(duì)所述粘接劑進(jìn)行固化的工序。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，可以制造將粘接層的厚度準(zhǔn)確設(shè)為所需厚度的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在涂敷粘接劑的工序中，作為除去所述測(cè)定面的部位，在所述第一基板和所述第二基板的至少一方中的基板外緣和該基板外緣的周邊部位上涂敷所述粘接劑。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，可以密封所述第一基板、所述第二基板和粘接層包圍的部位，并且可以維持長(zhǎng)期的密封狀態(tài)。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序中，測(cè)定通過按壓工序按壓的地方的附近的所述粘接劑的厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，可以制造能夠?qū)⒄辰訉拥暮穸葴?zhǔn)確設(shè)置為所需厚度的電光學(xué)裝置。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序中，顯示逐次測(cè)定的粘接層的厚度。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，能夠在制造時(shí)確認(rèn)粘接層的厚度。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在所述第二基板上設(shè)置多個(gè)所述測(cè)定面，在所述按壓工序中，按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方中的所述各個(gè)測(cè)定面的附近，以便使所述多個(gè)測(cè)定面的所述粘接層的厚度大致相同。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，在第一基板或第二基板的周邊附近配置粘接層等時(shí)，對(duì)于該粘接層的大致整個(gè)范圍，可以準(zhǔn)確調(diào)整其厚度，并且能夠以均勻的顯示性能延長(zhǎng)其壽命。
另外，本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置的制造方法，優(yōu)選在所述配置工序中，在所述第一基板和所述第二基板中間形成空洞，在該空洞內(nèi)至少設(shè)置干燥單元或脫氧單元中的任何一個(gè)。
根據(jù)這類電光學(xué)裝置的制造方法，可以制造空洞內(nèi)長(zhǎng)期保持干燥的電光學(xué)裝置，可以制造長(zhǎng)期維持穩(wěn)定的發(fā)光特性的有機(jī)EL裝置。


圖1是表示本實(shí)用新型實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的示意剖視圖。
圖2是表示同上的電光學(xué)裝置中測(cè)定面的其它方式的示意剖視圖。
圖3是同上的電光學(xué)裝置中密封基板的俯視圖。
圖4是表示同上的密封基板的其它方式的俯視圖。
圖5是表示本實(shí)用新型實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的制造中第一工序的說明圖。
圖6是同上制造方法中第二～第五工序的說明圖。
圖7是同上制造方法中第六工序的說明圖。
圖8是表示同上的第六工序的其它方式的說明圖。
圖9是表示本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的具體例的示意剖視圖。
圖10是表示有源矩陣型的顯示裝置的電路圖。
圖11是表示設(shè)有本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的電子機(jī)器的一例的圖。
圖12是表示設(shè)有本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的電子機(jī)器的一例的圖。
圖13是表示設(shè)有本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的電子機(jī)器的一例的圖。
圖中1、1’密封基板，2干燥劑，3粘接層，4有機(jī)EL元件層，5基板，6、6’測(cè)定面，7粘接面，8锪孔，21分配器，22粘接劑，23氣體出口，30光干涉膜厚計(jì)，31壓接裝置，32控制器，33底板，33’透明底板，34紫外線照射裝置，35光纖維，36掩模，37紫外線。
具體實(shí)施方式
以下對(duì)于本實(shí)用新型的電光學(xué)裝置和其制造方法，參照?qǐng)D1～8進(jìn)行說明。在本實(shí)施方式中，作為電光學(xué)裝置舉例說明了有機(jī)EL裝置，但是本實(shí)用新型并不限于這些，在液晶裝置中也可以適用本實(shí)用新型。
(電光學(xué)裝置的構(gòu)成)圖1是表示本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的示意剖視圖。
本電光學(xué)裝置，是形成有機(jī)EL裝置的裝置，具有由透明板狀部件構(gòu)成的密封基板1(第二基板)、通過密封基板1密封一面?zhèn)鹊幕?(第一基板)。這里在基板5上形成含有透明基板、有機(jī)EL裝置和對(duì)向電極(反射性電極)的有機(jī)EL元件層4。并且有機(jī)EL元件層4通過密封基板1密封。另外密封基板1和基板5通過使粘接劑固化并形成的粘接層3粘合。
另外，在密封基板1上形成多個(gè)由凸?fàn)畹耐欢嗣鏄?gòu)成的測(cè)定面6。測(cè)定面6，作為以基板5的上面為基準(zhǔn)的高度，在與作為密封基板1和粘接層3的粘接面的粘接面7的高度大致相同的高度上與該基板5的上面平行地形成。測(cè)定面6用于測(cè)定粘接層3的厚度(換言之密封基板1和基板5的間隔)。
作為測(cè)定面6，如圖2所示的測(cè)定面6’那樣，以相對(duì)于粘接面7的高度與僅相差所需值T的高度即密封基板1的上面或底面為基準(zhǔn)，可以在與粘接面7的高度僅相差所需值T的高度上形成。這樣，粘接層3的厚度就成為從基板5的上面和測(cè)定面6之間的距離(測(cè)定值)中僅減去(或者加上)所需值T的值。
這里。所需值T，優(yōu)選在100μm以下。這是由于，粘接層3的厚度通常為5μm左右，通過測(cè)定測(cè)定面6、6’和與測(cè)定面6、6’相對(duì)的基板5的面a之間的間隔，測(cè)定該粘接層3的厚度并對(duì)粘接層3的厚度進(jìn)行調(diào)整的緣故。即，由于若將所需值T設(shè)置為與粘接層3的厚度差異過大，就難于準(zhǔn)確測(cè)定粘接層3的厚度。
粘接層3的厚度，如后述制造方法的具體說明的那樣，從密封基板1側(cè)或基板5側(cè)通過放射一定測(cè)定光的光干涉膜厚計(jì)進(jìn)行測(cè)定。
另外，密封基板1和基板5，在密封基板1和基板5之間(具體地說在基板5的有機(jī)EL元件層4的陰極上)形成空洞并粘接。并且，在該空洞內(nèi)設(shè)置測(cè)定面6。在這里優(yōu)選在從空洞內(nèi)的基板5的有機(jī)EL元件層4隔離的位置上配置干燥劑(干燥單元)3。在本實(shí)施方式中，在密封基板1的空洞側(cè)面上粘合干燥劑3。作為干燥劑3例如可以使用固形平型干燥劑，通過粘接劑、粘附劑或者兩面膠固定在密封基板1上。在空洞內(nèi)可以配置脫氧劑(脫氧單元)來代替干燥劑3。另外，可以同時(shí)配置干燥劑3和脫氧劑。
在形成粘接層3的粘接劑中，可以使用熱固化型或者紫外線固化型的粘接劑，但是，由于在調(diào)整粘接層3的厚度的同時(shí)，在壓合密封基板和基板5時(shí)不設(shè)置間隙使固化至所需的厚度，所以優(yōu)選紫外線固化型的粘接劑。作為有機(jī)EL元件層4，可以使用低分子EL或者高分子EL的任何一個(gè)?；?，只要是透明的部件就可以，不僅限于玻璃也可以使用塑料等。
圖3是表示密封基板1的俯視圖。如該圖所示，密封基板1形成長(zhǎng)方形，測(cè)定面6分別在密封基板1的四角各配置1個(gè)。另外，锪孔面8，為在密封基板1中使密封基板1的一面上的周邊附近設(shè)置的年粘接面7和測(cè)定面6剩下的切下面。
圖4是其它方式的密封基板1’的俯視圖。在密封基板1’中，對(duì)于粘接層3的厚度調(diào)整，為提高精度，在密封基板1的四角和密封基板1的各邊上分別配置一個(gè)測(cè)定面6。
與圖1所示的有機(jī)EL裝置中測(cè)定面6’相對(duì)的基板5的面a的部位，優(yōu)選反射率在90％以下。這是由于，若基板5的面a的反射率超過90％，在由光干涉膜厚計(jì)反射的光中基板5的面a反射的光的量與測(cè)定面6的反射光的量相比變得過大，從而難于通過光干涉膜厚計(jì)測(cè)定的緣故。
所以，例如，作為基板5使用玻璃基板，在與基板5中測(cè)定面6相對(duì)的部分的面a上預(yù)先形成ITO(銦錫氧化物)。
另外，通過鏡面處理測(cè)定面6，優(yōu)選將由密封基板1觀察到的測(cè)定面6中的反射率設(shè)定為30％左右。
由此，可以通過光干涉膜厚計(jì)測(cè)定密封基板1的測(cè)定面6和設(shè)有有機(jī)EL元件層4的基板5的面a之間的間隙距離。
作為比較，取代ITO，若使鋁(例如反射率為96％)在基板5的面a的部分的玻璃基板上制膜，光干涉被埋在反射中，而不能很好地進(jìn)行測(cè)定。
作為電光學(xué)裝置，舉出了有機(jī)EL裝置的示例，但是本構(gòu)成即使在液晶裝置中也可以適用。若為液晶裝置，在第一基板和第二基板之間封入液晶。
(電光學(xué)裝置的制造方法)以下對(duì)所述有機(jī)EL裝置的制造方法進(jìn)行說明。
本制造方法由涂敷粘接劑的第一工序、定位基板的第二工序、按壓基板的第三工序、測(cè)定粘接層3的厚度的第四工序、控制按壓基板的量的第五工序、以及使粘接劑固化的第六工序構(gòu)成。
圖5是第一工序的說明圖，圖6是第二～第五工序的說明圖，圖7和圖8是第六工序的說明圖。
在第一工序中，在除去形成有機(jī)EL元件層4的基板5或者密封基板1中的測(cè)定面后的基板周邊部(圖3或圖4的粘接面7的部位)上，涂敷粘接劑。對(duì)于該第一工序的具體示例參照?qǐng)D5進(jìn)行說明。
首先，如圖5所示，將形成有機(jī)EL元件層4的基板5在惰性氣氛中(例如氮?dú)?移送，在惰性氣氛中，利用分配器21在基板5上涂敷紫外線固化型的粘接劑22。對(duì)于涂敷粘接劑22的圖形，在粘合基板5和密封基板1時(shí)，必須預(yù)先空出用于使內(nèi)部氣體放出的氣體出口23。
另外，也可以不在基板5上而是在基板1的粘接面7上涂敷粘接劑22。另外，作為粘接劑22，也可以使用熱固化型的粘接劑。
在第二工序中，在基板5上定位密封基板1。即，在第二工序中，相對(duì)于基板5配置密封基板1以便使涂敷粘接劑22的部位被基板5和密封基板1夾持并形成粘接層3。具體地說，如圖6所示，在底板13上配置基板5，將設(shè)置干燥劑2的密封基板1定位在基板5的一定部位上。
在第三工序中，通過按壓密封基板1或基板5，在基板5上壓接密封基板1。例如如圖6所示，通過構(gòu)成壓接裝置11的操作器，將密封基板1向基板5方向按壓。這里壓接裝置11的按壓的地方為多個(gè)，優(yōu)選在粘接層3的附近以一定的間隔配置。這是由于，對(duì)于粘接層3的整個(gè)部位，使容易對(duì)用于將厚度均勻設(shè)置為所需的一定厚度進(jìn)行控制的緣故。
在第四工序中，在施加第三工序的按壓期間，逐次地通過光干涉膜厚計(jì)30測(cè)定粘接層3的厚度(膜厚)。這里，光干涉膜厚計(jì)30，如所述，測(cè)定測(cè)定面6和與測(cè)定面6相對(duì)的基板5的面a(參照?qǐng)D1)之間的間隔。所以，測(cè)定面6如圖3、4所示在設(shè)置多個(gè)時(shí)，對(duì)于該各個(gè)測(cè)定面6，可通過光干涉膜厚計(jì)30測(cè)定。
作為測(cè)定粘接層3的膜厚的單元，也可以用顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)來代替光干涉膜厚計(jì)30。具體地說，比較在基板5的表面上聚合焦點(diǎn)時(shí)的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的透鏡等的位置(第一位置)和在密封基板的測(cè)定面6上聚合焦點(diǎn)時(shí)的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的透鏡等的位置(第二位置)，測(cè)定第一位置和第二位置的差，根據(jù)這類差測(cè)定粘接層3的膜厚。在這里為了聚合顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)，在測(cè)定面6和基板5的表面上預(yù)先形成某些圖形。另外，也可以不直接測(cè)定顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的透鏡等的位置，而通過測(cè)定使顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)變化的旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)量等，測(cè)定第一位置和第二位置。
另外，在第四工序和第五工序中，優(yōu)選逐次顯示測(cè)定的粘接層3的膜厚。由此，在制造過程中，由于可以確認(rèn)粘接層3的膜厚，所以在制造初期階段中在能夠容易調(diào)整制造裝置的同時(shí)，可以減少次品的產(chǎn)生。
在第五工序中，根據(jù)以第四工序檢出的粘接層3的膜厚的測(cè)定，控制第三工序的按壓量并使粘接層3作為膜厚。具體地說，控制器32逐次讀取光干涉膜厚計(jì)30的測(cè)定值，對(duì)于該測(cè)定值(粘接層的膜厚)比所需的膜厚(例如5μm)厚的地方，控制其附近的壓接裝置31使進(jìn)一步壓接。即，控制器32驅(qū)動(dòng)沒有形成其膜厚的部位附近的壓接裝置，使整個(gè)光干涉膜厚計(jì)30的測(cè)定值達(dá)到所需的膜厚。
光干涉膜厚計(jì)30的配置，不限于密封基板1側(cè)，也可以在基板5側(cè)。另外，壓接裝置31的配置也不限于密封基板1側(cè)，也可以在基板5側(cè)。
在第六工序中，以通過第五工序使粘接層3成為所需膜厚的狀態(tài)，使粘接劑22固化。為了使粘接劑22固化，如圖7所示，在粘接劑22上照射由紫外線照射裝置34放射的紫外線。在這里，由紫外線照射裝置34放射的紫外線，通過光纖維35傳導(dǎo)并傳導(dǎo)至形成粘接層3的粘接劑22上。
另外，作為第六工序，如圖8所示，可以在透明底板33’上載置基板5，以通過掩模保護(hù)有機(jī)EL元件層(例如象素區(qū)域)的狀態(tài)，由基板5的底面?zhèn)?透明底板33’側(cè))照射紫外線37并使形成粘接層3的粘接劑22固化。
作為形成粘接層3的粘接劑22使用熱固化型粘接劑時(shí)，以通過壓接裝置31按壓密封基板1或基板5的狀態(tài)，放置至粘接劑22固化。
(電光學(xué)裝置的具體例)以下，參照?qǐng)D9對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施方式的具體例中的電光學(xué)裝置進(jìn)行說明。圖9是表示作為本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的有機(jī)EL裝置的一例的剖視圖。
在圖9中，有機(jī)EL裝置50設(shè)有能夠透過光的基板(光透過層，相當(dāng)于圖1的基板5)52；由設(shè)置于基板52的一面?zhèn)鹊囊粚?duì)陰極(電極)57和陽極(電極)58夾持的有機(jī)電致發(fā)光材料構(gòu)成的發(fā)光層55、和空穴輸送層56構(gòu)成的有機(jī)EL元件(發(fā)光元件、相當(dāng)于圖1的有機(jī)EL元件層)59；以及密封基板320(相當(dāng)于圖1密封基板1)。
另外，在密封基板320上，與圖1的密封基板1相同，設(shè)置測(cè)定面6。并且，密封基板320和基板52上的陽極58通過粘接層3粘接，通過密封基板320和粘接層3封閉有機(jī)EL元件59。
這里如圖9所示的有機(jī)EL裝置50，是將來自發(fā)光層55的發(fā)光由基板52側(cè)向裝置外側(cè)取出的方式。
所以，在制造有機(jī)EL裝置50時(shí)，光干涉膜計(jì)30(參照?qǐng)D6)，并不限于密封基板320側(cè)，也可以配置在基板52側(cè)。即可以從基板52側(cè)向測(cè)定面6放射光干涉膜厚計(jì)30的測(cè)定光測(cè)定粘接層3的膜厚。
作為基板52的形成材料，可以舉出能夠透過光的透明或半透明的材料，例如，透明的玻璃、石英、藍(lán)寶石、或者聚酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚醚酮等透明的合成樹脂等。作為基板52的形成材料，尤其優(yōu)選使用廉價(jià)的玻璃。
另一方面，若為從與基板52相反側(cè)(密封基板320側(cè))取出發(fā)光的方式時(shí)，基板52可以為不透明，此時(shí)可以使用在氧化鋁等的陶瓷、不銹鋼、硅等的金屬薄板上實(shí)施表面氧化等的絕緣處理后的物質(zhì)、熱固化性樹脂、熱塑性樹脂等。
陽極58，為由銦錫氧化物(ITOIndium Tin Oxide)等構(gòu)成的透明電極，可以透過光?？昭ㄝ斔蛯?6例如由三苯胺衍生物(TPD)、吡唑啉衍生物、芳胺衍生物、1，2-二苯乙烯衍生物、三苯基二胺衍生物等構(gòu)成。具體地說，示例了在特開昭63-70257號(hào)、同63-175860號(hào)公報(bào)、特開平2-135359號(hào)、同2-135361號(hào)、同2-209988號(hào)、同3-37992號(hào)、同3-152184號(hào)公報(bào)中公開的例子等，但是，優(yōu)選三苯基二胺衍生物，其中優(yōu)選4，4’-雙[N(3-甲苯基)-N-苯基氨基]聯(lián)苯。
另外，也可以形成空穴注入層來代替空穴輸送層，進(jìn)而也可以同時(shí)形成空穴注入層和空穴輸送層。此時(shí)，作為空穴注入層的形成材料，例如可以舉出銅酞花青染料(CuPc)、作為聚四氫硫代苯基次苯的聚苯乙烯撐、1，1-雙(4-N，N-二甲苯基氨基苯基)環(huán)己烷、三(8-羥基喹啉酚)鋁等，但是尤其優(yōu)選使用銅酞花青染料(CuPc)。作為高分子類的空穴注入層的形成材料，例如優(yōu)選使用PEDOT(聚乙烯二氧噻酚)、PSS(聚苯乙烯磺酸)、聚噻酚、聚吡咯、據(jù)苯胺、以及它們的衍生物。
作為發(fā)光層55的形成材料，可以使用低分子的有機(jī)發(fā)光色素或高分子發(fā)光體、即各種熒光物質(zhì)或磷光物質(zhì)等的發(fā)光物質(zhì)、Alq3(鋁配位化合物)等的有機(jī)電致發(fā)光材料。在形成發(fā)光物質(zhì)的共軛類高分子中，特別優(yōu)選含有芳烯亞乙烯基或者聚四氯乙烯結(jié)構(gòu)的物質(zhì)等。在低分子發(fā)光體中，可以使用萘衍生物；蒽衍生物；二萘嵌苯衍生物；聚甲炔類、呫噸類、香豆素類、喹啉蘭等的色素類；8-氫喹啉和其衍生物的配位化合物；芳胺、四苯基環(huán)戊二烯衍生物等；以及特開昭57-51781、同59-194393號(hào)公報(bào)中公開的已知的物質(zhì)。陰極7優(yōu)選由鈣(Ca)、鋁(Al)、鎂(Mg)、金(Au)、銀(Ag)等構(gòu)成的金屬電極。
另外，在陰極57和發(fā)光層55之間，可以設(shè)置電子輸送層或者電子注入層。作為電子輸入層的形成材料，沒有特別限定，示例了噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷和其衍生物、苯醌和其衍生物、萘醌和其衍生物、蒽醌和其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷和其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯和其衍生物、聯(lián)對(duì)苯醌衍生物、8-羥基喹啉和其衍生物的金屬配位化合物等。具體地說，與以前的空穴輸送層的形成材料相同，示例了特開昭63-70257號(hào)、同63-175860號(hào)公報(bào)、特開平2-135359號(hào)、同2-135361號(hào)、同2-209988號(hào)、同3-37992號(hào)、同3-152184號(hào)公報(bào)中公開的例子等，優(yōu)選三苯基二胺衍生物，特別優(yōu)選2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、苯醌、蒽醌、三(8-喹啉酚)鋁。
雖然未圖示，本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置50為有源矩陣型，實(shí)際上多個(gè)數(shù)據(jù)線和多個(gè)掃描線在基板52上配置為格子狀。并且在數(shù)據(jù)線或者掃描線中被區(qū)劃的配置為矩陣狀的各個(gè)象素，以往，通過開關(guān)晶體管或者驅(qū)動(dòng)晶體管等的驅(qū)動(dòng)用TFT連接所述的有機(jī)EL元件59。并且，一旦通過數(shù)據(jù)線或掃描線供給驅(qū)動(dòng)信號(hào)，在電極間流入電流，有機(jī)EL元件59的發(fā)光層55發(fā)光在基板52地外面?zhèn)壬仙涑龉猓湎笏攸c(diǎn)燈。
本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置50，如所述，由于能夠?qū)⒄辰訉?均勻設(shè)為所需的厚度，所以制品的壽命延長(zhǎng)，并且維持長(zhǎng)期的穩(wěn)定發(fā)光特性(顯示特性)。另外，通過所述實(shí)施方式的制造方法，與以往相比可以降低制造成本。
圖10是表示使本實(shí)施方式的電光學(xué)裝置適用于利用有機(jī)電致發(fā)光元件的有源矩陣型的顯示裝置(電光學(xué)裝置)時(shí)的一例的圖。
圖10中的有機(jī)EL裝置S1，相當(dāng)于圖1中的基板5上形成的有機(jī)EL元件層4，如電路圖圖10所示，其構(gòu)成為在基板上布線多條掃描線131、在相對(duì)于這些掃描線131交叉方向上延伸的多條信號(hào)線132、在這些信號(hào)線132上并列延伸的多條共用送電線133，在每個(gè)掃描線131和信號(hào)線132的各個(gè)交點(diǎn)上設(shè)置象素(象素區(qū)域素)AR。
對(duì)于信號(hào)線132，設(shè)置具有移位寄存器、電平移位器、視頻線路、模擬開關(guān)的數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路390。
另一方面，對(duì)于掃描線131，設(shè)置具有移位寄存器和電平移位器的掃描線驅(qū)動(dòng)電路380。另外，在各個(gè)象素區(qū)域AR上設(shè)置，通過掃描線131向柵電極供給掃描信號(hào)的第一晶體管322、通過該第一晶體管322保持由信號(hào)線132供給的圖像信號(hào)的保持電容cap、使通過保持電容cap保持的圖像信號(hào)向柵電極供給的第二晶體管324、通過該第二晶體管324在共用送電線133上電連接時(shí)由共用送電線133流入驅(qū)動(dòng)電流的象素電極323、在該象素電極(陽極)323和對(duì)向電極(陰極)222之間夾持的發(fā)光部(發(fā)光層)360。
在這種構(gòu)成下，一旦掃描線131被驅(qū)動(dòng)并且第一晶體管322接通，此時(shí)的信號(hào)線132的電位保持為保持電容cap，根據(jù)這類保持電容cap的狀態(tài)，決定第二晶體管324的導(dǎo)通狀態(tài)。另外，通過第二晶體管324的通道電流從共用送電線133向象素電極323流入，進(jìn)而通過發(fā)光層360向?qū)ο螂姌O222流入，由此，發(fā)光層360根據(jù)流入的電流量而發(fā)光。
(電子機(jī)器)對(duì)于具有所述實(shí)施方式的電光學(xué)裝置的電子機(jī)器的例子進(jìn)行說明。
圖11是表示攜帶電話中一例的立體圖。在圖11中符號(hào)1000表示攜帶電話，符號(hào)1101表示利用所述電光學(xué)裝置的顯示部。
圖12是表示手表型電子機(jī)器的一例的立體圖。在圖12中符號(hào)1100表示手表的主體，符號(hào)1101表示利用所述電光學(xué)裝置的顯示部。
圖13是表示文字處理機(jī)、電腦等攜帶型信息處理裝置中一例的立體圖。在圖13中符號(hào)1200表示信息處理裝置，符號(hào)1202表示鍵盤等的輸入部，符號(hào)1204表示信息處理裝置的主體，符號(hào)1206表示利用所述電光學(xué)裝置的顯示部。
圖11～圖13所示的電子機(jī)器，由于具有所述實(shí)施方式的電光學(xué)裝置，所以可以延長(zhǎng)制品的壽命，并且能夠長(zhǎng)期維持穩(wěn)定的發(fā)光特性(顯示特性)。另外，根據(jù)本實(shí)施方式的制造方法，與以往相比可以減少制造成本。
另外本實(shí)用新型的技術(shù)范圍，并不限于所述實(shí)施方式，在不脫離本實(shí)用新型宗旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更，以實(shí)施方式舉出的具體材料或?qū)訕?gòu)成等只是其中一例，可以進(jìn)行適宜地變更。
根據(jù)以上說明，可以清楚地看出，根據(jù)本實(shí)用新型，可以準(zhǔn)確地控制作為電光學(xué)裝置的構(gòu)成要素的兩個(gè)基板之間的間隙、或者粘接2個(gè)基板的粘接層的厚度。
權(quán)利要求1.一種電光學(xué)裝置，至少具有第一基板、由粘接于所述第一基板上的板狀部件構(gòu)成的第二基板，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板通過粘接層粘接，同時(shí)所述第一基板和所述第二基板之間具有空洞，在所述空洞中設(shè)置用于測(cè)定所述粘接層厚度的測(cè)定面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，在所述測(cè)定面上不附著粘接劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述測(cè)定面，至少作為所述第二基板中與所述第一基板相對(duì)的面的一部分設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，與所述測(cè)定面相對(duì)的所述第一基板的面，具有反射率在90％以下的部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述測(cè)定面，在相對(duì)于所述粘接層和所述第二基板的粘接面的高度呈大致相同高度的位置上設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述粘接面和所述測(cè)定面的高度的差在100微米以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述測(cè)定面進(jìn)行平滑化處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述測(cè)定面，設(shè)置為在所述第二基板中與所述第一基板相對(duì)的面上設(shè)置的凸?fàn)畈课坏囊徊糠帧?br> 9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述測(cè)定面設(shè)置4處以上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板設(shè)為四角形狀，所述測(cè)定面分別設(shè)置在所述四角形狀的各個(gè)角上。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)有電極和發(fā)光層。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，在所述空洞內(nèi)，至少設(shè)置干燥單元或脫氧單元中的任何一個(gè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置，其特征在于，所述電光學(xué)裝置具有形成為矩陣狀的多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線、在所述掃描線和數(shù)據(jù)線上連接的開關(guān)單元、在所述開關(guān)單元上連接的象素電極。
14.一種電子機(jī)器，其特征在于，設(shè)有權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置。
15.一種電光學(xué)裝置的制造裝置，是在制造權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置時(shí)使用的裝置，其特征在于，設(shè)有測(cè)定所述粘接層的厚度的測(cè)定單元、至少按壓所述第一基板和所述第二基板中一方的壓接單元、根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 16.一種電光學(xué)裝置的制造裝置，是在制造權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置時(shí)使用的裝置，其特征在于，設(shè)有將所述第二基板中的與所述第一基板相對(duì)的面的至少一部分作為測(cè)定面并利用該測(cè)定反射的光和與該測(cè)定面相對(duì)的第一基板的面反射的光的干涉測(cè)定所述粘接層厚度的測(cè)定單元、按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方的壓接單元、以及根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 17.一種電光學(xué)裝置的制造裝置，是在制造權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置時(shí)使用的裝置，其特征在于，設(shè)有利用將顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第一基板的一定面上的狀態(tài)和將所述顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第二基板一定面或所述測(cè)定面的任一面上的狀態(tài)的差測(cè)定所述粘接層的厚度的測(cè)定單元、按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方的壓接單元、以及根據(jù)所述測(cè)定單元測(cè)定的結(jié)果控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯目刂破鳌?br> 18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，在所述第一基板的一定面、所述第二基板的一定面以及所述測(cè)定面中的至少一個(gè)上形成聚合所述焦點(diǎn)時(shí)使用的所需圖形。
19.根據(jù)權(quán)利要求15～18中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，所述測(cè)定單元由通過所述壓接單元按壓處附近的所述粘接層的厚度的測(cè)定單元構(gòu)成。
20.根據(jù)權(quán)利要求15～19中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造裝置，其特征在于，所述壓接單元是按壓多處的單元，所述測(cè)定單元，由測(cè)定通過所述壓接單元按壓的多個(gè)地方的各個(gè)附近的所述粘接劑的厚度的部分構(gòu)成，所述控制器由控制所述壓接單元?jiǎng)幼鞯牟糠謽?gòu)成，以便使通過所述測(cè)定單元測(cè)定的多個(gè)地方的各個(gè)測(cè)定值為所需的值。
21.一種電光學(xué)裝置的制造方法，是至少設(shè)有第一基板、由粘接于第一基板的透明板狀部件構(gòu)成的第二基板的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，設(shè)有至少在所述第一基板和所述第二基板中至少一方上涂敷粘接劑的工序、在所述第一基板上配置所述第二基板以便使涂敷粘接劑的部分被夾持在第一基板和第二基板中形成粘接層的工序、至少按壓所述第一基板和所述第二基板中的一方并在所述第一基板上按壓第二基板的工序、在所述按壓工序中逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，所述第二基板中與所述第一基板相對(duì)的面的至少一部作為測(cè)定面并利用該測(cè)定面的反射的光和與該測(cè)定面對(duì)向的所述第一基板的面反射的光的干涉測(cè)定所述粘接層的厚度。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，利用將顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第一基板的一定面上的狀態(tài)和將所述顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)的焦點(diǎn)聚合在所述第二基板一定面上的狀態(tài)的差測(cè)定所述粘接層的厚度。
24.根據(jù)權(quán)利要求21～23中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在所述按壓工序中，將所述粘接層按壓至所需厚度。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，具有以所述粘接層為一定厚度的狀態(tài)對(duì)所述粘接劑進(jìn)行固化的工序。
26.根據(jù)權(quán)利要求21～25中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在涂敷所述粘接劑的工序中，作為除去所述測(cè)定面的部位，在所述第一基板和所述第二基板的至少一方中的基板外緣和該基板外緣的周邊部位上涂敷所述粘接劑。
27.根據(jù)權(quán)利要求21～26中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序中，測(cè)定通過按壓工序按壓的地方的附近的所述粘接劑的厚度。
28.根據(jù)權(quán)利要求21～27中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在逐次測(cè)定所述粘接層的厚度的工序中，顯示逐次測(cè)定的粘接層的厚度。
29.根據(jù)權(quán)利要求21～28中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在所述第二基板上設(shè)置多個(gè)所述測(cè)定面，在所述按壓工序中，按壓所述第一基板和所述第二基板中至少一方中的所述各個(gè)測(cè)定面的附近，以便使所述多個(gè)測(cè)定面的所述粘接層的厚度大致相同。
30.根據(jù)權(quán)利要求21～29中任一項(xiàng)所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在所述配置工序中，在所述第一基板和所述第二基板中間形成空洞，在該空洞內(nèi)至少設(shè)置干燥單元或脫氧單元中的任何一個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型提供能夠準(zhǔn)確控制作為電光學(xué)裝置的構(gòu)成要素的兩個(gè)基板的間隙或者準(zhǔn)確控制粘接兩個(gè)基板的粘接層的厚度的電光學(xué)裝置、電光學(xué)裝置的制造方法、電光學(xué)裝置的制造裝置以及電子機(jī)器。一種至少具有基板(5)和粘接于基板(5)上的由透明板狀部件構(gòu)成的密封基板(1)的電光學(xué)裝置，基板(5)和基板(1)通過粘接層(3)粘接，同時(shí)在基板(5)和基板(1)之間具有空洞，在空洞內(nèi)設(shè)置用于測(cè)定粘接層(3)厚度的測(cè)定面(6)，在測(cè)定面(6)上不附著粘接劑。
文檔編號(hào)H05B33/10GK2624577SQ03241599
公開日2004年7月7日 申請(qǐng)日期2003年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月10日
發(fā)明者小林英和 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社