專利名稱：一種低反射阻燃吸波體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于電波暗室吸收電磁波的吸波體，具體地是指一種具有低反射且阻燃的吸波體。
背景技術(shù)：
電波暗室常用的吸波體是采用在聚氨酯泡沫材料上浸有吸波劑制成的，經(jīng)過多年的發(fā)展，這種吸波技術(shù)已經(jīng)非常成熟，電性能很高，反射率可達-60dB以下，但是，聚氨酯泡沫吸波體的防火性能較差，國內(nèi)時有電波暗室火災事故發(fā)生。
現(xiàn)在市場上銷售的用無紡布加工制作的吸波體，該吸波體由角錐形基體和基座組成，其基體內(nèi)有支撐，其基座為一空腔。該吸波體的反射率僅為-50dB。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是公開一種具有低反射且阻燃的吸波體。
本實用新型的一種具有低反射且阻燃的吸波體，該吸波體涂覆有吸波劑，由無紡布材料加工成的角錐形基體和玻璃鋼材料加工成的基座構(gòu)成，其基座為三角形腔室。三角形腔室基座的C到AB的距離大于最大使用的波長λ，∠ACB＝30°～120°，反射率為-55dB。
本實用新型的吸波體同現(xiàn)有的吸波體相比具有突出的阻燃作用，同時加工制作簡單，成本低廉，其反射率為-55dB。


圖1是現(xiàn)有的吸波體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實用新型吸波體的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本實用新型三角形腔室基座的關(guān)系示意圖。
圖中1.角錐形基體 2.基座 3.空腔 4.三角形腔室具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明。
請參見圖1所示，該結(jié)構(gòu)的吸波體為無紡布材料加工成型的一體結(jié)構(gòu)的吸波體，在吸波體的表面浸有吸波劑。由角錐形的基體1和空腔的基座2構(gòu)成。
吸波體的基座是用于固緊該吸波體于固定面用的，其基座的結(jié)構(gòu)同吸收電磁波的關(guān)系較為密切。
請參見圖2所示，一種具有低反射且阻燃的吸波體，該吸波體涂覆有吸波劑，其采用無紡布材料加工成角錐形基體1，采用玻璃鋼加工成三角形腔室基座2，所采用的材料具有阻燃的特點。其基座2的三角形腔室4結(jié)構(gòu)(請參見圖3所示)的C到AB的距離b大于最大使用的波長λ，其∠ACB＝30°～120°，在∠ACB＝60°時的反射率為-55dB。
權(quán)利要求1.一種具有低反射阻燃的吸波體，該吸波體涂覆有吸波劑，由角錐形基體和基座構(gòu)成，其特征在于所述的角錐形基體為無紡布，所述的基座為三角形腔室的玻璃鋼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波體，其特征在于所述的三角形腔室基座的∠ACB＝30°～120°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波體，其特征在于所述的三角形腔室基座的C到AB的距離b大于最大使用的波長λ。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸波體，其特征在于反射率為-55dB。
專利摘要本實用新型公開了一種具有低反射且阻燃的吸波體，該吸波體涂覆有吸波劑，由無紡布材料加工成的角錐形基體和玻璃鋼材料加工成的基座構(gòu)成，其基座為三角形腔室。三角形腔室基座的C到AB的距離大于最大使用的波長λ，∠ACB＝30°～120°，反射率為－55dB。
文檔編號G12B17/02GK2689403SQ200420048580
公開日2005年3月30日 申請日期2004年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月19日
發(fā)明者趙京城, 王振榮 申請人:北京航空航天大學