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一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):8016884閱讀:554來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),特別是涉及一種錫爐噴嘴從多噴孔噴嘴改變?yōu)殚L(zhǎng)條噴孔噴嘴的錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的電路板焊錫作業(yè)是利用泵將錫爐內(nèi)的熔錫由噴嘴涌出形成錫波,使得電路板通過(guò)錫波時(shí),芯片接腳處的插孔會(huì)填錫而形成焊點(diǎn)。而最常見(jiàn)的噴嘴結(jié)構(gòu)是在錫爐上形成兩片回流擋片,并由其中涌出熔錫。此種噴嘴結(jié)構(gòu)是針對(duì)單面電路板的焊錫作業(yè)而設(shè)計(jì)的。
如圖1、圖2及圖3所示,對(duì)于雙面電路板的焊錫作業(yè)則在錫爐上方形成一矩陣式噴嘴結(jié)構(gòu),此噴嘴結(jié)構(gòu)在錫爐上方的錫爐壁7頂合并中間裝設(shè)有一矩形噴嘴1,該噴嘴1是塊狀。在該噴嘴1上設(shè)有多個(gè)噴孔2,以三個(gè)較小噴孔2一排與一個(gè)較大噴孔3一排的方式均勻地分布排列在噴嘴1上,而噴嘴1底端面4則設(shè)有一凹槽結(jié)構(gòu)5,可供熔錫6經(jīng)凹槽5由多噴孔2、3噴出。
由于噴出的熔錫量一定,所以適合雙面電路板的焊錫作業(yè)。因?yàn)閲娍组g有適當(dāng)?shù)拈g距,且排排噴孔間也有不同的噴孔面積分布,熔錫涌出噴孔時(shí),會(huì)形成連續(xù)性的波峰與波谷,如圖3所示。
當(dāng)電路板經(jīng)過(guò)沾錫時(shí),會(huì)發(fā)生所謂的電路板陰影效果問(wèn)題,也即涌錫的波峰容易使電路板沾錫,而涌錫波谷則不容易使電路板沾錫,造成沾錫不良的現(xiàn)象,這就是電路板陰影效果問(wèn)題。多噴孔噴嘴經(jīng)使用一段時(shí)間也會(huì)發(fā)生噴孔堵塞的情形,因此其維護(hù)成本高。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),避免焊錫不良,解決焊錫堵塞噴孔與電路板陰影效果問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),于一錫爐上方形成一噴嘴,其特點(diǎn)在于,所述噴嘴具有一長(zhǎng)條噴孔,且在所述噴嘴的底端面且位于所述長(zhǎng)條噴孔下方兩側(cè)處設(shè)有一長(zhǎng)條狀的凹槽。
上述錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),其特點(diǎn)在于,所述長(zhǎng)條噴孔的正下方設(shè)有一溝槽。
上述錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),其特點(diǎn)在于,所述凹槽與所述溝槽間具有一平面,且所述平面的水平位置位于所述噴嘴頂端面與所述底端面的水平位置間。
本實(shí)用新型的功效,在于使得熔錫噴出噴孔可產(chǎn)生擺動(dòng)擾流波面,且在波面頂端不會(huì)形成有波峰與波谷的現(xiàn)象,可有效解決沾錫不良,焊錫堵塞噴孔與電路板陰影效益的問(wèn)題,
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述,但不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。


圖1為傳統(tǒng)錫爐噴嘴的立體示意圖;圖2為傳統(tǒng)錫爐噴嘴的剖面示意圖;圖3為傳統(tǒng)錫爐噴嘴噴出熔錫的示意圖;圖4為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施例立體示意圖;圖5為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施例剖面示意圖;圖6為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施例底端面示意圖;圖7為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第二實(shí)施例底端面示意圖;及圖8為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)噴出熔錫的示意圖。
其中,附圖標(biāo)記1-噴嘴,2-噴孔,3-較大噴孔4-底端面,5-凹槽,6-熔錫10-噴嘴,11-錫爐壁,12-頂端面13-長(zhǎng)條噴孔,14-熔錫,15-底端面16-凹槽,17-溝槽,18-平面具體實(shí)施方式
請(qǐng)同時(shí)參閱圖4、5及6,為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施例立體示意圖、剖面示意圖及底端面示意圖,本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)在一錫爐上方的錫爐壁11形成一噴嘴10,該錫爐可為桶槽狀,或長(zhǎng)槽狀,內(nèi)裝有經(jīng)過(guò)加熱熔溶的液態(tài)錫,該液態(tài)錫可由一泵(圖中未示)將熔錫送往該噴嘴10噴出。
噴嘴10在頂端面12上形成一長(zhǎng)條噴孔13,該長(zhǎng)條噴孔13貫穿噴嘴10上下,可供熔錫14噴出。在噴嘴10的底端面15且位于長(zhǎng)條噴孔1 3下方兩側(cè)處設(shè)有一個(gè)或多個(gè)長(zhǎng)條狀的凹槽16。該長(zhǎng)條噴孔13的正下方也形成有一溝槽17,可以很順暢地接納不同方向涌來(lái)的熔錫14并由該長(zhǎng)條噴孔13噴出。
凹槽16與溝槽17間具有一平面18,可使凹槽16內(nèi)的熔錫14往該溝槽17內(nèi)移動(dòng)時(shí),受到下方的熔錫14往上推動(dòng),讓該熔錫14可以擾流式地進(jìn)入溝槽17內(nèi)。平面18的水平位置位于頂端面12與底端面15的水平位置間。
當(dāng)該錫爐內(nèi)的熔錫14經(jīng)泵作用上涌到該噴嘴10時(shí),如圖5所示,該熔錫14a1、a2、a3會(huì)往上涌動(dòng),當(dāng)噴嘴10下方兩側(cè)的熔錫14a1碰到該凹槽16后,會(huì)在該凹槽16下方的b1處形成擾流向內(nèi)側(cè)推送,此時(shí)受到a2處的熔錫14上涌擠推而形成如b2處的擾流,最后朝長(zhǎng)條噴孔13下方行進(jìn)到該溝槽17處時(shí),a3處的熔錫14上涌擠推該b2的熔錫14,而形成如c1處的擾流并直上到該長(zhǎng)條噴孔13,如d處,當(dāng)熔錫14噴出該長(zhǎng)條噴孔13會(huì)形成一有如S形的擺動(dòng)擾流波面,且在波面頂端不會(huì)形成有波峰與波谷的現(xiàn)象,可有效解決沾錫不良與電路板陰影效果的問(wèn)題。若該長(zhǎng)條噴孔13有焊錫堵塞噴孔13的情形時(shí),只須在長(zhǎng)條噴孔13表面用薄鐵片板輕括噴孔13即可去除堵塞的問(wèn)題。
請(qǐng)參閱圖7,為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)的第二實(shí)施例底端面示意圖,本實(shí)用新型的第二實(shí)施例是將單一長(zhǎng)條凹槽,改為分段式的長(zhǎng)條凹槽,效果相同。
請(qǐng)參閱圖8,為本實(shí)用新型錫爐噴嘴結(jié)構(gòu)噴出熔錫的示意圖,由圖式可看出本實(shí)用新型當(dāng)熔錫噴出長(zhǎng)條噴孔會(huì)形成一有如S形的擺動(dòng)擾流波面,且在波面頂端不會(huì)形成有波峰與波谷的現(xiàn)象,可解決電路板陰影效果的問(wèn)題。
可知,本實(shí)用新型提供一種利用具有長(zhǎng)條噴孔的噴嘴配合噴嘴底端面的凹槽,使得熔錫噴出噴孔可產(chǎn)生擺動(dòng)擾流波面,且在波面頂端不會(huì)形成有波峰與波谷的現(xiàn)象,可有效解決沾錫不良,焊錫堵塞噴孔與電路板陰影效果的問(wèn)題。
當(dāng)然,本實(shí)用新型還可有其他多種實(shí)施例,在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)的情況下,熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形,但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),于一錫爐上方形成一噴嘴,其特征在于,所述噴嘴具有一長(zhǎng)條噴孔,且在所述噴嘴的底端面且位于所述長(zhǎng)條噴孔下方兩側(cè)處設(shè)有一長(zhǎng)條狀的凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),其特征在于,所述長(zhǎng)條噴孔的正下方設(shè)有一溝槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),其特征在于,所述凹槽與所述溝槽間具有一平面,且所述平面的水平位置位于所述噴嘴頂端面與所述噴嘴底端面的水平位置間。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種錫爐噴嘴結(jié)構(gòu),于一錫爐上方形成一噴嘴,噴嘴具有一長(zhǎng)條噴孔,且在噴嘴的底端面且位于長(zhǎng)條噴孔下方兩側(cè)處設(shè)有一長(zhǎng)條狀的凹槽。本實(shí)用新型使得當(dāng)熔錫上涌到噴嘴時(shí),噴嘴下方的兩側(cè)熔錫碰到凹槽會(huì)產(chǎn)生擾流而往長(zhǎng)條噴孔下方行進(jìn),當(dāng)?shù)介L(zhǎng)條噴孔下方時(shí),受到長(zhǎng)條噴孔正下方的熔錫擠壓而被推動(dòng)至長(zhǎng)條噴孔噴出形成一S形的擺動(dòng)擾流波面。
文檔編號(hào)H05K3/34GK2717603SQ20042007780
公開(kāi)日2005年8月17日 申請(qǐng)日期2004年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月12日
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