專利名稱：微米級承壓高低調整裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種機械設備高低調整裝置，尤其涉及各類加工中心、各類精密數(shù)控機床、各類大型精密設備用的高低調整裝置。
背景技術：
目前，各類加工中心、各類精密數(shù)控機床、各類大型精密設備所用的安裝調整都是用機床調整墊鐵，這類調整墊鐵只能粗略地調節(jié)機床的高低，在實際安裝調試過程中都必須與不同規(guī)格的銅皮配合使用，以達到精確調整機床高低的目的。這種機床調整墊鐵無法實現(xiàn)微米級調節(jié)精度，同時在承受重載時更不能實現(xiàn)手工精細調節(jié)，這對大型精密設備的精密安裝調試帶來極大的困難，到目前為止尚未找到一種既能承受高壓力，又能手動實現(xiàn)微米級調節(jié)設備高低的理想調節(jié)裝置。

發(fā)明內容
本實用新型的發(fā)明目的是克服現(xiàn)有機床調整墊鐵存有的上述不足，提供一種微米級承壓高低調整裝置。
本實用新型所述微米級承壓高低調整裝置，由底座、下減磨板、下導向鍵、下滑塊、精密螺母、精密螺桿、上滑塊、上減磨板、上導向鍵、右限位塊、左限位塊、軸承蓋、軸承、調節(jié)手輪組成，所述下減磨板設置在下滑塊與底座之間，并固定在底座上，在底座與下滑塊之間設有下導向鍵，下導向鍵固定在底座上，所述下滑塊的下端面為光滑平面，上端面為右低左高的光滑斜面，在該斜面上固定有上導向鍵，在上滑塊和下滑塊之間設有上減磨板，精密螺母固定在下滑塊上，精密螺桿與精密螺母相配合，精密螺桿的兩端通過軸承、軸承蓋支承在底座的左右立板上，調節(jié)手輪安裝在精密螺桿上，左右限位塊分別固定在底座的左右立板上，上滑塊位于左右限位塊之間。
由于下滑塊的上、下接觸面均采用光滑平面與減磨板相接觸的滑動結構形式，下滑塊在滑動過程中的磨擦系數(shù)極小，移動阻力小，在上滑塊承受大載荷時其移動的阻力也不大，精密的絲桿螺母機構能確保下滑塊向右移動時無間隙，同時，由于精密螺桿的螺距可在一定范圍內任意設定，下滑塊的上平面的傾斜角度也可人為設置，精密螺桿每轉一圈可分為360度，因此，通過精密螺桿可實現(xiàn)上滑塊的微米升降，這種結構能適應高承壓微米級調整，特別適合各類大型高精度設備的安裝調試，不僅安裝方便、調節(jié)輕便，而且調整精度等級高，能實現(xiàn)微米級升降。


圖1為本實用新型的結構示意圖；圖2為圖1中A-A剖視圖；圖3為圖1的俯視圖；圖中1-底座；2-下減磨板；3-下導向鍵；4-下滑塊；5-精密螺母6-精密螺桿；7-上滑塊；8-上減磨板；9-上導向鍵；10-右限位塊；11-左限位塊；12-軸承蓋；13-軸承；14-調節(jié)手輪；15、16、18-螺釘；17-沉頭螺釘；具體實施方式
以下結合附圖說明本實用新型具體實施方式
本實用新型所述微米級承壓高低調整裝置，由底座1、下減磨板2、下導向鍵3、下滑塊4、精密螺母5、精密螺桿6、上滑塊7、上減磨板8、上導向鍵9、右限位塊10、左限位塊11、軸承蓋12、軸承13、調節(jié)手輪14組成，所述下減磨板2設置在下滑塊4與底座1之間，并由沉頭螺釘17固定在底座1上，在底座1與下滑塊4之間設有下導向鍵3，下導向鍵3通過螺釘15固定在底座1上，所述下滑塊4的下端面為光滑平面，上端面為右低左高的光滑斜面，在該光滑斜面上固定有上導向鍵9，在上滑塊7和下滑塊4之間設有上減磨塊8，上減磨板8固定在上滑塊7的下端面上，精密螺母5通過螺釘16固定在下滑塊4上，精密螺桿6與精密螺母5相配合，精密螺桿6的兩端通過軸承13、軸承蓋12支承在底座1的左右立板上，調節(jié)手輪14安裝在精密螺桿6的左側，左右限位塊11、10通過螺釘18分別固定在底座1的左右立板上，上滑塊7位于左右限位塊11、10之間。
其調節(jié)方法如下轉動調節(jié)手輪14精密螺桿6將隨之轉動，由于精密螺桿6軸向固定，與精密螺桿6配合的精密螺母5帶動下滑塊4向右移動，由于上滑塊7設置左、右限位塊11、10之間，當下滑塊4向右移動時，上滑塊7只能向上升，反之，上滑塊7向下降落，由于調節(jié)手輪14每轉一圈可分成360等份，上、下滑塊7、4之間的配合角度可以人為設定，因此，上滑塊7的上降能實現(xiàn)微米級調節(jié)，同時能承受高壓力。
權利要求1.一種微米級承壓高低調整裝置，其特征是它包括底座(1)、下減磨板(2)、下導向鍵(3)、下滑塊(4)、精密螺母(5)、精密螺桿(6)、上滑塊(7)、上減磨板(8)、上導向鍵(9)、右限位塊(10)、左限位塊(11)、軸承蓋(12)、軸承(13)、調節(jié)手輪(14)，所述下減磨板(2)設置在下滑塊(4)與底座(1)之間，并固定在底座(1)上，在底座(1)與下滑塊(4)之間設有下導向鍵(3)，下導向鍵(3)固定在底座(1)上，所述下滑塊(4)的下端面為光滑平面，上端面為右低左高的光滑斜面，在該斜面上固定有上導向鍵(9)，在上滑塊(7)和下滑塊(4)之間設有上減磨板(8)，精密螺母(5)固定在下滑塊(4)上，精密螺桿(6)與精密螺母(5)相配合，精密螺桿(6)的兩端通過軸承(13)、支承在底座(1)的左右立板上，調節(jié)手輪(14)安裝在精密螺桿(6)上，左限位塊(11)、右限位塊(10)分別固定在底座(1)的左右立板上，上滑塊(7)位于左限位塊(11)、右限位塊(10)之間。
專利摘要一種微米級承壓高低調整裝置，包括底座、梯形滑塊機構、絲桿螺母機構和左、右限位塊，在下滑塊的下面與底座及上平面與上滑塊之間均設有減磨板和導向鍵，螺母固定在下滑塊上，精密螺桿支承在底座上，調節(jié)手輪安裝在螺桿上，左右限位塊設置在上滑塊的左右兩端，并固定在底座上。由于下滑塊的上、下接觸面均采用光滑平面與減磨板相接觸的滑動結構形式，摩擦系數(shù)極小，即使上滑塊承受大載荷其移動的阻力也不大，精密的絲桿螺母機構能確保調節(jié)時無間隙，精密螺桿的螺距及梯形滑塊機構傾斜角度任意設定方案，能實現(xiàn)上滑塊的微米升降，這種結構能適應高承壓微米級調整，特別適合各類大型高精度設備的安裝調試。
文檔編號G12B9/00GK2854767SQ20052014066
公開日2007年1月3日 申請日期2005年12月31日 優(yōu)先權日2005年12月31日
發(fā)明者李鐘平 申請人:李鐘平