專利名稱：一種電解槽的電路和用于減小該電解槽附近的電磁場(chǎng)的方法
一種電解槽的電路和用于減小該電解槽附近的電磁場(chǎng)的方法本發(fā)明涉及電解槽，特別涉及這種電解槽的電源。本發(fā)明更特別地涉及用于給雙極電極電解槽提供整流電流的電路。被提供以直流的電解槽，特別是《*電極電解槽，通常用于電化學(xué)工業(yè)。 這樣的電解槽通常被用于電解氯化鈉的水溶液以產(chǎn)生氯、氫氧化鈉的水溶液 或氯酸鈉的水溶液。鑒于雙極電極電解槽中所采用的高電流密度，所以通常用整流的交流電 代替直流電。該整流的交流電通常具有若干相，這些相的頻率和幅值依賴于 所使用的整流器。此外，公知的是高電磁場(chǎng)強(qiáng)度，特別是那些由整流的交流電所產(chǎn)生的高 電磁場(chǎng)由于極可能在人體中產(chǎn)生感應(yīng)電流而可能在極端的情況下對(duì)人的身 體產(chǎn)生有害的后果。因此，采W^施以保護(hù)工業(yè)裝置附近的人員或減小那里 的電磁場(chǎng)強(qiáng)^A非常重要的。而且關(guān)于這點(diǎn)，已經(jīng)發(fā)布了若干標(biāo)準(zhǔn)，要求減小工業(yè)場(chǎng)所的電磁場(chǎng)強(qiáng)度。在這些標(biāo)準(zhǔn)中，歐洲標(biāo)準(zhǔn)89/391/EEC是特別嚴(yán) 格的。本發(fā)明的目的是提供一種用于向工業(yè)電解槽提供大電流的設(shè)計(jì)新穎的 電路。特別地，本發(fā)明的目的是提供一種電路，用該電路可以將電解槽附近的 電磁場(chǎng)減小到足夠低的值以遵守前述的歐洲標(biāo)準(zhǔn)。更特別地，本發(fā)明的目的是減小沿著雙極電極電解槽的側(cè)壁而延伸的通 道上的電磁場(chǎng)強(qiáng)度。因此，本發(fā)明涉及一種用于減小電解槽附近電磁場(chǎng)的電路，所述電路包 括主電路，主電路本身包括電解槽和電線路，所述電線路包括用于將電解槽 中流動(dòng)的電流返回的至少一個(gè)母線，所述電路還包括至少部分地設(shè)置在主電 路附近的次級(jí)電路，所述次級(jí)電路用于使一電流按照與主電路中的電流流向 相反的方向流動(dòng)，以補(bǔ)償由主電路所產(chǎn)生的電磁場(chǎng)。根據(jù)本發(fā)明，次級(jí)電路被設(shè)置在主電路的附近.在次級(jí)電路中以相反方 向流動(dòng)的電流用來產(chǎn)生電磁場(chǎng)，該電磁場(chǎng)至少部分地抵消主電路電流所產(chǎn)生
的電磁場(chǎng)。因此，次級(jí)電路必須能夠輸送足夠強(qiáng)的電流以獲得需要的補(bǔ)償。 為了獲得好的場(chǎng)補(bǔ)償，次級(jí)電路必須被盡可能設(shè)置在主電路附近?？紤]到可 能使得有必要在特定位置處將兩個(gè)電路分開的結(jié)構(gòu)要求，建議次級(jí)電路的一 個(gè)部分應(yīng)該附著到電解槽，而另一部分應(yīng)該優(yōu)選地附著到母線，以便于獲得 場(chǎng)的最佳補(bǔ)償。為了使補(bǔ)償最優(yōu)化，次級(jí)電路的特定段通常分布在多個(gè)并聯(lián) 連接的導(dǎo)體上。可以使用主電路的電源經(jīng)由控制電阻器給次級(jí)電M電。然 而，建議應(yīng)該對(duì)次級(jí)電路的至少位于返回線路附近的部分單獨(dú)供電。分開供電也具有優(yōu)點(diǎn)，即次級(jí)電路的頻率能夠被修改以便于優(yōu)先地消除由電解槽 所產(chǎn)生的磁場(chǎng)的某些特別有問題的頻率。通常，建議次級(jí)電路的位于母線附 近的部分應(yīng)該輸送的電流強(qiáng)于(優(yōu)選至少5倍地強(qiáng)于)附著到電解槽的部分 中流動(dòng)的電流，其電流比是母線和電解槽之間距離的函數(shù)。還建議位于整流器和電解裝置之間的電路部分應(yīng)該被配置以獲得好的場(chǎng)補(bǔ)償.因此要注意電流饋送和返回導(dǎo)體是彼此接近的。為此，建議這些導(dǎo)體應(yīng)該被分支成多個(gè)并聯(lián)連接的元件，以使得這些導(dǎo)體能夠彼此交織，例如 每個(gè)導(dǎo)體的元件交替層疊。本發(fā)明應(yīng)用于任何類型的電解槽，如單極或雙極水銀、隔膜或膜電解槽。 然而，本發(fā)明特別應(yīng)用于具有基本上垂直的雙極電極的電解槽。這種電解槽 在工程中眾所周知，其中它們廣泛地用于電解金屬卣化物的7jc溶液，尤其是氯化鈉。這些電極一般由一連串金屬框架形成，每個(gè)金屬框架包括雙極電極， 這些框架以壓濾機(jī)方式被并列i殳置(Morden Chlor-Alkali Technology(現(xiàn) 代氯堿技術(shù))，巻3， SCI， 1986，笫13章"Operating experience gained with the bipolar Hoechst-Uhde membrane cell (用雙極Hoechst-Uhd膜室獲得的l^作經(jīng) 驗(yàn));MordernChlor-Alkali Technology (現(xiàn)代氯堿技術(shù))，巻4， SCI， 1990， 第 20 章 "Hoechst-Uhde single element membrane electrolyzer: concept-experiences-applications (Hoechst—uhde單元件膜電解槽概念-經(jīng)^~應(yīng) 用)")。所述框架通常具有正方形或矩形輪廓以使得當(dāng)它們以壓濾機(jī)的方式 被并列放置時(shí)，它們形成電解槽的上壁、下或底壁以及兩個(gè)側(cè)壁。電解槽通 常被供以直流或更一般地被供以整流的交變電流。直流或整流的電流從直流 源或整流器的一個(gè)端子經(jīng)過電極，然后經(jīng)由位于電解槽外部的電流線路返回 到直流源或整流器的另一個(gè)端子。根據(jù)本發(fā)明的電路最好被供以整流的交變電流。三相交變電流整流提供 一電流，所述電流的振蕩具有為三相電流基頻的六倍高的基頻(例如50Hz 的6倍)和完全諧波頻語(yǔ)。 在本發(fā)明的一個(gè)推薦的實(shí)施方式中，電路包括使用至少兩個(gè)整流器的電 源以便輸送的電流的波形彼此有相移。電解電路最好被供以三相交變電流。根據(jù)本實(shí)施方式，至少兩個(gè)相互相移的整流器的4吏用<吏得可以增加揭_供 給電解槽的整流電流的振蕩頻率。給定電解槽中所涉及的電流的強(qiáng)度和特定設(shè)置，那么根據(jù)本發(fā)明的電路使得可以充分減小裝置附iOC射的電磁場(chǎng)。在本實(shí)施方式的一種有益變形中，電路包括兩個(gè)整流器，所述整流器的相移在29°和31°之間，優(yōu)選地接近30。。在這種變形中，所獲得的電流波形 具有為未整流的三相電流的基頻12倍高的基頻。在電路的這個(gè)實(shí)施方式的另一有益的變形中，電路更進(jìn)一步包括耦合至 少兩個(gè)整流器的輸出的至少一個(gè)排流線圏。該排流線圏用來在整流器輸出之 間建立反并聯(lián)的電抗。所述線圏最好通過組裝鐵的板和片來形成，以限制熱 損失。整流器的輸出以相反的方向輸入排流線團(tuán)中，以使得存在于輸出之一 中的電流擾動(dòng)通過電抗在來自另 一輸出的電流中感應(yīng)出相反的擾動(dòng)。從而當(dāng) 通過并聯(lián)連接將兩個(gè)輸出疊加時(shí)，獲得較少干擾的總電流。在根據(jù)本發(fā)明的電路的一種優(yōu)選的變形中，返回電流線路包括至少一個(gè) 母線，設(shè)置在電解槽的下面或上面。根據(jù)有關(guān)電解槽的結(jié)構(gòu)和雙私板的組裝 模式的考慮來規(guī)定選擇是將母線設(shè)置在電解槽的下面還是上面。作為變形， 前述的電流線路可以包括一個(gè)設(shè)置在電解槽下面的母線，以及設(shè)置在電解槽 上面的另一母線。根據(jù)另一變形，電解槽也可以包括在電解槽下面的多個(gè)母 線和/或在電解槽上面的多個(gè)母線。在實(shí)踐中，考慮到關(guān)于電解槽的組裝和 維護(hù)，通常優(yōu)選地是前述的電流線路應(yīng)該不包括在電解槽上面的母線。在所有其他方面都一樣的條件下，發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的電路充分減小了雙 極電極電解槽附近的、主要是沿著電解槽側(cè)壁的電磁場(chǎng)，尤其減小了通常沿 著側(cè)壁存在而且由操作和維護(hù)人員所使用的通道上的電磁場(chǎng)。在根據(jù)本發(fā)明的電路中，母線的材料對(duì)于本發(fā)明的限定是不重要的。一 般地，母線用銅、鋁或鋁Air制成。在根據(jù)本發(fā)明的電路中，母線的橫截面的輪廓對(duì)于本發(fā)明的限定是不重 要的。它可以是例如正方形、矩形、圓形或多邊形。在根據(jù)本發(fā)明的電路的第一具體實(shí)施方式
中，母線具有矩形剖面并且定 向?yàn)槭沟盟拇蟮拿婊旧纤?。在所有其他方面都一樣得情況下，已經(jīng)觀 察到如果選擇矩形截面的、水平設(shè)置在電解槽的下面和上面的母線，將把電 解槽附近的電磁場(chǎng)的大小減到最小。還觀察到當(dāng)母線的厚度和寬度之間的比
小時(shí)，電解槽附近的電磁場(chǎng)的減小量相當(dāng)大。因此，實(shí)踐中優(yōu)選使用金屬板 作為母線。作為變形，可以使用并排設(shè)置在電解槽下面或上面的多個(gè)金屬板。在所有其他方面都一樣的情況下，更進(jìn)一步觀察到當(dāng)將母線靠近電解槽 的壁設(shè)置時(shí)，電解槽附近的電磁場(chǎng)的大小減小。因此，在根據(jù)本發(fā)明的電路的第二實(shí)施方式中，將母線緊鄰電解槽的壁 設(shè)置。在本發(fā)明的這個(gè)實(shí)施方式中，取決于母線是位于電解槽的下面還是上 面，電解槽的所述壁是電解槽下或底部的壁或是它的上壁。在本發(fā)明的這個(gè) 實(shí)施方式中，表述"緊鄰電解槽的壁"意味著這個(gè)壁和母線之間的距離最多 等于五倍(優(yōu)選三倍)的母線厚度。優(yōu)選地，這個(gè)距離不超過母線的厚度。在本發(fā)明的前述第二實(shí)施方式的優(yōu)選的變形中，母線被附著到電解槽的 所述壁。在本發(fā)明的這個(gè)優(yōu)選的替代實(shí)施例中，母線最好是金屬板，所述金 屬板的大面中的一個(gè)附著到所述壁，只有必要的電絕緣體的厚度將母線和壁 分開。金屬板可以附著到所述壁的表面區(qū)域的一部分。優(yōu)選地，金屬板應(yīng)該 被附著到所述壁的基本上整個(gè)表面區(qū)域。在本發(fā)明的第三具體實(shí)施方式
中，前述的電線路更進(jìn)一步包括兩個(gè)附加 的母線，分別緊鄰電解槽的兩個(gè)側(cè)壁設(shè)置。在本發(fā)明的這個(gè)實(shí)施方式中，表 述"緊鄰"對(duì)應(yīng)于上述第二實(shí)施方式中的所給出的定義。在所有其他方面都一樣的情況下，附加母線的存在減小了電解槽附近的 電磁場(chǎng)的大小。在根據(jù)本發(fā)明的這個(gè)第三實(shí)施方式中，附加的母線可以具有與電解槽的 結(jié)構(gòu)兼容的任何形狀。它們可以是例如正方形、矩形、多邊形、橢圓或圓形 剖面。而且附加的母線可以具有相同的或不同的剖面，而且它們可以具有相 同的尺度或不同的尺度.然而，實(shí)踐中優(yōu)選地，附加的母線應(yīng)該具有相同的 剖面和相同的尺度。進(jìn)一步優(yōu)選地，附加的母線應(yīng)該具有矩形剖面，而且它 們應(yīng)該分別經(jīng)由它們的大面被附著到電解槽的兩個(gè)側(cè)壁。在剛剛描述的本發(fā)明的第三實(shí)施方式中，根據(jù)想要的在這些母線之間分 配電流的方式，來確定被設(shè)置在電解槽下面和/或上面的附加母線各自的尺 度以及所述母線或每個(gè)母線各自的尺度。在本發(fā)明特別有益的第四實(shí)施方式中，電路的電流回路的位置使得產(chǎn)生 關(guān)于電解槽的垂直中心面基本上對(duì)稱的電磁場(chǎng)。通過對(duì)所述母線或每個(gè)母線 適當(dāng)?shù)卮_定尺度和定位來獲得這個(gè)實(shí)施方式的目的(產(chǎn)生關(guān)于電解槽的垂直 中心面基本上對(duì)稱的電磁場(chǎng))。最佳的尺度和最佳的位置的選擇由本領(lǐng)域的
技術(shù)人員確定，特別是才艮據(jù)電解槽的形狀和尺度來確定。實(shí)踐中，這個(gè)結(jié)果 通?？梢酝ㄟ^關(guān)于電解槽的垂直中心面對(duì)稱地設(shè)置母線而獲得.根據(jù)本發(fā)明的電路充分減小了雙極電極電解槽附近的電磁場(chǎng)。因此，本發(fā)明也涉及用于減少電解槽的電路附近的電磁場(chǎng)的方法，所述 電路包括主電路，主電路本身包括電解槽和電線路，所述電線路包括用于將電解槽中流動(dòng)的電流返回的至少一個(gè)母線；才艮據(jù)該方法，l吏一電流以與主電 路中的電流流向相反的方向流過設(shè)置在主電路附近的次級(jí)電路.根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選的變形，主電路包括使用兩個(gè)整流器的電源以 輸送波形相對(duì)于彼此相移30°的電流.在這個(gè)變形的有利的版本中，主電路更進(jìn)一步包括耦合兩個(gè)整流器的輸 出的排流線圏。根據(jù)本發(fā)明的電路特別應(yīng)用于電解槽，所述電解槽用于連續(xù)電解水或水 溶液，如堿金屬卣化物的7jc溶液，特別是氯化鈉。在本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式中，電解槽因此包括用于連續(xù)輸入水電解液的管道和用于連續(xù)排出水電解 液的管道。本發(fā)明特別應(yīng)用于通過電解氯化鈉的水溶液來制造氯酸鈉的電解槽。本 發(fā)明特別好地應(yīng)用于通過電解氯化鈉的水溶液制造氯和氫氧化鈉的水溶液 的電解槽，這些電解槽包括可選擇地滲透陽(yáng)離子、被插入在雙極電;^之間的 膜。根據(jù)本發(fā)明的電路應(yīng)用于包括至少一個(gè)垂直雙極電極電解槽的任何電 解裝置。因此，本發(fā)明也涉及電解裝置，所述電解裝置包括至少一個(gè)雙極電極電 解槽，其被連接到根據(jù)本發(fā)明的電路。根據(jù)本發(fā)明的裝置可以包括單電解槽， 或被串聯(lián)或并聯(lián)電連接的多個(gè)電解槽。本發(fā)明特別涉及使用該裝置產(chǎn)生氯和氫氧化鈉水溶液。根據(jù)下面對(duì)附圖的說明，將使本發(fā)明的特征和細(xì)節(jié)變得明了，這些附圖 示出本發(fā)明的某些具體的實(shí)施方式。

圖1示出才艮據(jù)本發(fā)明的特定實(shí)施方式的電解裝置的總體布局的平面圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的電解裝置的另一特定實(shí)施方式的縱向正視示意圖；圖3是圖2的平面III-III上的垂直橫截面視圖4是類似于圖3的根據(jù)本發(fā)明的裝置的另一實(shí)施方式的視圖；圖5是圖4中的裝置的優(yōu)選的變形；圖6和7類似于圖4和5，但是它們也示出了次級(jí)電路。在這些圖中，相同的元件由相同的參考符號(hào)表示。圖1示意的電解裝置包括三個(gè)電解槽1、 2和3，其被i殳計(jì)為通過電解氯 化鈉的水溶液來產(chǎn)生氯、氫和氫氧化鈉。電解槽1、 2和3是具有垂直雙極 電極的類型。通過并列放置垂直矩形框架4而形成電解槽，每個(gè)垂直矩形框 架包含垂直雙極電極(未示出)?？蚣?以壓濾機(jī)的方式被并列放置。選擇 性地滲透陽(yáng)離子的膜被插入在框架4之間以便于交替地界定陽(yáng)極腔室和陰極 腔室。電解槽l、 2和3的陽(yáng)極腔室與用于連續(xù)輸入氯化鈉水溶液的管道(未 示出)相連通。此外，它們還與用于連續(xù)排出氯的歧管(未示出)相連通。 電解槽1、 2和3的陰極腔室與兩歧管相連，所述兩歧管分別用于連續(xù)地抽 出氳和連續(xù)地抽出氫氧化鈉水溶液。電解槽l、 2和3通過排流線圏19電串聯(lián)地借助于一電路合到兩個(gè)整流 器5a和5b，所述電路一方面包括介于電解槽l、 2和3之間的導(dǎo)體條6，另 一方面包拾沒置在電解槽1、 2和3外部的返回電流線7。由交流電流源18 以30o相移向整流器5a和5b供電。圖1示意的電解裝置中，三個(gè)電解槽1、 2和3中的每個(gè)可以例如包括 30至40個(gè)基本電解單元，而且電源包括例如能夠輸送8到20kA電流的520V 直流整流器。根據(jù)電極的表面面積，這可以形成每平方米陽(yáng)極面積2. 5至6kA 的陽(yáng)極電流密度。但是，這些數(shù)值是純描述性的，并不限制本發(fā)明和隨后的 權(quán)利要求的范圍。當(dāng)雙極開關(guān)閉合時(shí)，經(jīng)過整流的電流順序地流入電解槽1、 2和3中， 通過它們的雙極電極并流入到返回線路7中。這個(gè)電流在該裝置周圍產(chǎn)生電 磁場(chǎng)。根據(jù)本發(fā)明，包括段17a和17b的次級(jí)電路被設(shè)置在電解槽和返回線路 的附近。圖2和3示意的電解裝置說明了本發(fā)明的一特定實(shí)施方式。次級(jí)電路未 被示出在這兩個(gè)圖中。只有電解槽3示出在這些圖中。在圖2和3的裝置中， 返回電流線路7包括被設(shè)置在電解槽3下壁11下方的兩條母線9和10。母 線9和10是作為電的良導(dǎo)體的金屬(優(yōu)選銅或鋁)的棱柱條。這些條^J" 稱地設(shè)置在電解槽的垂直中心面X-X的每一側(cè)。而且，條9和10還被設(shè)置
在電解槽3下壁11的附近.以圖3示意的方式設(shè)置母線9和10的作用是要 減小通道12上的電磁場(chǎng)，所述通道12沿著電解槽3的側(cè)壁13而延伸而且 由電解槽的IMt人員^吏用。在所有其他方面都一樣的情況下，已經(jīng)觀察到當(dāng)條9和10接近于中心 面X-X和下壁11時(shí)，在通道12上的電磁場(chǎng)強(qiáng)度是相當(dāng)小的。還已經(jīng)觀察到 在通道12上的電磁場(chǎng)的大小通過減小條9和10的厚度和寬度比而被減小。 因此對(duì)母線可優(yōu)選地^f吏用水平板或片。在圖4示意的實(shí)施方式中，其中次級(jí)電路同樣地沒有被示出，返回電流 線路7包括附著到電解槽下壁11而且基本上覆蓋整個(gè)此壁的金屬板或片14。在圖5的裝置中，返回電流線路7包括倚靠著電解槽3下壁11設(shè)置的 金屬板14和分別沿著電解槽3的兩個(gè)側(cè)壁13延伸的兩個(gè)附加母線15和16。 這兩個(gè)附加母線15和16最好是附著到側(cè)壁13的金屬板或片。在類似于圖4和5的圖6和7的裝置中，示出了電路17a、 17b。電流在 導(dǎo)體17b中流動(dòng)，電流方向與在板14中的電流流向相反。這種情況同樣適 用于導(dǎo)體17a和板15和板16。
權(quán)利要求
1.一種用于減小電解槽(1、2、3)附近電磁場(chǎng)的電路，包括主電路，包括所述電解槽和電線路(7)，所述電線路包括用于將所述電解槽中流動(dòng)的電流返回的至少一個(gè)母線(9、10、14)。次級(jí)電路(17a、17b)，至少部分地設(shè)置在所述主電路附近，用于使一電流以與主電路中的電流流向相反的方向流動(dòng)，以補(bǔ)償由所述主電路所產(chǎn)生的電磁場(chǎng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電路，其特征在于母線(9、 10、 14)被設(shè) 置在所述電解槽(3)的下面和/或上面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路，其特征在于所述母線(14 )附著到 所述電解槽(3)的壁(11)。
4. 根據(jù)前一權(quán)利要求所述的電路，其特征在于所述壁是所述電解槽 的底壁(11)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的電路，其特征在于所述母線是金屬板 (14)，所述母線的大面中的一個(gè)附著到所述壁(11)。
6. 根據(jù)在先權(quán)利要求中的任何一項(xiàng)所述的電路，其特征在于電線路 (7 )進(jìn)一步包括兩個(gè)附加母線(15、 16 )，所述附加母線分別附著到所述電解槽(3)的兩個(gè)側(cè)壁(13)。
7. 根據(jù)在先權(quán)利要求中的任何一項(xiàng)所述的電路，其特征在于電線路 (7 )被定位成產(chǎn)生關(guān)于所述電解槽的垂直中心面(X-X)基本上對(duì)稱的電磁場(chǎng)。
8. 根據(jù)在先權(quán)利要求中的任何一項(xiàng)所述的電路，其特征在于所述電 解槽包括用于連續(xù)地輸入水電解液的管道和用于連續(xù)地排出水電解液的 管道。
9. 根據(jù)前一權(quán)利要求所述的電路，其特征在于所述電解槽包括選擇 性地滲透陽(yáng)離子、介于所述雙極電極之間的兩個(gè)膜。
10. 根據(jù)在先權(quán)利要求中的任何一項(xiàng)所述的電路，其中所述主電路包 括使用兩個(gè)整流器(5a、 5b )以輸送波形相對(duì)于彼此有相移的電流的電源。
11. 根據(jù)前一權(quán)利要求所述的電路，更進(jìn)一步包括耦合所述兩個(gè)整流 器的輸出的排流線圏(19)。
12. —種用于減小電解槽(l、 2、 3)的電路附近的電磁場(chǎng)的方法， 所述電路包括主電路，所述主電路包括所述電解槽和電線路(7)，所述電 線路包括用于將所述電解槽中流動(dòng)的電流返回的至少一個(gè)母線，才艮據(jù)該方 法， 一電流以與主電路中的電流流向相反的方向流過i殳置在主電路附近的 次級(jí)電路(17a、 17b)。
13. 根據(jù)前一權(quán)利要求所述的方法，其中所述主電路包括使用兩個(gè)整 流器以輸送波形相對(duì)于彼此有30度相移的電流的電源。根據(jù)前一權(quán)利要求所述的方法，其中所述主電路進(jìn)一步地包括耦合所 述兩個(gè)整流器的輸出的排流線圏(19)。
全文摘要
用于減小電解槽附近的電磁場(chǎng)的電路，所述電路包括為電解槽供電的主電路和設(shè)置在主電路附近的次級(jí)電路，所述次級(jí)電路中的電流流向與主電路中的電流流向相反以便于補(bǔ)償由主電路所產(chǎn)生的電磁場(chǎng)。
文檔編號(hào)H05K9/00GK101129105SQ200680006414
公開日2008年2月20日 申請(qǐng)日期2006年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月1日
發(fā)明者約阿希姆·朗格 申請(qǐng)人:索爾維公司