專利名稱：電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，該構(gòu)件的制造方法，使用了該構(gòu)件的光學(xué)過濾器，以及使用該構(gòu)件而形成的等離子顯示器面板等的顯示器面板。

背景技術(shù)：
近年來，在持續(xù)普及的等離子顯示器與EL、CRT等各種顯示器中，存在從顯示器中產(chǎn)生電磁波(微波)，這些電磁波對其它的機器產(chǎn)生不良影響的問題。而且還存在微波對人體產(chǎn)生不良影響的問題。尤其是等離子顯示器面板，由于靠高電壓驅(qū)動，因此在產(chǎn)生、泄漏比其它顯示器更強的電磁波方面，存在問題。為了遮蔽這些從各種顯示器前面泄漏的電磁波，只要使空間電磁性地絕緣即可?；谶@個目的，提出并實施的方案是將兼有電磁波屏蔽性與透明性的電磁波遮蔽構(gòu)成體裝置于各式顯示器的前面，并且使該電磁波遮蔽構(gòu)成體與應(yīng)該接地的外部電極連接(例如參照專利文獻1～4)。另外，基于封入等離子顯示器面板內(nèi)的發(fā)光槽內(nèi)的惰性氣體產(chǎn)生近紅外線，產(chǎn)生引起無線電話或無線遙控器等電子機器的錯誤動作的問題。
作為所述電磁波遮蔽構(gòu)成體的一個例子，將電磁波屏蔽性膜與作為透明基板的塑料板重疊，通過壓接或加熱、壓接，將電磁波屏蔽性膜粘接在塑料板上而形成。而且，所述電磁波屏蔽性膜由塑料膜、設(shè)置在該塑料膜上的粘接劑層和具有包含幾何圖形的網(wǎng)格狀的電磁波屏蔽材料的電磁波屏蔽層構(gòu)成，其中，所述包含幾何圖形的網(wǎng)格狀的電磁波屏蔽材料是通過對粘接于所述粘接劑層的導(dǎo)電性材料所形成的金屬箔進行化學(xué)蝕刻而形成的。另外，所述幾何圖形的外周設(shè)置有與該幾何圖形電氣連接的導(dǎo)電性的框緣部。但是，所述包含幾何圖形的網(wǎng)格狀的電磁波屏蔽層和導(dǎo)電性的框緣部是通過將金屬箔粘貼于粘接劑層，利用化學(xué)蝕刻過程對該金屬箔進行蝕刻而形成的，并且因為通常使用背面為粗化面的電解銅箔作為金屬箔，所以電解銅箔的粗化形狀會轉(zhuǎn)印到粘接劑面，由于蝕刻被去除銅箔的部分的粘接劑表面就會變成被粗化過的面。另一方面，作為所述粘接劑層，使用借助加熱或加壓而流動的物質(zhì)，如上述所述，通過壓接或加熱、壓接電磁波屏蔽性膜使粘接劑流動化，流進網(wǎng)格狀的電磁波屏蔽材料之間，結(jié)果是與塑料板粘接，電磁波屏蔽性膜與塑料基板粘接。
以往的電磁波屏蔽性膜是將向粘接劑層粘貼的面被粗化的金屬箔與粘接劑層粘貼后，對金屬箔進行化學(xué)蝕刻而制造得到的，因為被粗化后的金屬凹凸面被轉(zhuǎn)印至粘接劑層，通過具有凹凸的粘接劑層來觀看圖像，因此會有辨識性也就圖像的鮮明度方面的問題。
為了克服此課題，在專利第3480898號公報中提出了將轉(zhuǎn)印有粗化金屬凹凸面的粘接劑層透明化的顯示器用電磁波屏蔽性膜，具體來說就是在轉(zhuǎn)印有粗化金屬凹凸面的粘接劑層上，利用加熱或加壓來粘接透明層，利用透明層潤濕粘接劑層的凹凸面來達到透明化。
專利文獻1特開平10-335885號公報
專利文獻2專利第3480898號公報
專利文獻3特開2000-323890號公報
專利文獻4特開2000-323891號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題 專利第3480898號公報公開的顯示器用電磁波屏蔽性膜，容易在粘接劑層的凹凸面中殘留微少的空氣，該殘留的空氣部分成為作為顯示器的缺陷。另外，即使通過加熱或加壓粘接了透明層，在設(shè)置了曲折率與粘接劑層不同的透明層時，則不會變成完全透明，透明性會略微變低。進而，因為電磁波屏蔽層的幾何圖形(以下稱為網(wǎng)格)是通過將金屬層蝕刻而形成的，因此通過粘接劑層而粘接有金屬層的塑料膜會暴露于蝕刻液等的各種藥用液體，并且由于通過生產(chǎn)線而通過傳送輥等各式各樣的輥。因此，塑料膜因藥液而劣化或因為經(jīng)過傳送輥而產(chǎn)生微小的傷痕。因此，存在透明性與平滑性降低而使得作為顯示器的品質(zhì)下降的問題。
另外，為了提高作為顯示器的對比度，優(yōu)選是將金屬箔或金屬網(wǎng)格的金屬層表面作黑化處理。此黑化處理，特別是銅箔的黑化處理，通常采用印刷配線板領(lǐng)域所采用的一般方法來進行。經(jīng)由黑化處理，金屬層表面會形成氧化膜，但此時也也同時產(chǎn)生微細的針狀結(jié)晶。如果該針狀結(jié)晶附著到電磁波屏蔽層的被蝕刻部(網(wǎng)格部以外的金屬層的開口部)，則會造成顯示器的品質(zhì)下降與缺陷，而使得成品率降低。如果上文提到的塑料膜的傷痕引起的缺陷或針狀結(jié)晶等異物附著引起的成品率下降，則制品的制造成本提高，經(jīng)濟性下降。
因此，本發(fā)明的目的就是要提供一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其不存在上述問題，即沒有傷痕，即使金屬網(wǎng)格黑化時也不會有異物附著于電磁波屏蔽層，能夠在光學(xué)過濾器或顯示器面板上形成透明性優(yōu)異的電磁波屏蔽層。
另外，本發(fā)明的其它目的是提供使用所述特性優(yōu)良的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件形成的光學(xué)過濾器?；虻入x子顯示器面板等顯示器面板。
進而，本發(fā)明的目的是提供制造電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的方法，其中所述電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件可以形成具有無傷痕或異物附著、透明性優(yōu)良的電磁波屏蔽層的光學(xué)過濾器以及顯示器面板。
解決課題的手段 為了解決上述課題，本發(fā)明涉及具有下述結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。光學(xué)過濾器。等離子顯示器面板等顯示器面板以及電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方式。
即，(i)本發(fā)明涉及在兩片剝離膜間，含有粘著劑與電磁波屏蔽材料的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
另外，(ii)本發(fā)明涉及上述電磁波屏蔽材料被粘著劑所覆蓋的上述電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
另外，(iii)本發(fā)明涉及上述(i)記載的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其中，上述電磁波屏蔽材料中的至少一部分從粘著劑中露出。
另外，(iv)本發(fā)明涉及上述粘著劑為活性能量線固化型粘著劑的上述電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
另外，(v)本發(fā)明涉及上述粘著劑含有近紅外線吸收物或顏色修正物的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
另外，(vi)本發(fā)明涉及從上述電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件至少剝離一片剝離膜，將露出的粘著劑粘合在透明基材上的光學(xué)過濾器。
另外，(vii)本發(fā)明涉及透明基材包含從防反射層、硬膜防止層、防眩光功能層、顏色修正層以及近紅外線吸收層中選出的一個以上的層的上述光學(xué)過濾器。
另外，(viii)本發(fā)明涉及上述(vi)記載的光學(xué)過濾器，其中，在透明基材上形成從防反射層、硬膜防止層、防眩光功能層、顏色修正層以及近紅外線吸收層中選出的一個以上的層。
另外，(ix)本發(fā)明涉及上述光學(xué)過濾器，其中光學(xué)過濾器是等離子顯示器面板用光學(xué)過濾器。
另外，(x)本發(fā)明涉及等離子顯示器面板，其為，從上述(1)～(5)的任一項所記載的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件中至少剝落1片剝離膜，將露出的粘著劑進行粘貼而成。
另外，(xi)本發(fā)明涉及安裝有上述(6)～(8)的任一項所記載的光學(xué)過濾器的等離子顯示器面板。
另外，(xii)本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法，其特征在于，以任意順序來進行下述工序(1)～(7)，并且至少實施一次活性能量線照射 (1)通過活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼金屬箔與基材膜的工序； (2)利用所述金屬箔的選擇性蝕刻而形成金屬網(wǎng)格的工序； (3)將上述金屬箔或金屬網(wǎng)格的表面進行黑化處理的工序； (4)通過粘著劑來粘貼含有基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑和金屬網(wǎng)格而成的層疊體的金屬網(wǎng)格面以及轉(zhuǎn)印用支持體的工序； (5)將所述基材膜從所述金屬網(wǎng)格剝離的工序； (6a)將由所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜粘貼的工序； (7)將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑中的工序。
另外，(xiii)本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法，其特征在于，以任意順序來進行下述工序(1)～(7)，并且至少實施一次活性能量線照射 (1)通過活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼金屬箔與基材膜的工序； (2)利用所述金屬箔的選擇性蝕刻而形成金屬網(wǎng)格的工序； (3)將上述金屬箔或金屬網(wǎng)格的表面進行黑化處理的工序； (4)通過粘著劑來粘貼含有基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑和金屬網(wǎng)格而成的層疊體的金屬網(wǎng)格面以及轉(zhuǎn)印用支持體的工序； (5)將所述基材膜從所述金屬網(wǎng)格剝離的工序； (6b)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜上涂有粘著劑的層疊體的粘著劑面粘貼的工序；； (7)將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑中的工序。
發(fā)明的效果 本發(fā)明中，在電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件制造過程中，即使基材膜受傷或有異物附著在活性能量線粘著力消失型粘著劑上，或者即使粘著劑層的特性因蝕刻用藥水而劣化，由于基材膜以及活性能量線粘著力消失型粘著劑最終都在電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造過程中被除去，所以得到的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件或電磁波屏蔽層沒有殘留傷痕或異物。由此可知，在制造電磁波遮蔽構(gòu)成體時所產(chǎn)生的問題，如產(chǎn)生對電磁波屏蔽性膜的傷痕、黑化處理引起的微細結(jié)晶附著引發(fā)的顯示器缺陷、進而蝕刻處理時的粘接劑的透明性的問題都可以被解決，可以形成透明性不下降、品質(zhì)優(yōu)良的電磁波屏蔽層。另外，本發(fā)明中，因為可以改善成品率，在經(jīng)濟方面也有優(yōu)異的效果。進而，通過使用本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，在設(shè)置電磁波屏蔽層時，不需要塑料膜等的其他層，就可以形成電磁波屏蔽層，可以形成利用以往的方法無法形成的薄型的具有電磁波屏蔽功能的光學(xué)過濾器或等離子顯示器等顯示器面板。



圖1圖1(a)～(d)是本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的各種狀態(tài)的截面圖。
圖2圖2是本發(fā)明的光學(xué)過濾器的一個例子的截面圖。
圖3圖3是網(wǎng)格形成片的截面圖。
圖4圖4是包含基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑以及剝離膜的層疊體的截面圖。
圖5圖5是作為電磁波屏蔽材的形成了金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格形成片的截面圖。
圖6圖6是粘著片的截面圖。
圖7圖7是表示金屬網(wǎng)格從網(wǎng)格片上剝離過程的圖。
圖8圖8(a)、(b)是表示將在粘著劑層上負載有金屬網(wǎng)格的轉(zhuǎn)印片與剝離片粘接，通過加壓將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑層內(nèi)的工序的圖。
圖9圖9(a)、(b)是將剝離膜上涂布有粘著劑的層疊體的粘著劑面與在粘著劑層上負載有金屬網(wǎng)格的轉(zhuǎn)印片粘貼，通過加壓將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑層中的步驟的圖。
符號說明 圖1～9中，1、4、6、8表示剝離膜，2表示粘著劑，3表示電磁波屏蔽材料，5表示光學(xué)膜的透明基材，7表示層疊體，9表示轉(zhuǎn)印片，10表示網(wǎng)格形成片，11表示基材膜，12活性能量線粘著力消失型粘著劑，13表示金屬箔，15表示形成了金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格形成片。

具體實施例方式 以下參照圖1對本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件進行說明。這里，由于是以圖來說明本發(fā)明，因此各構(gòu)件、層的大小和厚度不是按正確的比例尺記載的。
本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件是，在兩片剝離膜1、4之間含有粘著劑2與電磁波屏蔽材3。圖1表示本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的幾個形態(tài)，圖1(a)為粘著劑2與電磁波屏蔽材3均為雙面都與剝離膜1、4貼緊的狀態(tài)的例子；圖1(b)是電磁波屏蔽材料雙面都與剝離膜貼緊，但粘著劑2只與一側(cè)的剝離膜1貼緊的狀態(tài)的例子；圖1(c)是電磁波屏蔽材料只有單面與剝離膜貼緊，粘著劑2的一面與剝離膜1的整面，另一面與電磁波屏蔽材料合和剝離膜4貼緊的例子；圖1(d)是粘著劑的雙面整面與剝離膜1、4貼緊，電磁波屏蔽材3在粘著劑內(nèi)，并沒有與剝離膜接觸的例子。另外，本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，只要是在兩片剝離膜1、4之間含有粘著劑2與電磁波屏蔽材3即可，并不只限于上述的形態(tài)。
構(gòu)成本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的剝離膜1與4是指，在塑料膜上利用硅或氟等剝離性材料進行了剝離處理的膜。通過實施剝離處理，即使剝離膜通過粘著劑而粘貼于基材等時，也可以用任意的方法簡便地將該膜撕下。剝離膜與簡單的透明塑料膜區(qū)分來使用。作為剝離膜，也可以使用市售的剝離膜，例如可以舉出東洋紡制E7002，Panac社制造的再剝離膜NT等。另外，作為剝離膜，也可以使用在塑料膜等基材膜上涂布了后述的活性能量線粘著力消失型粘著劑而得到的剝離膜。但是，從經(jīng)濟方面的理由與處理性的觀點來看，優(yōu)選使用在塑料膜上利用硅或氟等進行了剝離處理的膜。
所述塑料膜優(yōu)選使用有可撓性的塑料膜，還優(yōu)選可以透過活性能量線。塑料膜的厚度雖無限制，但是優(yōu)選為5～500μm左右，更優(yōu)選10～200μm之間更佳。作為塑料膜，具體來說，可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等的聚酯類，聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物(EVA)等的聚烯烴類，聚氯乙烯、聚偏1，1-二氯乙烯等的乙烯基類，聚砜、聚醚砜、聚苯硫、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸系樹脂、環(huán)烯烴樹脂等膜。另外，塑料膜也可以是層疊膜，作為形成層疊體的樹脂，例如可以舉出上述構(gòu)成單層塑料膜的樹脂。塑料膜，從價格或處理性方面來說，優(yōu)選使用PET膜。這些塑料膜也可以用作后述的本發(fā)明的基材膜。
本發(fā)明的電磁波屏蔽光透過構(gòu)件是，在2片剝離膜1、4之間含有粘著劑2與電磁波屏蔽材料3。例如，若2片剝離膜的剝離處理面與層疊方向并排時，則在2個剝離處理面之間含有粘著劑與電磁波屏蔽材料。兩個剝離處理面的位置可以平行也可以不平行。優(yōu)選兩個剝離處理面的位置關(guān)系是平行。
在本發(fā)明中，在制造電磁波屏蔽材料時使用基材膜當作暫時支持體，制造電磁波屏蔽性光透明構(gòu)件的過程中，上述的暫時支持體會從電磁波屏蔽材料上剝離除去，因此最終得到的電磁波屏蔽光透明構(gòu)件上不存在暫時支持體。因此，在屏蔽材料制造工序中，被用作屏蔽材料的暫時支持體的基材膜即使產(chǎn)生傷痕，產(chǎn)生的傷痕也不會對電磁波屏蔽光透過構(gòu)件的傷痕有所影響，可以提高屏蔽層的光透過(透明性)性。另外，跟以往的電磁波遮蔽構(gòu)成體來比，可以節(jié)省至少一層的塑料膜，因此經(jīng)濟性好，進而，有利于顯示器前面過濾器與電磁波屏蔽性建材等的薄型化。電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的雙面不使用剝離膜時，會在制造工序中使基材膜受損，或網(wǎng)格開口部有異物附著，造成透明性下降，作為商品來說是有問題的。另外，還存在形成電磁波屏蔽材料時的蝕刻液引起的基材膜、粘著劑損傷的問題。
本發(fā)明的電磁波屏蔽材料3是幾何圖形的網(wǎng)格狀的導(dǎo)電性金屬材料以及此類金屬材料。該電磁波屏蔽材料可以通過在導(dǎo)電性金屬箔上利用微平版印刷法或印刷法形成抗蝕圖案后，利用化學(xué)蝕刻等實施蝕刻處理，或電鍍法、使用導(dǎo)電性墨水的印刷法等而形成。
作為上述導(dǎo)電性金屬箔，可以舉出銅、鋁、鎳、鐵、金、銀、鉻、鈦等金屬，或者這些金屬中的兩種以上組合的合金。其中，從易導(dǎo)電、易進行回路加工、價格便宜方面考慮，優(yōu)選銅、鎳、鋁及它們的合金，更優(yōu)選銅和銅合金。另外，關(guān)于導(dǎo)電性金屬箔，也可使用預(yù)先施行黑化處理過的導(dǎo)電性金屬箔。
金屬箔的厚度優(yōu)選是0.5～40μm，更優(yōu)選1～30μm。若超過40μm，不但難以形成細線條，而且會造成電磁波屏蔽材料使用于等離子顯示器等顯示器前時會有視野角變小的情形，因此是不適宜的。另外，若是厚度小于0.5μm，則表面阻抗變大，會有使電磁波屏蔽效果變差的傾向。
關(guān)于網(wǎng)格的形狀，作為構(gòu)成網(wǎng)格的單元形狀，可以舉出正三角形或等腰三角形、直角三角形等三角形，正方形、長方形、菱形、平行四邊形、梯型等四角形，六角形、八角形、十二角形、二十角形等n角形(n為正數(shù))，圓形，橢圓形，星型等。網(wǎng)格的形狀包含上述單元形狀的1種或2種以上的組合。構(gòu)成網(wǎng)格的單元形狀，從電磁波屏蔽性的觀點來看，三角形是最有效的；但從光線透過率的觀點來看，優(yōu)選n角形的n大的形狀。優(yōu)選在上述網(wǎng)格的外周設(shè)置與該網(wǎng)格電氣連接的導(dǎo)電性框緣部。
優(yōu)選構(gòu)成網(wǎng)格的線條的寬度在40μm以下，線條的間隔在100μm以上，線條的厚度在40μm以下的范圍。另外，從網(wǎng)格的非辨識性來看，線條寬度更優(yōu)選在25μm以下；從可見光透過率的觀點來看，線條間隔更優(yōu)選在120μm以上，線條厚度更優(yōu)選在18μm以下。線條寬度在40μm以下，特別優(yōu)選在25μm以下，如果太小太細，則表面阻抗變得過大，使屏蔽效果變差，因此優(yōu)選在1μm以上。線條的厚度優(yōu)選在40μm以下，如果厚度太薄，則表面阻抗會變得過大，使得屏蔽效果變差，因此優(yōu)選在0.5μm以上，更優(yōu)選在1μm以上。線條間隔越大則開口率越提高，光線透過率也提高。如上所述，使用在顯示器前面時，開口率優(yōu)選為50％以上，更優(yōu)選60％，進一步優(yōu)選80％以上。如果線條間隔太大，則電磁波屏蔽性會下降，因此線條間隔優(yōu)選在1000μm(1mm)以下。這里所謂的開口率，是指從有效面積中減掉金屬網(wǎng)格面積后的面積相對于電磁波屏蔽材料覆蓋的有效面積之比的百分率。
作為形成導(dǎo)電性金屬箔的方法，在加工精度與加工效率觀點來看，優(yōu)選使用微平版印刷法形成的網(wǎng)格。作為微平版印刷法，可以舉出照相平版印刷法、X射線平版印刷法、電子射線平版印刷法、離子束平版印刷法等。其中，從簡便性與量產(chǎn)性的觀點來看，微平版印刷微影法效率最高。其中，利用了化學(xué)蝕刻的照相平版印刷法，從其簡便性、經(jīng)濟性、金屬網(wǎng)格的加工精度來看，是最適宜的。微平版印刷法中，依次進行在金屬箔上形成抗蝕劑層，通過曝光、顯像形成抗蝕劑圖案，利用抗蝕劑圖案進行金屬箔的蝕刻，剝離阻抗層，以及根據(jù)需要的中和處理。如果需要對蝕刻后的金屬箔表面進一步做黑化處理時，則進一步進行黑化處理?？刮g劑圖案，可以通過用絲網(wǎng)印刷法、凸版印刷法等的印刷法印刷抗蝕油墨，不經(jīng)過曝光、顯像而形成。
形成網(wǎng)格時的金屬箔的蝕刻，可以使用以往公知的任何蝕刻法，但從經(jīng)濟方面來看，優(yōu)選的方法是使用蝕刻液的化學(xué)蝕刻。作為蝕刻液，例如氯化鐵、氯化銅等的水溶液是適宜的。另外，抗蝕劑剝離液優(yōu)選為苛性鈉水溶液。中和時，優(yōu)選使用鹽酸、硫酸、草酸等酸性溶液。作為黑化處理液，優(yōu)選使用在印刷回路基板制造技術(shù)中使用的公知的黑化處理液。對于這些蝕刻液等的各種藥液與使用條件并無特別限制，只要是印刷配線板制造方法中的公知藥液與使用條件即可。
作為構(gòu)成本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑，作為優(yōu)選的粘著劑，可以舉出如下粘著劑所述粘著劑包含分子中具有羧基、羥基、酰胺基、縮水甘油基、氨基、乙酰乙酰氧基中的至少一種反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物以及能夠與上述反應(yīng)性官能團反應(yīng)的固化劑。
作為上述丙烯酸系聚合物的代表性的物質(zhì)，可以舉出(A)具有反應(yīng)性官能團的單體與其它的(甲基)丙烯酸酯單體的共聚物，或者(B)具有反應(yīng)性官能團的單體、其它的(甲基)丙烯酸酯單體和能與上述單體共聚的其它的乙烯基單體的共聚物。這些丙烯酸系的聚合物利用公知的方法合成而來。丙烯酸系聚合物，為了賦予粘著性，玻璃化轉(zhuǎn)變點優(yōu)選在-20℃以下。另外，從粘著力與凝集力的均衡方面考慮，丙烯酸系聚合物的重均分子量優(yōu)選為20萬～200萬，進一步優(yōu)選40～150萬。以下例示出用于制造丙烯酸系聚合物的單體，但是用于制造丙烯系聚合物的單體并不限定于此，只要是以往用于制造丙烯酸系聚合物的公知的單體都可以使用。這里，聚合物的重均分子量是根據(jù)擰凝膠滲透色譜法使用標準聚苯乙烯的標準曲線測定而來的。
作為上述用于制造丙烯酸系聚合物的具有反應(yīng)性官能團的單體，可以舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸-4羥丁酯、甲基丙烯酸2-乙酰乙酰氧基乙酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酸縮水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯等。
另外，作為其它的(甲基)丙烯酸酯單體，可以舉出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲禾靈(etotyl)等。
另外，作為能夠與所述具有反應(yīng)性官能團的單體和其它的(甲基)丙烯酸酯單體共聚的其它乙烯基單體，可以舉出醋酸乙烯基、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另一方面，固化劑是與具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物反應(yīng)賦予粘著劑凝集力的物質(zhì)，可以使用對于反應(yīng)性官能團具有反應(yīng)性的異氰酸酯系化合物、環(huán)氧系化合物、氮雜環(huán)丙烷基化合物等的公知的多官能化合物。固化劑的使用量只要考慮到丙烯酸系單體的種類或者粘著力來決定即可，沒有特定的限制，但是相對于丙烯酸系樹脂100重量份，優(yōu)選添加0.1～15重量份，進一步優(yōu)選0.1～10重量份。如果低于0.1重量份的話，則交聯(lián)度降低，凝集力變得不充分，如果超過15重量份的話，則對被粘著體的粘著力容易減少，因此不適宜。
作為上述異氰酸酯系化合物，可以舉出甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、間苯二異氰酸酯、二異氰酸二甲苯酯等二異氰酸酯或者它們的三羥甲基丙烷加合物，與水反應(yīng)得到的縮二脲，具有三多異氰酸酯環(huán)的三聚物等。
作為環(huán)氧化合物，可以舉出山梨糖醇多縮水甘油醚、聚甘油多縮水甘油醚、季戊四醇多縮水甘油醚、雙甘油多縮水甘油醚、甘油多縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、間二甲苯二胺四縮水甘油醚及其加氫物等。
作為氮雜環(huán)丙烷基化合物，可舉出N，N’-二苯基甲烷-4，4-二(1-氮雜環(huán)丙烷羧基酰胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮雜環(huán)丙烷基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮雜環(huán)丙烷基丙酸酯、N，N’-甲苯-2，4-二(1-氮雜環(huán)丙烷羧基酰胺)三亞乙基三聚氰胺等。
粘著劑也可以含有粘著賦予劑、增塑劑、增粘劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收材料、潤濕劑、填充劑、顏料、染料、稀釋劑、防銹劑、固化促進劑等公知的各種添加劑。這些添加劑可以僅使用一種，也可兩種以上同時使用。另外，只要是可以得到目標物性的量即可，并無特定的限制。
作為本發(fā)明的粘著劑，除了上述的粘著劑外，也可優(yōu)選使用活性能量線固化型粘著劑?；钚阅芰烤€固化型粘著劑是由于活性能量線的照射而產(chǎn)生固化(三維交聯(lián))，凝集力提高，從而表現(xiàn)粘著力的粘著劑。在本發(fā)明中，作為活性能量線固化型粘著劑，優(yōu)選使用丙烯酸系聚合物、活性能量線反應(yīng)性化合物、光聚合引發(fā)劑、阻聚劑及其它添加劑構(gòu)成的物質(zhì)。
活性能量線固化型粘著劑與一般的粘著劑不同，其不含固化劑，或即使含固化劑，劑量也是極少量，因此粘著劑的流動性非常高，容易使網(wǎng)格埋入粘著劑中。進而，在網(wǎng)格埋入粘著劑中后，可以照射活性能量線進行固化，發(fā)揮粘著性，因此可以生成均勻的粘著層，并且可以得到較高的粘著力。
舉例說明構(gòu)成所述活性能量線固化型粘著劑的丙烯酸系聚合物，例如可以舉出通過使從(甲基)丙烯酸酯單體、具有反應(yīng)性官能團的單體、能夠與(甲基)丙烯基酯單體中選出的二種以上的單體共聚合而得到的物質(zhì)，從粘著性方面來看，作為具有反應(yīng)性官能團的單體，優(yōu)選將含有羥基、乙酰乙酰氧基、羧基的單體中的至少一種進行共聚合。這種丙烯酸系聚合物可以采用公知的方法合成。
構(gòu)成活性能量線固化型粘著劑的丙烯酸系聚合物的重均分子量，因需保有凝集力，所以優(yōu)選40～200萬，進一步優(yōu)選90～200萬，特別優(yōu)選100萬～160萬。另外，丙烯酸系聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變點優(yōu)選是-60℃～-5℃，更優(yōu)選-50℃～-10℃。低于-60℃時凝集力會不足，超過-5℃時可能產(chǎn)生粘著性不足。
以下列舉構(gòu)成此活性能量線固化型粘著劑的丙烯酸系聚合物合成用單體，但合成丙烯酸系聚合物所使用的單體并不限于這些，可以使用公知的任何單體。
作為所述(甲基)丙烯酸酯單體，可舉出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲禾靈等。
另外，作為具有反應(yīng)性官能團的單體，可以舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸4-羥丁酯、2-乙酰乙酰氧基乙基甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酸縮水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯等。
作為能夠與(甲基)丙烯酸酯單體共聚合的其它乙烯基單體，可以舉出醋酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另外，作為活性能量線反應(yīng)性化合物，可以舉出借助活性能量線的照射進行三維交聯(lián)的公知的單體或者寡聚物。這些是分子內(nèi)具有2個以上的丙烯酰基或者甲基丙烯?；奈镔|(zhì)?；钚阅芰烤€反應(yīng)性化合物，相對于丙烯酸聚合物100重量份，優(yōu)選配合0.1～50重量份，更優(yōu)選0.1～40重量份，尤其優(yōu)選0.1～20重量份。低于0.1重量份時，借助照射活性能量線照射而發(fā)生的三維交聯(lián)不充分，得不到必要的凝集力；超過50重量份時，借助活性能量線照射而發(fā)生的三維交聯(lián)過度，可能無法獲得必要的粘著力。
作為借助上述活性能量線的照射來進行三維交聯(lián)的單體，可舉出1，6-己二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等的單體，但是并不限制于上述單體。另外，為了要調(diào)整粘性或者交聯(lián)密度等，也可以加入在分子內(nèi)具有1個以上的丙烯酰基或者甲基丙烯?；膯误w作為活性能量線反應(yīng)性化物。
另外，作為借助上述活性能量線照射來進行三維交聯(lián)的寡聚物，也可以使用作為活性能量線反應(yīng)性化合物來使用的公知的任何寡聚物。作為代表性的物質(zhì)，可以舉出聚氨酯丙烯酸酯寡聚物，但是并不限定于此。為了要預(yù)防作為粘著劑使用時的經(jīng)時變黃，優(yōu)選使用不含有甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯的聚氨酯丙烯酸酯寡聚物作為原料。
作為用在活性能量線固化型粘著劑中的阻聚劑，可以使用以往作為阻聚劑使用的公知的任何化合物。具體舉例阻聚劑，例如可以舉出對苯二酚、對甲氧基苯酚、甲基對苯二酚、對苯醌、甲苯醌、叔丁基對苯二酚、叔丁基苯醌、2，5-二苯基對苯醌等的對苯二酚系化合物，酚噻嗪系化合物，硝基胺系化合物，但是阻聚劑并不限于所舉出的這些化合物。
作為其它的添加劑，可以舉出與上文作為粘著劑的添加劑而列舉的物質(zhì)相同的物質(zhì)。這些添加劑的添加量，只要可以得到目標物性，則沒有特別限制。
本發(fā)明中，只要在2片的剝離膜間含有電磁波屏蔽材料和粘著劑即可。電磁波屏蔽材料與粘著劑，可以是以電磁波屏蔽層與粘著劑層為多層的結(jié)構(gòu)而被含有，也可以是電磁波屏蔽材料被埋入粘著劑層內(nèi)。尤其是，電磁波屏蔽材料被覆蓋于粘著劑中的情形(例圖1(d))或也可以是電磁波屏蔽材料的至少一部份從粘著劑中露出(例圖1(a)、(b)、(c))。電磁波屏蔽材料從粘著劑中露出借助于埋入金屬網(wǎng)格時粘著劑的流動。如果以金屬網(wǎng)格表面(與后述基材膜相反的面)進行黑化處理的情形為例來具體說明的話，有黑化處理過的一部分或整面露出的情形，不進行黑化處理的面(以下稱為非黑化面。)的一部分或整面露出的情形，黑化處理過的面與非黑化面的一部分露出的情形。
構(gòu)成本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑2，優(yōu)選進一步含有近紅外線吸收物、顏色修正物、具有ND過濾器功能的化合物。
所謂的近紅外線吸收物，意思是吸收近紅外線的色素化合物。使用本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件形成等離子顯示器等顯示器的電磁屏蔽層時，可吸收從等離子顯示器等顯示器輻射的近紅外線，從而可以防止包含顯示器的其它電子機器的開關(guān)、計算機通信的信號發(fā)送等的錯誤動作。本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件應(yīng)用于顯示器時，所述近紅外線吸收物只要是可以吸收從顯示器放射出來的近紅外線的色素化合物即可。作為這種可吸收近紅外線的色素化合物，可以舉出從特定結(jié)構(gòu)的二亞銨(diimonium)系化合物、酞菁系化合物、二硫醇金屬配位化合物、花青系化合物等中選出的至少一個化合物。通過單獨使用或并用這些化合物，可以吸收例如從顯示器放射出來的近紅外線。本發(fā)明中，近紅外線吸收物也可以是不包含在電磁波屏蔽層中而包含在另外的近紅外線吸收層中而應(yīng)用于顯示器面板，關(guān)于近紅外線吸收層在后面進行說明。
對于本發(fā)明中作為近紅外線吸收物可以優(yōu)選使用的二亞銨系化合物進行例示的話，例如可以舉出下述通式(1)所表示的在陰離子成分中具有磺酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物。
化1


通式(1) 通式(1)中，R1～R8可以彼此相同或不同，表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的環(huán)烷基、取代或無取代的鹵代烷基、取代或無取代的氰基烷基、取代或無取代的芳基、羥基、或取代或無取代的苯基烷基。
作為烷基，可以舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、叔丁基、仲丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正癸基、正十二烷基、正十八烷基等的碳原子數(shù)為1～20的烷基。
作為環(huán)烷基，可以舉出環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基等的碳原子數(shù)為3～10的環(huán)烷基。
作為鏈烯基，可以舉出乙烯基、丙烯基、1-丙烯基、異丙烯基、2-丁烯基、1，3丁二烯基、2-戊烯基等的碳原子數(shù)為2～10的鏈烯基。
作為芳基，可以舉出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等的碳原子數(shù)為6～12的芳基。
作為結(jié)合于這些基團的取代基，可以舉出氰基；硝基；羥基；四氫呋喃基；氟原子、氯原子、溴原子等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、叔丁氧基、仲丁氧基、正戊氧基、正辛氧基、正癸氧基等碳原子數(shù)為1～10的烷氧基；甲氧甲氧基、乙氧甲氧基、丙氧甲氧基、甲氧乙氧基、乙氧乙氧基、丙氧乙氧基、甲氧丙氧基、乙氧丙氧基、甲氧丁氧基、乙氧丁氧基等碳原子數(shù)為2～12的烷氧烷氧基；甲氧甲氧甲氧基、甲氧甲氧乙氧基、甲氧乙氧甲氧基、甲氧乙氧乙氧基、乙氧甲氧甲氧基、乙氧甲氧乙氧基、乙氧乙氧甲氧基、乙氧乙氧乙氧基等碳原子數(shù)在為3～15的烷氧烷氧烷氧基；芳氧基；苯氧基、甲苯氧基、萘氧基等碳原子數(shù)為6～12的芳氧基； 甲磺?；被⒁一酋；被⒄酋；被惐酋；被?、正丁磺酰基氨基、叔丁磺?；被⒅俣』酋；被⒄旎酋；被?、正己磺?；被忍荚訑?shù)為1～6的烷基磺?；被?；甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、異丙氧羰基，正丁氧羰基、叔丁氧羰基、仲丁氧羰基、正戊基氧羰基、正己基氧羰基等碳原子數(shù)為2～7的烷氧基羰基；甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、正丙基羰基氧基、異丙基羰基氧基、正丁基羰基氧基、叔丁基羰基氧基、正戊基羰基氧基、正己基羰基氧基等碳原子數(shù)為2～7的烷基羰基氧基；甲氧羰基氧基、乙氧羰基氧基、正丙氧羰基氧基、異丙氧羰基氧基、正丁氧羰基氧基、叔丁氧羰基氧基、仲丁氧羰基氧基、正戊氧羰基氧基、正己氧羰基氧基基等碳原子數(shù)為2～7的烷氧基羰基氧基等。
這些R1～R8之中，優(yōu)選碳原子數(shù)1～8的具有直鏈或支鏈的烷基、鹵素取代烷基、氰基取代烷基，特別優(yōu)選碳原子數(shù)2～6的具有直鏈或支鏈基團的烷基。作為所述碳原子數(shù)2～6的具有直鏈或支鏈基團的烷基的具體例子，例如可以舉出乙基，正丙基、正丁基、正基、異丙基、異丁基、異戊基等。
另外，作為R1～R8的優(yōu)選的其它例子，還可以舉出下述通式(2)表示的苯基烷基。
化2

通式(2) (式中，C表示碳原子數(shù)1～18的直鏈或支鏈的烷基，環(huán)D表示可以帶有取代基的苯環(huán)。) 通式(2)表示的苯基烷基中，烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～8。進而，苯基烷基中的苯基可以無取代基，但也可以具有從烷基、羥基、磺酸基、烷基磺酸基、硝基、氨基、烷氧基、鹵代烷基以及鹵素原子中選出的至少一種取代基。優(yōu)選沒有取代基的苯基。
作為所述的苯基烷基，可以舉出例如芐基、苯乙基、苯丙烯基、苯基-α-甲基丙烯基、苯基-β-甲基丙烯基、苯丁烯基、苯戊烯基等、苯辛烯基等，優(yōu)選為芐基和苯乙基。這些苯基烷基因為可以提高二亞銨化合物的耐熱性，因此優(yōu)選。
通式(1)中的環(huán)A和B，在1，4-位以外可以有1～4個取代基，也可以沒有取代基。作為能夠結(jié)合的取代基，可以舉出例如鹵原子、羧基、低級烷氧基、氰基、低級烷基。作為鹵原子，可以舉出例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。作為烷氧基，可以舉出例如甲氧基、乙氧基等C1～C5的烷氧基；作為低級烷氧基，可以舉出例如甲基、乙基等C1～C5的烷基。優(yōu)選A和B沒有取代基，或被鹵原子(尤其是氯原子、溴原子)、甲基或氰基取代。B有取代基時，4個B環(huán)全部相同，進而，從合成的角度來看，優(yōu)選取代基的位置相對于與苯二胺結(jié)構(gòu)結(jié)合的氮為間位的位置。進而，環(huán)A和B中，從合成的角度來看，優(yōu)選沒有1，4-位以外的取代基。
通式(1)中的陰離子成分的R9與R10，只要是各自相同或不同的氟代烷基或它們一起形成的氟代烷亞烷基，則被取代的氟原子數(shù)與碳原子數(shù)沒有特別的限定，作為優(yōu)選的R9與R10的例子，可以舉出相同或不同的碳原子數(shù)為1～8的全氟烷基也可。即，作為陰離子成分的優(yōu)選例子，可以舉出下述通式(3)所表示的陰離子成分。
化3

通式(3) (式中、n與n’表示1～8的整數(shù)) 在此，n及n’為1～8的整數(shù)，但優(yōu)選為1～4的整數(shù)。作為優(yōu)選的具體例子，可以舉出例如全氟烷基磺?；嗤?即n與n’為相同的整數(shù))的雙(三氟甲烷磺)酰亞胺、雙(五氟乙烷磺)酰亞胺等；全氟烷磺?；煌?即n與n’為不同的整數(shù))的五氟乙磺酰三氟甲烷磺酰亞胺、三氟甲磺酰七氟丙磺酰亞胺、九氟丁磺酰三氟甲磺酰亞胺等。
在這些之中，在吸收近紅外線能力方面，更優(yōu)選全氟烷基磺?；嗤?即n與n’為相同的整數(shù))，n和n’為1或2的雙(三氟甲烷磺)酰亞胺，雙(七氟乙烷磺)酰亞胺。
另外，作為通式(1)中的陰離子成分的R9與R10的其它優(yōu)選例子，可以舉出如下述通式(4)中所表示的，這些一起形成的碳原子數(shù)2～12的全氟亞烷基。
化4

通式(4) (式中、m表示2～12的整數(shù)) 這里，m優(yōu)選為2～8的整數(shù)，進一步可以舉出優(yōu)選m為3的下述式(5)表示的1，3-二磺?；鷣啽啺贰?br> 化5

通式(5) 具有上述通式(1)的R9與R10一起形成的碳原子數(shù)2～12的全氟亞烷基的由上述通式(4)表示的陰離子，與使用R9和R10獨立的通式(3)的陰離子作為陰離子成分的情形相比，耐熱性得到提高，因此優(yōu)選。
作為本發(fā)明中所使用的通式(1)表示的二亞銨系化合物的具體例，可以舉出例如 下述式(6)所表示的雙(三氟甲烷磺)酰亞胺酸N，N，N’，N’-四{對-二(正丁基)氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化6

式(6) 下述式(7)所示的雙(五氟乙烷磺)酰亞胺酸N，N，N’，N’-四{對-二(正丁基)氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化7

式(7) 下述式(8)所示的雙(三氟甲烷磺)酰亞胺酸N，N，N’，N’-四{對-二(異丁基)氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化8

式(8) 下述式(9)所示的雙{雙(三氟甲烷磺)酰亞胺酸}N，N，N’，N’-四{對-二芐基氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化9式(9)

式(9) 下述式(10)所示的雙{雙(三氟甲烷磺)酰亞胺酸}N，N，N’，N’-四{對-二苯乙基氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化10


式(10) 下述式(11)所示的雙{雙(三氟亞甲烷磺)酰亞胺酸}N，N，N’，N’-四{對-二(4-氟化)芐基氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化11式(11)

式(11) 下述式(12)所示的雙(1，3-二磺酰基六氟亞丙基酰亞胺酸)N，N，N’，N’-四{對-二苯乙基氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨、 化12


式(12) 下述式(13)表示的雙(1，3-二磺?；鷣啽啺匪?N，N，N’，N’-四{對-二丁基氨基苯基}-對-亞苯基二亞銨等。
化13


式(13) 本發(fā)明所使用的通式(1)中所示的二亞銨系化合物，例如可以按照特公昭43-25335號公報所公開的如下方法得到。即，通過將對苯二胺和1-氯-4-硝基苯進行烏耳曼反應(yīng)所得到的生成物還原而得到下述通式(14)所示的胺化合物，使該化合物在有機溶劑中，優(yōu)選在二甲基甲酰胺、1，3-二甲基-2-咪唑啉二酮、N-甲基吡咯烷酮等的水溶性極性溶劑中，在30～160℃，優(yōu)選為50～140℃，與對應(yīng)所期望的R1～R8的鹵化化合物(例R1為n-C4H9時為BrC4H9)反應(yīng)，可以得到所有的取代基(R1～R8)相同的化合物，(以下稱全取代體)。另外，合成全取代體以外的化合物時，例如，先使其與規(guī)定的摩爾數(shù)(相對于每1摩爾胺化合物為7摩爾)的試劑(BrC4H9)反應(yīng)，在R1～R8中的7個中導(dǎo)入正丁基，然后為了導(dǎo)入剩下的取代基(異丁基)而與需要的摩爾數(shù)(相對于每1摩爾胺化合物為1摩爾)的試劑(BrC4H9BrCH2CH(CH3)2)作反應(yīng)。
化14

式(14) (式中，環(huán)A與B如上述的定義) 之后，在有機溶劑中，優(yōu)選在二甲基甲酰胺、1，3-二甲基-2-咪唑啉二酮、N-甲基吡喀烷酮、乙腈等水溶性極性溶劑中，于0～100℃、優(yōu)選5～70℃，添加下述通式(15)所示的磺酰亞胺酸銀衍生物，使上述合成的化合物進行氧化反應(yīng)，過濾出析出的銀，然后加入水、醋酸乙酯或己烷等溶劑，過濾產(chǎn)生的沉淀，由此可以得到本發(fā)明的通式(1)所示的二亞銨系化合物。
化15通式(15)
通式(15) (式中，R9與R10的定義與所述相同) 作為上述通式(1)所示的二亞銨系化合物的市售品，例如可以舉出“CIR-LR”、“CIR-1085”(兩者皆為日本Carlit公司制)，“K-1032”(日本化藥公司制)等。
本發(fā)明的粘著劑中含有的二亞銨系化合物的含量，由通過本發(fā)明的粘著劑所形成的近紅外線吸收層的厚度與要求的該近紅外線吸收層所要求的吸收能而決定。例如，如果吸收能為一定量，若形成的近紅外線吸收層的膜厚較薄時，則需要在粘著劑中多添加二亞銨系化合物；相反，若形成的近紅外線吸收層的膜厚較厚時，則粘著劑中的二亞銨系化合物的添加物量可以為少量。即，可以根據(jù)要求的近紅外線吸收能來決定粘著劑中的二亞銨系化合物的量與形成的近紅外線吸收層的膜厚度。
如上所述，二亞銨系化合物的添加量會因各種因素而有變動，但一般來說，相對于通過本發(fā)明的粘著劑形成的近紅外線吸收層的單位面積每1m2，優(yōu)選為1～1000mg，更優(yōu)選5～500mg。例如使其為相對于構(gòu)成粘著劑的樹脂的配合量的話，相對于構(gòu)成粘著劑的樹脂100重量份來說，二亞銨系化合物優(yōu)選以0.1～10重量份來配合，更優(yōu)選以0.5～5重量份來配合。二亞銨系化合物的配合量小于上述范圍時，優(yōu)選相應(yīng)地加厚近紅外線吸收層的膜厚以達到希望的近紅外線吸收能。另一方面，二亞銨系化合物的配合量超過上述范圍時，則可見光的透過率降低，因此優(yōu)選相應(yīng)地使近紅外線吸收層的膜厚變薄。
另外，通式(1)表示的二亞銨系化合物，在850～1200nm的范圍內(nèi)有近紅外線吸收能，尤其是在1000nm左右的近紅外線吸收很強，不僅可以遮斷遙控器等所使用的近紅外線的波長的光以外，也可以遮斷將來會被使用的計算機通信的波長的光，對于這種錯誤動作的防止的效果也令人期待。
以下對于本發(fā)明中用作近紅外線吸收物的酞菁系化合物、二硫醇金屬配位化合物、花青系化合物進行說明。這些酞菁系化合物與后述二硫醇金屬配位化合物、花青系化合物可以單獨使用，也可以并用近紅外線吸收物的任意兩種以上，但優(yōu)選將上述二亞銨系化合物與上述的酞菁系化合物、二硫醇金屬配位化合物、花青系化合物中的任一種并用。
在本發(fā)明中使用的酞菁系化合物有酞菁、酞菁配位化合物、或在酞菁和酞菁配位化合物的酞菁骨架的苯環(huán)上具有OR、SR、NHR、或NRR’中的一種以上。這里，R、R’可以相同也可以不同，表示可以具有取代基的苯基、碳原子數(shù)為1～20的烷基或碳原子數(shù)為7～20的芳烷基。其中，優(yōu)選取代基的中的1個是有NHR取代的酞菁。
作為本發(fā)明中所使用的酞菁系化合物的優(yōu)選例子，可以舉出下述通式(16)所示的化合物。通式(16)表示的化合物的溶劑溶解性優(yōu)良，與聚合物的相溶性也優(yōu)良。而且，使用了通式(16)表示的酞菁系化合物的近紅外線吸收層用作近紅外線吸收過濾器時，特別可以得到可見光透過率高、近紅外線吸收效率高且耐熱性、耐光性優(yōu)良的近紅外線吸收過濾器。
化16

式(16) (式中，α彼此可以相同也可以不同，表示SR15、OR16、NHR17或鹵原子，而且α的至少任一個是NHR17。R15、R16和R17彼此可以相同也可以不同，表示可以具有取代基的苯基、碳原子數(shù)為1～20的烷基或碳原子數(shù)為7～20的芳烷基。β彼此可以相同也可以不同，表示SR15、OR16或鹵原子，SR15、OR16是必須的。M代表非金屬、金屬、金屬氧化物、或金屬鹵化物。) 上述通式(16)中，作為碳原子數(shù)1～20的烷基，例如可以舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、新戊基、1，2-二甲基丙基、正己基、1，3-二甲基丁基、1-異丙基丙基、1，2-二甲基丁基、正庚基、1，4-二甲基戊基、2-甲基-1-異丙基丙基、1-乙基-3-甲基丁基，正辛基，2-乙基己基等直鏈或支鏈狀的烷基；環(huán)己基等環(huán)狀烷基等。作為碳原子數(shù)7～20的芳烷基，例如可以舉出芐基、苯乙基等。作為鹵原子，例如可以舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等，優(yōu)選為氟原子。
另外，上述R15、R16與R17的苯基、碳原子數(shù)1～20的烷基或碳原子數(shù)7～20的芳烷基可以具有一個或兩個以上的取代基。作為這種取代基，例如可以舉出鹵原子、?；?、烷基、烷氧基、鹵代烷氧基、硝基、氨基、烷基氨基、烷基羰基氨基、芳基氨基、芳基羰基氨基、羰基、烷氧基羰基等。
上述通式(16)中的M中，所謂非金屬，是指金屬以外的原子，例如兩個氫原子。具體來說，可以形成存在于酞菁結(jié)構(gòu)的中央部分、可以具有取代基的相對的兩個氮原子與氫原子結(jié)合的結(jié)構(gòu)。作為金屬，例如可以舉出鐵、鎂、鎳、鈷、銅、鈀、鋅、釩、鈦、銦、錫等。作為金屬氧化物，例如可以舉出鈦氧基、釩氧基等。作為金屬鹵化物，例如可以舉出氯化鋁、氯化銦、氯化鍺、氯化錫、氯化珪等。作為M，優(yōu)選為金屬、金屬氧化物或金屬鹵化物，具體來說可以舉出鎳、鈷、銅、鋅、鐵、釩氧基、二氯化錫等。更優(yōu)選鋅、銅、鈷、釩氧基、二氯化錫。
作為上述通式(16)所表示的酞菁系化合物的優(yōu)選形態(tài)，8個β中的4～8個可以相同也可以不同，為SR1或OR2。更優(yōu)選8個β全部相同或不同，為SR1或OR2。作為這種酞菁系化合物，例如可以舉出以下述省略符號表示的酞菁化合物等ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhNH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)7F、CuPc(PhS)8(PhNH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)6F2、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)8、VOPc(PhS)8(PhCH2NH)8、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4-CNPhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2，4-Cl2PhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F。
另外，這些化合物中，8個α中的4個表示可以相同也可以不同的OR2或鹵原子的化合物，例如優(yōu)選由以下的省略符號表示的酞菁化合物等ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4-CNPhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2，4-Cl2PhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F。
其中，上述化合物的省略符號中，Pc表示酞菁核，Pc之后表示β位取代的8個取代基，之后表示α位取代的8個取代基。另外，上述Ph表示苯基。更具體來說，上述省略符號表示中心金屬Pcβ位的8個取代基α位的8個的取代基。例如在VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F表示如下的酞菁系化合物，中心金屬為VO酞菁核β位由8個2，5-Cl2PhO取代α位由4個2，6-(CH3)2PhO取代和3個Ph(CH3)CHNH取代和1個F取代而成的化合物。
上述通式(16)所示的酞菁化合物的制造方法并無特別限制，可以適當使用以往公知的方法。例如可以通過使酞腈化合物與選自金屬塩、金屬氧化物、金屬羰基、金屬鹵化物和有機酸金屬中的任一種進行環(huán)化反應(yīng)后，與氨基化合物反應(yīng)而得到。
作為上述通式(16)表示的酞菁系化合物的市售品，例如可以舉出「EXCOLOR IR10A」、「EX COLOR IR12」、「EX COLOR IR14」、「EX COLORHA-1」、「EX COLOR HA-14」(上述產(chǎn)品皆為日本觸媒制)等。從酞菁系化合物的溶劑溶解性、與聚合物的相溶性方面以及用作近紅外線吸收過濾器時的可見光線透過率、近紅外線吸收效率的方面來看，優(yōu)選「EX COLOR IR10A」、「EX COLOR IR12」、「EX COLOR IR14」。
酞菁系化合物向構(gòu)成本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑中的添加量，根據(jù)被使用的酞菁系化合物的近紅外線吸收能與粘著劑層的膜厚、被要求的吸收能而決定。若吸收能為一定量，則粘著劑中需要多添加酞菁系化合物，相反地，若形成的近紅外線吸收層的膜厚較厚時，則粘著劑中的酞菁系化合物的添加量可以是少量。即，可以根據(jù)要求的近紅外線吸收能來決定粘著劑中的酞菁系化合物的量以及所形成的近紅外線吸收層的膜厚。例如，如果吸收能為一定，若形成的近紅外線吸收層的膜厚較薄時，則粘著劑中需多添加酞菁系化合物；相反地，形成的近紅外線吸收層的膜厚較厚時，粘著劑中的酞菁化合物的添加物為少量即可。即，可以根據(jù)要求的近紅外線吸收能來決定粘著劑中的酞菁系化合物的量以及近紅外線吸收層的膜厚。
酞菁系化合物的添加量，具體來說，相對于由本發(fā)明的粘著劑形成的近紅外線吸收層的單位面積每1m2來說，優(yōu)選是1～1000mg，更優(yōu)選是5～500mg。例如使其為相對于構(gòu)成粘著劑樹脂的配合量的話，則相對于構(gòu)成粘著劑的樹脂100重量份，優(yōu)選以0.1～10的重量份配合酞菁系化合物，更優(yōu)選以0.2～5重量份來進行配合。
若酞菁系化合物的配合量小于上述范圍時，優(yōu)選相應(yīng)地加厚粘著劑層的膜厚以達到希望的近紅外線吸收能。另外，酞菁系化合物的配合量若超過上述范圍時，可見光透過率降低，所以優(yōu)選使粘著劑層的膜厚相應(yīng)地變薄。
這些通式(16)表示的酞菁系配位化合物的特征是，在800～900nm的近紅外線區(qū)域內(nèi)的具有極大吸收，且在可見光區(qū)域的吸收能力小。因此，通過使其與二亞銨系化合物組合，兩者的相乘效果可以在800～1000nm的近紅外線區(qū)域中產(chǎn)生效率良好的吸收遮蔽，因此可以吸收從等離子顯示器發(fā)出的無用的近紅外線。另外，已知通常二亞銨系化合物與其它色素混合時，其耐熱性明顯下降，但是與酞菁系化合物混合時，二亞銨系化合物的耐熱性下降的程度少，在此觀點上優(yōu)選將兩者并用。
作為用作構(gòu)成本發(fā)明電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑的近紅外線吸收物的二硫醇金屬配位化合物，只要是通常稱為二硫醇金屬配位化合物的物質(zhì)即可，并無特別限制，但具體來說，優(yōu)選下述通式(17)表示的金屬配位化合物。
化17

通式(17) (式中，R11～R14，可以各自相同或不同，表示氫原子、鹵原子、氰基、?；?、氨基甲酰、烷基氨基羰基、烷氧基羰基、芳基氧羰基、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基，并且也可以是鄰接的2個取代基通過連結(jié)基相連。另外，M為鎳、鉑、鈀或銅金屬。) 這些由通式(17)表示的二硫醇金屬配位化合物，可以使用1種或2種以上。通式(17)表示的二硫醇金屬配位化合物中，R11～R14的取代基在以下具體說明。
作為鹵原子，可以舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
作為酰基的例子，可以舉出乙酰基、乙羰基、丙羰基、丁羰基、戊羰基、己羰基、苯甲酰基、對叔丁基苯甲酰基等。
作為烷基氨基羰基的例子，可以舉出甲基氨基羰基、乙基氨基羰基、正丙基氨基羰基、正丁氨基羰基、仲丁氨基羰基、正戊氨基羰基、正己基氨基羰基、正庚基氨基羰基、正辛基氨基羰基、2-乙基己基氨基羰基、二甲氨基羰基、二乙氨基羰基、二正丙基氨基羰基、二正丁基氨基羰基、二仲丁基氨基羰基、二正戊基氨基羰基、二正己基氨基羰基、二正庚基氨基羰基、二辛基氨基羰基等。
作為烷氧基羰基的例子，可以舉出甲氧羰基、乙氧基羰基、正丙氧基羰基、異丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、仲丁氧基羰基、叔丁氧基羰基、正戊基氧羰基、異戊基氧羰基、新戊基氧羰基、1，2-二甲基丙基氧羰基、正己基氧羰基、環(huán)己基氧羰基、1，3-二甲基-丁基氧羰基、1-異丙基丙基氧羰基、1，2-二甲基丁基氧羰基、正庚基氧羰基、1，4二甲基戊氧基羰基、2-甲基-1-異丙基丙基氧羰基、1-乙基-3-甲基丁基氧羰基、正辛基氧羰基、2-乙基己基氧羰基、3-甲基-異丙基丁基氧羰基、2-甲基-1-異丙基氧羰基、1-叔丁基-2-甲基丙基氧羰基、正壬基氧羰基等碳原子數(shù)2～20的直鏈或支鏈的烷基氧羰基等。
作為芳基氧羰基的例子，可以舉出苯基氧羰基、萘基氧羰基、甲苯氧羰基、二甲苯氧羰基、氯苯基氧羰基等。
在取代或未取代的烷基中，作為未取代的烷基的例子，可以舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、新戊基、環(huán)戊基、1，2二甲基丙基、正己基、環(huán)己基，1，3-二甲基丁基，1-異丙基丙基、1，2-二甲基丁基，正庚基、1-4-二甲基戊基、2-甲基-1-異丙基丙基、1-乙基-3-甲基丁基、正辛基、2-乙基己基、3-甲基1-異丙基丁基、2-甲基-1-異丙基、1-叔丁基-2-甲基丙基、正壬基、3，5，5-三甲基己基等碳原子數(shù)1～20的直鏈、支鏈或環(huán)狀的烴基。
所謂的取代烷基是指上述未取代的烷基的至少一個氫被各官能團取代而得到的基團。
作為取代烷基的例子，例如可以舉出 未取代的烷基的氫被烷氧基取代的烷氧基烷基、 未取代的烷基的氫被烷氧基烷氧基取代的烷氧基烷氧基烷基、 未取代的烷基的氫被烷氧基烷氧基烷氧基取代的烷氧基烷氧基烷氧基烷基、 未取代的烷基的氫被鹵原子取代的鹵代烷基、 未取代的烷基的氫被氨基取代的氨基烷基、 未取代的烷基的氫被烷基氨基取代的烷基氨基烷基或二烷基氨基烷基、 此外的烷氧基羰基烷基、烷基氨基羰基烷基、烷氧基磺酰基烷基等。
作為上述的烷氧基烷基，可以舉出甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、丙氧基乙基、丁氧基乙基、3-甲氧丙基、3-乙氧基丙基、甲氧乙氧基甲基、乙氧基乙氧基乙基、二甲氧基甲基、二乙氧基甲基、二甲氧基乙基、二乙氧基乙基等；作為鹵代烷基，可以舉出氯甲基、2，2，2-三氯乙基，三氟甲基、1，1，1，3，3，3-六氟2-丙基等。另外，對于烷基氨基或二烷基氨基的烷基、烷氧基羰基烷基、烷基氨基羰基烷基、烷氧基磺?；榛械耐檠趸⑼榛?，可以舉出與上述的烷基或烷氧基烷基的烷氧基等相同的取代基。
取代或未取代的芳基中，作為未取代的芳基，可以舉出苯基、萘基、聯(lián)苯基等，所謂取代芳基是指上述未取代的芳基的至少一個氫被各種官能團取代而得到的基團。
例如，作為取代苯基，可以舉出氯代苯基、二氯苯基、三氯苯基、溴代苯基、氟代苯基、五氟苯基、碘代苯基等鹵代苯基；甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、乙苯基，二甲基乙基苯基、異丙基苯基、叔丁基苯基、叔丁基甲基苯基、辛基苯基、壬基苯基、三氟甲基苯基等烷基衍生物取代苯基； 甲氧基苯基、乙氧基苯基、丙氧基苯基、異丙氧基苯基、己基氧苯基、環(huán)己基氧苯基、辛基氧苯基、2-乙基己基氧苯基、3，5，5-三甲基己基氧苯基、甲基乙氧基苯基、二甲氧基苯基、1-甲氧基-5-乙氧基苯基、1-甲氧基-2-乙氧基苯基、1-甲氧基-3-乙氧基苯基、1-甲氧基-4-乙氧基苯基、1-乙氧基-2-甲氧基苯基、2-甲氧基-3-乙氧基苯基、2-甲氧基-4-乙氧基苯基、2-甲氧基-5-乙氧基苯基、1-乙氧基-4-甲氧基苯基、2-甲氧基-3-乙氧基苯基、二乙氧基苯基、乙氧基乙氧基苯基、二(乙氧基乙氧基)苯基、乙氧基乙氧基乙氧基苯基、二(乙氧基乙氧基乙氧基)苯基、3-甲氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-甲氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-乙氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-乙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-丙氧基-4-(2-甲氧乙氧基)苯基、3-丙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-異丙氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-異丙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、2-(2-羥基)-3-甲氧基苯基、3-甲氧基-4-(2-羥基乙氧基)苯基、氯代甲氧基苯基、氯代乙氧基苯基等烷氧基取代苯基； 甲基硫代苯基、乙基硫代苯基、叔丁基硫代苯基、二叔丁基硫代苯基、2-甲基-1-甲基硫代苯基等烷基硫代取代苯基；N，N-二甲基氨基苯基、N，N-二乙基氨基苯基、N，N-二丙基氨基苯基、N，N-二丁基氨基酸苯基、N，N-二戊氨基氨基苯基、N，N-二己基氨基苯基、N-甲基-N-乙基-氨基苯基、N-丁基-N-乙基氨基苯基、N-己基-N-乙基氨基苯基、4-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基、4-(N，N-二乙基氨基)-乙基苯基、3-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基、2-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基等烷基氨基苯基等。
另外，作為取代萘基，可以舉出氯萘基、二氯萘基、三氯萘基、溴萘基、氟萘基、五氟萘基、碘代萘基等鹵代萘基；乙基萘基、二甲基乙基萘基、異丙基萘基、叔丁基萘基、叔丁基甲基萘基、辛基萘基、壬基萘基、三氟甲基萘基烷基衍生物取代萘基；甲氧基萘基、乙氧基萘基、丙氧基萘基、己基氧萘基、環(huán)己基氧萘基、辛基氧萘基、2-乙基己基氧萘基、3，5，5三甲基己基氧萘基、甲基乙氧基萘基、二甲氧基萘基、氯甲氧基萘基、乙氧基乙氧基萘基、乙氧基乙氧基乙氧基萘基等烷氧基取代萘基；甲基硫代萘基、乙基硫代萘基、叔丁基硫代萘基、甲基乙基硫代萘基、丁基甲基硫代萘基等烷基硫代取代萘基；N，N-二甲基氨基萘基、N，N-二乙基氨基萘基、N，N-二丙基氨基萘基、N，N-二丁基氨基酸萘基、N，N-二戊氨基氨基萘基、N，N-二己基氨基萘基、N-甲基-N-乙基氨基萘基、N-丁基-N-乙基氨基萘基、N-己基-N-乙基氨基萘基、4-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基、4-(N，N-二乙基氨基)-乙基萘基、3-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基、2-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基等烷基氨基萘基。
作為取代或未取代的芳基，除了這些以外，可以舉出取代或未取代的對硝苯基、取代或未取代的吡啶基、取代或未取代的吡咯烷基、取代或未取代的哌啶基、取代或未取代的嗎啉基、取代或未取代的四氫吡啶基、取代或未取代的硫代苯基、取代或未取代的咪唑啉基、取代或未取代的呋喃基等。
通式(17)所表示的二硫醇金屬配位化合物的R11～R14表示的取代基中，特別優(yōu)選的是各自可以相同或不同的烷基、苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、乙基苯基、二甲基苯基、異丙基苯基、叔丁基苯基、叔丁基甲基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、丙氧基苯基、N，N-二甲基氨基苯基、N，N-二乙基氨基苯基、N，N-二丁基氨基苯基、乙基萘基、二甲基乙基萘基、異丙基萘基、叔丁基萘基、叔丁基甲基萘基、甲氧基萘基、乙氧基萘基、丙氧基萘基、甲基硫代萘基、乙基硫代萘基、叔丁基硫代萘基、甲基乙基硫代萘基、丁基甲基硫代萘基、N，N-二甲基氨基萘基、N，N-二乙基氨基萘基、N，N-二丙基氨基萘基、N，N-二丁基氨基萘基等碳原子數(shù)為3～20的取代或未取代的烷基、苯基或萘基，另外，特別優(yōu)選M為鎳。
這些由通式(17)表示的二硫醇金屬配位化合物的特征是，在800～900nm的近紅外線區(qū)域中有極大吸收，而且在可見光區(qū)域的吸收小。因此，可以通過使其與二亞銨系化合物組合，兩者的相成效果在800～1000nm的近紅外線區(qū)域中產(chǎn)生效率良好的吸收遮蔽，因此可以吸收由等離子顯示器中發(fā)出的無用的近紅外線。另外，已知通常二亞銨系化合物與其他色素混合時其耐熱性會明顯下降，但在與二硫醇金屬配位化合物混合時，二亞銨系化合物的耐熱性下降的程度較少，從該觀點來說，優(yōu)選兩者并用。
二硫醇金屬配位化合物向構(gòu)成本發(fā)明中電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑中的添加量根據(jù)所使用的二硫醇金屬配位化合物的近紅外線吸收能。粘著劑的膜厚、要求的吸收能而決定。如果吸收能為一定時，則需要在粘著劑中多添加二硫醇金屬配位化合物，相反地，如果形成的近紅外線吸收層的膜厚很厚時，粘著劑中的二硫醇金屬配位化合物的添加物可以為少量。即，可以根據(jù)所要求的近紅外線吸收能，來決定粘著劑中的二硫醇金屬配位化合物的量以及被形成的近紅外線吸收層的膜厚。例如，如果吸收能為一定時，若形成的近紅外線吸收層的膜厚較薄時，需要在粘著劑中多添加二硫醇金屬配位化合物，相反地，若形成的近紅外線吸收層的膜厚很厚時，粘著劑中的二硫醇金屬配位化合物的添加量可以是少量。即，可以根據(jù)所要求的近紅外線吸收能，來決定粘著劑中的二硫醇金屬配位化合物的量以及形成的近紅外線吸收層的膜厚。
二硫醇金屬配位化合物的添加量，具體來說，相對于通過本發(fā)明的粘著劑形成的近紅外線吸收層的單位面積每1m2，優(yōu)選為1～1000mg，更優(yōu)選為5～500mg。例如，使其為相對于構(gòu)成粘著劑的樹脂的配合量時，相對于構(gòu)成粘著劑的樹脂100重量份，優(yōu)選配合0.05～10重量份的酞菁系化合物，更優(yōu)選配合0.2～5重量份。二硫醇金屬配位化合物的配合量小于上述范圍時，優(yōu)選相應(yīng)地加厚近紅外線吸收層的膜厚以達到希望的近紅外線吸收能。另一方面，二硫醇金屬配位化合物的配合量若超過上述范圍時，可見光透過率降低，所以優(yōu)選使近紅外線吸收層的膜厚相應(yīng)地變薄。
另外，使通式(1)所表示的二亞銨系化合物、通式(16)表示的酞菁系化合物和通式(17)所表示二硫醇金屬配位化合物的配合比以該順序為10∶1∶1～1∶1∶1(重量比)時，可以高效率地吸收近紅外線區(qū)域的波長，因此優(yōu)選。
通過使構(gòu)成本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑中含有近紅外線吸收物，可以使電磁波屏蔽層具有可同時遮蔽電磁波與近紅外線的功能。因此，例如構(gòu)成等離子顯示器的表面面板時，可以省略作為另一層而設(shè)置的近紅外線吸收層，因此有助于顯示器的薄型化。進而，還可提高電磁波屏蔽構(gòu)件的耐光性。
本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑中優(yōu)選含有顏色修正物。顏色修正物是用于修正顯示器顯示色的顏色平衡的物質(zhì)，通常使用色修正用色素。顏色修正用色素，可以舉出例如就等離子顯示器來說，可遮斷從氖等發(fā)出的波長580～610nm的橙光的物質(zhì)等。作為顏色修正用色素，可以根據(jù)用途使用各種色素，可以舉出花青(聚甲炔)系、醌系、偶氮系、靛藍系、多烯系、螺環(huán)(スピロ)系、卟啉系、酞菁系、萘酞菁系、花青系等色素，但不限于此。另外，就等離子顯示器來說，為了阻隔從氖等發(fā)出的波長為580～610nm橙光，可以使用花青系、卟啉系、吡咯甲川(pyrromethene)系等。
本發(fā)明的電磁波性光透過構(gòu)件的粘著劑優(yōu)選配合具有中性灰(ニュ一トラルグレ一neutral grey)的ND過濾器功能的化合物。
本發(fā)明的電磁波性光透過構(gòu)件，優(yōu)選至少將一側(cè)的剝離膜剝下，如圖2所示，粘貼于光學(xué)過濾器的透明基材5上，作為光學(xué)過濾器來使用。
所述透明基材5，除了保持電磁波屏蔽材料的目的以外，也可賦予等離子顯示器等光學(xué)過濾器本身以機械強度。因此透明基材是用具有高剛性的透明材料制造的。作為高剛性的透明材料，例如可以舉出玻璃、塑料材料。具體來說，優(yōu)選使用強化或半強化玻璃、聚碳酸酯材料、聚丙烯酸酯材料。平衡強度和重量觀點來看，透明基材的厚度優(yōu)選為0.1mm～10mm，更優(yōu)選為2～5mm。
本發(fā)明的光學(xué)過濾器用于例如等離子顯示器時，光學(xué)過濾器優(yōu)選包含具有防止等離子顯示器面板破損、阻隔近紅外線、提高視覺辨識性等的光學(xué)功能與電磁波屏蔽功能的層。另外，也可以通過賦予機械強度而賦予保護等離子顯示器本身功能。具體來說，光學(xué)過濾器中優(yōu)選形成從硬涂層、防反射層、防眩光功能層、顏色修正層、ND過濾器層、近紅外線吸收層中選出的至少一種以上的功能層。此外，也可以進一步設(shè)計防靜電層與紫外線吸收層。這些層可以以任意順序?qū)盈B，也可層疊兩層以上的相同功能層。
上述光學(xué)過濾器的硬涂層可以防止等離子顯示器等的表面受到損傷，優(yōu)選由活性能量線固化型或熱固化性樹脂形成。本發(fā)明中，考慮到涂膜的硬度，優(yōu)選使用活性能量線(尤其是紫外線)固化型的樹脂。作為樹脂的組成，例如優(yōu)選由各種的(甲基)丙烯酸酯類、光聚合引發(fā)劑以及根據(jù)需要的以有機溶劑為主成分的涂層而形成。作為各種(甲基)丙烯酸酯類的優(yōu)選物質(zhì)，可以舉出聚氨酯(甲基)丙烯酸酯或環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸酯，或其它的多官能(甲基)丙烯酸酯類。
上述環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯，是將環(huán)氧樹脂的環(huán)氧基以(甲基)丙烯酸進行酯化而以(甲基)聚丙烯酰基做為官能團的物質(zhì)，例如可舉出對雙苯酚A型環(huán)氧樹脂的(甲基)丙烯酸加成物，及對酚醛清漆型環(huán)氧樹脂的(甲基)丙烯酸加成物等。
作為聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，例如可以通過將多元醇和多異氰酸酯在異氰酸酯基過剩的條件下反應(yīng)形成的含有異氰酸酯基的聚氨酯預(yù)聚物與含有羥基的(甲基)丙烯酸酯類反應(yīng)而得到。另外，也可以通過將多元醇與多氰酸酯在羥基過剩的條件下反應(yīng)得到的含有羥基的聚氨酯預(yù)聚物與含有異氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯類反應(yīng)而可得到。
作為上述的多元醇，可舉出例如乙二醇、丙二醇、二甘醇、二丙二醇、丁二醇、1，6-己二醇、3-甲基-1，5-戊二醇、新戊二醇、己三醇、三羥甲基丙烷、聚四亞甲基二醇、己二酸與乙二醇的縮聚物等。
另外，作為上述的多異氰酸酯，例如可以舉出甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等。
另一方面，作為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯類，例如可以舉出2-羥基乙基丙烯酸酯、2-羥基丙基丙烯酸酯、4-羥基丁基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯等。
另外，作為具有異氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯類，例如可以舉出2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯、甲基丙烯?；惽杷狨サ?。
進而，其它的多官能(甲基)丙烯酸酯類，是在分子內(nèi)具有2個以上的(甲基)丙烯?；奈镔|(zhì)，優(yōu)選是在分子內(nèi)具有3個以上的丙烯?；奈镔|(zhì)。具體例示其他的多官能(甲基)丙烯酸酯類的話，可舉出三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸、三(丙烯酰氧乙基)異氰脲酸酯、己內(nèi)酯改性三(丙烯酰氧乙基)異氰脲酸酯、季戊四醇三丙烯酸、季戊四醇四丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯，以及它們的2種以上的混合物。
另外，作為形成上述硬涂層時所使用的光聚合引發(fā)劑，可以舉出苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、二乙氧基苯乙酮、苯偶酰二甲基縮酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮，二苯甲酮，2，4，6-三甲基苯偶姻二苯基膦氧化物，米希勒酮，N，N-二甲基氨基安息香酸異戊酯，2-氯噻噸酮，2，4-二乙基噻噸酮等。這些光聚合引發(fā)劑也可以適當并用2種以上。
另外，作為有機溶劑，可以舉出甲苯、二甲苯等芳香族烴類；醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯等酯類；甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等酮類；2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇甲基醚等醚類；2-甲氧基乙酸乙酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-丁氧基乙酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等醚酯類等。另外，也可以將這些有機溶劑2種以上混合使用。
另外，在硬涂層的涂敷劑中，除了上述成分外，為了提高耐磨耗性，也可以添加膠態(tài)狀金屬氧化物、有機溶劑作為分散介質(zhì)的二氧化硅溶膠等。
上述硬涂層可以通過涂布上述的涂布液而得到。
作為涂布法，可以使用棒涂法、刮刀涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、反向涂布法、模涂法、噴涂法、輥涂法、凹板涂布法、模唇涂布法(lip-coating)、氣刀涂布法、浸漬涂布法等。
涂布完涂布液之后，使溶劑干燥，使涂敷劑交聯(lián)固化，從而得到硬涂層。若涂布液是紫外線、電子射線等的活性能量線固化型的話，則交聯(lián)作用固化是通過照射活性能量線而進行的。作為活性能量線，可以使用從氙燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、碳弧燈、鎢燈等光源發(fā)出的紫外線，或通常從20～2000KeV的電子射線加速器射出的電子射線、α射線、β射線、γ射線等。如此形成的防損傷層的厚度通常為1～50μm，優(yōu)選為3～20μm。
上述防反射層的意思是賦予防止反射或降低反射的功能的層，是以防表面反射、提高可見光透過率為目的而設(shè)計的，可使用以往公知的形成防反射層的任何方法來形成。作為形成防反射層的方法，例如通常的方法有在支持體的單面或雙面形成薄膜的低折射率層，或折射率不同的多層薄膜，借助薄膜的表面反射光與界面的折射反射光的光干涉而降低反射率的方法等，作為具體的層結(jié)構(gòu)的例子，可以舉出折射率1.2～1.45的低折射率層單層、折射率1.7～2.4的高折射率層與低折射率層交替組合的結(jié)構(gòu)，折射率1.5～1.9的中折射率層與折射率1.7～2.4的高折射率層與低折射率層組合的結(jié)構(gòu)等。
作為上述低折射率層，可使用MgF2(折射率為約1.4)、SiO2(折射率為約1.2～1.5)、LiF(折射率為約1.4)等金屬化合物或者3NaF·AlF3(折射率為約1.4)、Na3AlF6(折射率為約1.33)等復(fù)合金屬化合物。另外，作為中折射率層，可使用Al2O3(折射率為約1.65)、MgO(折射率為約1.63)等金屬化合物或者Al-Zr復(fù)合氧化物(折射率為約1.7～1.85)等復(fù)合金屬化合物。進而，作為高折射率層，可使用TiO2(折射率為約2.3)、ZrO2(折射率為約2.05)、Nb2O5(折射率為約2.25)、Ta2O5(折射率為約2.15)、CeO(折射率為約2.15)、Sb2O5、有機處理后的銀化合物等金屬化合物或者In-Sn復(fù)合氧化物(折射率為約1.7～1.85)等復(fù)合金屬化合物。
這些光學(xué)層可使用真空蒸鍍法、濺鍍法、化學(xué)蒸鍍法(CVD法)、反應(yīng)性濺鍍法、離子電鍍法(ion plating)、電鍍法等公知方法來形成。
另外，在形成防反射層時，可用包含上述金屬化合物或復(fù)合金屬化合物的粒子分散于基質(zhì)中得到的物質(zhì)來形成層。例如，作為低折射率層，可以使用MgF2、SiO2等低折射微粒分散于紫外線和電子射線固化型樹脂和硅氧烷系的基質(zhì)中得到的物質(zhì)。低折射微粒為多孔質(zhì)則折射率變得更低，因此優(yōu)選。具體例舉由分散于基質(zhì)中的低折射微粒形成的低折射率層的例子的話，可以舉出按照使膜厚為0.01～1μm來涂布含有低折射微粒的基質(zhì)，根據(jù)需要，進行干燥處理、紫外線照射處理、電子射線照射處理的方法。而涂布作業(yè)的方法，可用習(xí)知公開的方法，例如可以使用采用棒、金屬棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模頭涂布法、簾式涂布法、模唇涂布法、縫隙涂布法等各種涂布法。
上述防眩光功能層是通過使外光漫反射而使視覺反射率降低，防止閃耀。防眩光功能層，例如通常由包含樹脂粘合劑與微粒的層所構(gòu)成。作為用于構(gòu)成防眩光功能層的微粒，可以舉出二氧化硅、丙烯酸、聚氨酯、密胺等粒徑為0.1～10μm左右的微粒等。另外，作為樹脂粘合劑，可使用丙烯酸系等熟知。防眩光功能層，例如可以通過涂布含有樹脂、粒子、溶劑等的涂布液來形成。作為涂布方法，可使用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金屬棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模頭涂布法、簾式涂布法、模唇涂布法、縫隙涂布法等各種涂布法的各種涂布方法皆可。另外，防眩光功能層也可以通過對樹脂粘合劑層施以壓紋整理而形成。其中，通過將上述微粒混入上述硬涂層，或者通過對上述硬涂層表面施以壓紋整理，也可以賦予防眩光功能。
上述顏色修正層是用于修正顯示色的顏色平衡的層，例如可以舉出等離子顯示器中，阻隔從氖等射出的波長為580～610nm的橙光的層等。顏色修正層含有樹脂粘合劑和/或顏色修正用色素而成。
作為顏色修正層中使用的粘合劑樹脂，可以舉出丙烯酸系、聚酯系、聚碳酸酯系、聚氨酯系、聚烯烴系、聚酰亞胺系、聚酰胺系、聚苯乙烯系、環(huán)烯烴系、聚丙烯酸酯系(ポリァリレ一ト)、聚砜系等樹脂。
作為顏色修正用色素，可以根據(jù)用途使用各種物質(zhì)，可以舉出花青(聚甲炔)系、醌系、偶氮系、靛藍系、多烯系、螺環(huán)系、卟啉系、酞菁系、萘酞菁系、花青系等色素，但是并非限定于此。另外，就等離子顯示器來說，為了阻隔從氖等發(fā)出的波長為580～610nm的橙光，可以使用花青系、卟啉系、吡咯甲川系等。
顏色修正層可以通過涂布上述的含有樹脂粘合劑和/或顏色修正用色素等的涂布液而形成。作為涂布方法可用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金屬棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模頭涂布法、簾式涂布法、模唇涂布法、縫隙涂布法等各種涂布法或者壓延法、鑄造法。
另外，也可以將顏色修正用色素混入所述的硬涂層、防眩光層、防靜電層等來使用。從而可以使這些層具有顏色修正功能。另外，在顏色修正層中，也可以同時混入近紅外線吸收劑與紫外線吸收劑。
另外，在光學(xué)過濾器中，也可設(shè)置具有中性灰的ND過濾器功能的層。作為ND濾層，只要是透過率為40～80％左右的層即可，而且可以使用公知材料以及公知方法來形成。在等離子顯示器、CRT、螢光顯示管、電場放射型顯示器這樣的使用螢光體的顯示裝置中，通過在已涂布的螢光體上照射電子射線或紫外線而使螢光體發(fā)光，借助透過或反射螢光面的光線來進行顯示。一般而言螢光體是白色，反射率高，所以在螢光面上的外光的反射較多。因此，以往的問題是，在使用有螢光體的顯示裝置中，由于外部光線的射入而顯示對比度下降。通過設(shè)置ND濾層可以減少該問題。
上述近紅外線吸收層，只要是具有近紅外線吸收功能，在400～800nm為止的波長區(qū)域的透過率高，在800～1200nm的波長區(qū)域的透過率低的物質(zhì)即可。作為近紅外線吸收層，可以使用在樹脂粘合劑中混入近紅外線吸收性色素或顏料的物質(zhì)，或可以使用In-Sn復(fù)合氧化物等近紅外線吸收性薄膜。作為這樣的近紅外線吸收劑，可以舉出二亞銨系、酞菁系、二硫醇金屬配位化合物系、花青系、金屬配位化合物系、金屬微粉、金屬氧化微粉等，包括樹脂在內(nèi)的組合是任意的，但優(yōu)選使用在本說明書的上文中作為構(gòu)成電磁波異蔽性光透過構(gòu)件的粘著劑中所添加的近紅外線吸收物而詳細記載的近紅外線吸收劑。
作為近紅外線吸收層中使用的粘合劑樹脂，可以舉出丙烯酸系、聚酯系、聚碳酸酯系、聚氨酯系、聚烯烴系、聚酰亞胺系、聚酰胺系、聚苯乙烯系、環(huán)烯烴系、聚丙烯酸酯系、聚砜系等樹脂。
近紅外線吸收層可以通過涂布含有上述材料的涂布液來形成。作為涂布方法，可使用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金屬棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模頭涂布法、簾式涂布法、模唇涂布法、縫隙涂布法等各種涂布法或者壓延法，鑄造法。
另外，也可以將近紅外線吸收劑混入所述的硬涂層、防眩光層、防靜電層等來使用。
進而，需要的話，也可以設(shè)置防靜電層與紫外線吸收層。這些防靜電層與紫外線吸收層中使用的防靜電劑、粘合劑樹脂等可以使用以往用于形成防靜電層與紫外線吸收層的公知的物質(zhì)，利用公知的方法來形成。也可以將防靜電劑與紫外線吸收劑混入所述的硬涂層、防眩光層、顏色修正層、ND濾層、近紅外線吸收層等來使用。
光學(xué)過濾器有直接粘貼于等離子顯示器面板等上的直接粘貼型光學(xué)過濾器，以及粘貼于具有高剛性的透明基材而設(shè)置于等離子顯示器面板等的前面的帶透明基材的光學(xué)過濾器。本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件粘貼于根據(jù)需要設(shè)置有上述1個以上的功能層的直接粘貼型光學(xué)過濾器或透明基材。如此形成具有電磁波屏蔽功能的光學(xué)過濾器。電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘貼如下進行如上所述，剝掉電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的剝離膜1、4的一片，使露出的粘著劑層與光學(xué)過濾器的設(shè)置有上述1個以上功能層的透明基材重合，進行加壓。電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的電磁波屏蔽層向光學(xué)過濾器的粘貼，優(yōu)選直接接觸光學(xué)過濾器的透明基材來進行粘貼，但也可以粘貼于設(shè)置有上述功能層的面上。另外上述功能層也可在電磁波屏蔽層粘貼于光學(xué)過濾器基材后再進行設(shè)置。
另外，本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，優(yōu)選剝掉1片剝離膜，將露出的粘著層直接粘貼于等離子顯示器面板等顯示器面板上，作為帶電磁波屏蔽的顯示器面板來使用。上述所謂等離子顯示器面板是指在等離子顯示器構(gòu)件內(nèi)利用放電現(xiàn)象來發(fā)光的發(fā)光體單元。
進而，優(yōu)選在本發(fā)明的帶電磁波屏蔽的等離子顯示器面板等顯示器面板上，形成從硬涂層、防反射層、防眩光功能層、顏色修正層、近紅外線吸收層等中選出的一個以上的功能層。這些功能層，可以在使用本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件在顯示器面板上設(shè)置了電磁波屏蔽層后，進而設(shè)置在該層上，或者也可以通過將設(shè)置有所述功能層的光學(xué)過濾器粘貼于通過本發(fā)明而設(shè)置于顯示器面板上的電磁波屏蔽層上，來進行粘貼。另外，上述功能層也可以層疊于電磁波屏蔽層與等離子顯示器面板等顯示器面板中間。
以上，關(guān)于電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件、光學(xué)過濾器，利用本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件形成電磁波屏蔽層的等離子顯示器面板等顯示器面板進行了詳細說明，以下說明本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法。
本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法的特征為，以任意順序進行下述工序(1)～(7)，并且至少進行一次活性能量線照射 (1)通過活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼金屬箔與基材膜的工序； (2)利用所述金屬箔的選擇性蝕刻來形成金屬網(wǎng)格的工序； (3)所述金屬箔或金屬網(wǎng)格的表面進行黑化處理的工序； (4)通過粘著劑來粘貼含有基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑和金屬網(wǎng)格而成的層疊體(以下稱為附網(wǎng)格粘著片)的金屬網(wǎng)格面和轉(zhuǎn)印用支持體的工序； (5)將所述基材膜從所述金屬網(wǎng)格剝離的工序； (6)下述(6a)或(6b)的任一項工序 (6a)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜粘貼的工序； (6b)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜上涂有粘著劑的層疊體的粘著劑面粘貼的工序； (7)將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑中的工序。
在本發(fā)明，上述工序可以任意順序進行，但是通常會按照工序(1)、(2)(4)、(5)、(6)、(7)的順序來進行。另外，工序(3)的金屬箔的黑化處理通常在工序(1)、(2)間，另外工序(3)的金屬網(wǎng)格的黑化處理通常會在工序(2)、(4)間進行。
本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法中，至少進行一次活性能量線照射。該活性能量線的照射至少包括用于使設(shè)置于金屬箔與基材膜之間的活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力變?nèi)?，將金屬網(wǎng)格從基材膜剝落而進行的照射，包括從包含基材膜、活性能粘著力消失型粘著劑和金屬箔的網(wǎng)格形成片的基材膜側(cè)照射活性能量線。對該活性能量線粘著力消失型粘著劑的活性能量線照射可以在基材膜粘貼金屬箔后到進行網(wǎng)格剝離為止的任何時間進行，而且照射次數(shù)也可以是任意的。另外，活性能量線的照射可與各工序的處理同時進行，也可以作為與各工序不同的另外的工序進行。即，活性能量線的照射可以在工序的各階段或在轉(zhuǎn)印片粘合前、同時、之后的各工序中進行，該照射也可以是多次。
另外，從基材膜一側(cè)的活性能量線的照射是必須的，但此外也可以從網(wǎng)格一側(cè)進行照射。
作為本發(fā)明中所使用的活性能量線，可以舉出電子射線、紫外線、放射線等電磁波，本發(fā)明中優(yōu)選紫外線。紫外線照射可以利用金屬鹵化物燈、高壓水銀燈、無極電燈、氙燈、半導(dǎo)體激光、Ar激光、脈沖UV燈、發(fā)光二極燈等公知的光源來進行。
本發(fā)明的活性能量線照射可以進行1次或多次。其累積照射量只要是能使性能線粘著力消失型粘著劑的粘著力下降的照射量即可，并無特別限制，但紫外線的情況下優(yōu)選為20～3000mJ/cm2，更優(yōu)選為50～2000mJ/cm2。小于20mJ/cm2的照射量，則通常難以使活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力消失，超過3000mJ/cm2的照射在經(jīng)濟上不劃算。
以下，參照圖3～圖7來進一步說明各工序。(1)的工序具體來說是使用活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼了金屬箔與基材膜的網(wǎng)格形成片的制作工序。
網(wǎng)格形成片10，如圖3所示，由基材膜11、活性能量線粘著力消失型粘著劑12、金屬膜13層疊而成的層疊體形成。上述用于制作網(wǎng)格形成片10的基材膜11是，通過化學(xué)蝕刻由金屬箔形成作為電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的電磁波屏蔽材料的幾何圖形的金屬網(wǎng)格時作為支持體來使用的物質(zhì)，其可以是撓性的，也可以是非撓性的。該基材膜是在電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件形成工序中可以被任意去除的物質(zhì)。因此，在化學(xué)蝕刻金屬箔時，不存在溶解于蝕刻液中妨礙蝕刻等的問題，并且只要是能夠透過活性能量線的材料即可，但優(yōu)選為塑料。作為塑料材料，具體可以舉出已經(jīng)在上述構(gòu)成電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的剝離膜的說明中作為構(gòu)成剝離膜的樹脂的例子被舉出的樹脂等，從價格和處理性來說，優(yōu)選PET膜。
工序(1)中的活性能量線粘著力消失型粘劑12，是一種通過照射活性能量線而降低粘著力的粘著劑，在形成于基材膜上的活性能量線粘著力消失型粘著劑12上重疊金屬箔13，通過加壓使金屬箔與基材膜粘接。作為活性能量線粘著力消失型粘著劑12，適宜使用含有反應(yīng)性官能團的彈性聚合物、活性能量線反應(yīng)性化合物、光聚合引發(fā)劑以及固化劑的物質(zhì)。另外，活性能量線粘著力消失型粘著劑中，可以配合公知的賦予粘著性的樹脂(例如松香酯)、無機微?；衔?例如平均粒徑為20μm以下的二氧化硅化合物)、阻聚劑(例如對苯二酚)、防銹劑、增塑劑、紫外線吸收劑等。
作為構(gòu)成上述活性能量線粘著力消失型粘著劑的有反應(yīng)性官能團的彈性聚合物，作為優(yōu)選的物質(zhì)可以舉出丙烯酸系聚合物與聚氨酯系聚合物，另外，作為反應(yīng)性官能團，可以舉出羧基、羥基、酰胺基、縮水甘油基、異氰酸酯基等。
作為上述的丙烯酸系聚合物，例如可以使用(C)具有反應(yīng)性官能團的單體與其它的(甲基)丙烯酸酯單體的共聚物，(D)具有反應(yīng)性官能團的單體、其它的(甲基)丙烯酸酯單體和能夠與所述單體共聚的其它乙烯基單體的共聚物。這些丙烯酸系聚合物可以用公知的方法合成。丙烯酸系聚合物，為了賦予粘著性，優(yōu)選其玻璃化轉(zhuǎn)變點為10℃以下。另外，丙烯酸系聚合物的重均分子量(使用凝膠滲透色譜法和標準聚苯乙烯的標準曲線測定的。以下同樣)，從粘著力與凝集力的均衡來看，優(yōu)選為20萬～200萬，更優(yōu)選為40～160萬。
作為用于構(gòu)成上述共聚物的具有反應(yīng)性官能團的單體，可以舉出丙烯酸、甲基丙烯酸酸、衣康酸、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯基酸-4羥基丁酯、丙烯酸酰胺、甲基丙烯酸縮水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯等。
另外，作為其它的(甲基)丙烯酸酯單體，可以舉出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲基氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯等。
作為能夠與所述(甲基)丙烯基酯單體共聚的其它的乙烯基單體，可以舉出醋酸乙烯基、苯乙烯、α-甲苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另一方面，作為第2粘接或粘著劑所使用的聚氨酯系聚合物，例如可以舉出使多元醇與有機多異氰酸酯反應(yīng)得到的末端羥基的聚氨酯多元醇與有機多異氰酸酯反應(yīng)得到聚合物。
作為制造上述聚氨酯系聚合物時使用的多元醇，可以舉出公知的聚酯多元醇和聚醚多元醇。作為聚酯多元醇的酸成分，可以舉出對苯二甲酸、己二酸、壬二酸等；作為二元醇成分，可以舉出乙二醇、丙二醇、二甘醇等；作為多元醇成分，可以舉出甘油、三羥甲基丙烷、季戊四醇等。作為聚醚多元醇，可以使用聚丙二醇、聚乙二醇、聚四亞甲基二醇等官能團數(shù)為2個以上的物質(zhì)。聚酯多元醇和聚醚多元醇的重均分子量，優(yōu)選為1000～5000，更優(yōu)選為2500～3500。重均分子量為1000以下的聚酯多元醇和聚醚多元醇，反應(yīng)快，容易凝膠化；5000以上的聚酯多元醇和聚醚多元醇，反應(yīng)性變低，凝集力也變低。使多元醇和有機多異氰酸酯反應(yīng)時，也可以并用多元胺類。
作為上述有機多異氰酸酯，可以舉出公知的芳香族多異氰酸酯、脂肪族多異氰酸酯、芳香脂肪族多異氰酸酯、脂環(huán)族多異氰酸酯等。作為芳香族多異氰酸酯，可以舉出有1，3-苯二異氰酸酯、4，4-二苯基異氰酸酯、2，4-甲苯二異氰酸酯、2，6-甲苯二異氰酸酯、4，4-二苯基甲烷二異氰酸酯等。作為脂肪族多異氰酸酯，可以舉出三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等。作為芳香脂肪族多異氰酸酯，可以舉出ω，ω’-二異氰酸酯-1，3-二甲苯、ω，ω’-二異氰酸酯-1，4-二甲苯、ω，ω’-二異氰酸酯-1，4-二乙基苯等。作為脂肪族多異氰酸酯，可以舉出有異佛爾酮二異氰酸酯、1，3-環(huán)戊烷二異氰酸酯、1，4-環(huán)己烷二異氰酸酯等。上述有機多異氰酸酯中，也可以并用上述有機多異氰酸酯的三羥甲基丙烷加合物、與水反應(yīng)得到的縮二脲、具有異氰脲酸酯環(huán)的三聚物等。
聚氨酯系聚合物的重均分子量，從粘著力和凝集力的平衡點來看，優(yōu)選5,000～300,000，更優(yōu)選為10,000～200,000。
進而，作為構(gòu)成活性能量線粘著力消失型粘著劑的活性能量線反應(yīng)性化合物，可以舉出借助活性能量線照射而進行3維交聯(lián)的單體和低聚物。優(yōu)選這些為分子內(nèi)具有2個以上的丙烯酰基或甲基丙烯?；奈镔|(zhì)。活性能量線反應(yīng)性化合物的使用量，相對于丙烯酸系聚合物或聚氨酯系聚合物100重量份，優(yōu)選為20～500重量份，更優(yōu)選為40～300重量份。小于20重量份時，則活性能量線照射后粘著力的下降可能并不充分，超過500重量份時，可能會發(fā)生未反應(yīng)成分引起的污染。
作為借助上述活性能量線照射而進行3維交聯(lián)的單體，例如可以舉出1，6-己二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等，但用作本發(fā)明中借助上述活性能量線照射而進行3維交聯(lián)的單體并不限于這些化合物，可以使用借助活性能量線照射而進行3維交聯(lián)的任何單體。
另外，作為借助上述活性能量線照射而進行3維交聯(lián)的低聚物，作為優(yōu)選物質(zhì)，可以舉出聚氨酯丙烯酸酯低聚物。作為聚氨酯丙烯酸酯低聚物，可以使用如下得到的物質(zhì)使聚醇例如乙二醇、丙二醇、1-6己二醇等與有機多異氰酸酯例如2，4-甲苯二異氰酸酯、2，6-甲苯二異氰酸酯、1，3-苯二甲基二異氰酸酯、1，4-苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷4，4-二異氰酸酯等，或這些的改性物或聚合物反應(yīng)得到末端異氰酸酯預(yù)聚物，進而使該末端異氰酸酯預(yù)聚物與具有羥基的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯例如丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、聚乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等反應(yīng)。另外，還可以舉出使末端異氰酸酯預(yù)聚合物與三羥甲基丙烷或季戊四醇等含有3～4個官能羥基的化合物反應(yīng)，增加末端羥基后，再與具有羥基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯反應(yīng)而得到的物質(zhì)，但所述聚氨酯丙烯酸酯低聚物并不限于由這些方法得到的物質(zhì)，也可以使用以公知的方法合成的任何聚氨酯低聚物。聚氨酯丙烯酸酯低聚物的重均分子量優(yōu)選為500～30,000，更優(yōu)選為600～20,000。聚氨酯丙烯酸酯低聚物優(yōu)選具有2～15個丙烯?；蚣谆；鼉?yōu)選具有4～15個，特別優(yōu)選具有6～15個。
另外，作為光聚合引發(fā)劑，例如可舉出二苯甲酮、苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、苯偶姻安息香酸、苯偶姻安息香酸甲酯、苯偶姻二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、2，4-二乙基噻噸酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、苯偶酰二苯基硫化物、偶氮雙異丁腈、苯偶酰、二苯偶酰、二乙酰、雙咪唑、β-氯蒽醌等，但是并不限定于這些，本發(fā)明中也可以使用公知的任何光聚合引發(fā)劑。
另外，使用高分子量化光聚合引發(fā)劑，對光聚合引發(fā)劑來說優(yōu)選具有對于蝕刻液或堿溶液等藥液的耐溶出性。高分子量化光聚合引發(fā)劑為重均分子量1000～200萬，優(yōu)選3000～200萬，更優(yōu)選5000～200萬，特別優(yōu)選1萬～200萬的高分子量化光聚合引發(fā)劑。重均分子量1000～200萬的高分子量化光聚合引發(fā)劑，因為分子量大，沒有對藥液的溶出。重均分子量小于1000時，可能發(fā)生光聚合引發(fā)劑溶出于藥液的情形，超過200萬時從粘度方面來看難以合成。
高分子量化光聚合引發(fā)劑為如下得到的光聚合引發(fā)劑具有反應(yīng)性官能團的光聚合引發(fā)劑，通過與能夠與所述反應(yīng)性官能團反應(yīng)的官能團的反應(yīng)而化學(xué)性地結(jié)合于低聚物或聚合物而得到；或者具有反應(yīng)性官能團的光聚合引發(fā)劑通過與能夠與所述反應(yīng)性官能團反應(yīng)的官能團的反應(yīng)而使其結(jié)合得到的單體聚合等，來使其高分子量化。
作為具有反應(yīng)性官能團的光聚合引發(fā)劑中的反應(yīng)性官能團，可以舉出羥基、羧基。作為具有羥基的光聚合引發(fā)劑，例如可以舉出1-(4-(2-羥基乙氧基)苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮等。作為具有羧基的光聚合劑，例如可以舉出二苯甲酮-2-羧酸等。具有反應(yīng)性官能團的光聚合引發(fā)劑中，優(yōu)選為1-(4-(2-羥基乙氧基)苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮。
作為高分子量化光聚合引發(fā)劑的合成方法，例如可以舉出以下方法使具有羥基的光聚合引發(fā)劑的羥基與多元酸酐(例如均苯四甲酸酐)的2個酸酐環(huán)反應(yīng)，進而，使其殘存的2個羧基與雙酚A的兩末端的縮水甘油基反應(yīng)，以多階段進行高分子量化。另外，還可以舉出以下方法對于具有2個羥基或2個羧基的光聚合引發(fā)劑，使前者與2官能的有機酸(例如己二酸)，后者與2官能的多元醇(例如乙二醇)反應(yīng)，通過合成聚酯使光聚合引發(fā)劑導(dǎo)入聚合物主鏈。
另外，作為其它的合成方法，可以舉出如下方法事前使具有羥基的光聚合引發(fā)劑的羥基與具有碳-碳雙鍵和異氰酸酯基團的化合物(例2-甲基丙烯酰氧基異氰酸酯)反應(yīng)，合成含有光聚合引發(fā)劑的單體，將其與其它的單體共聚來合成高分子量化光聚合引發(fā)劑的方法；使具有碳-碳雙鍵的酸酐(例如馬來酸酐或衣康酸酐等)的酸酐環(huán)與具有羥基的光聚合引發(fā)劑反應(yīng)后，與其它的單體共聚的方法；使具有碳-碳雙鍵和羧基的化合物(例如丙烯酸或甲基丙烯酸等)與具有羥基的光聚合引發(fā)劑反應(yīng)后，與其它的單體共聚的方法。另外，可以舉出使具有羧基的光聚合引發(fā)劑與具有碳-碳雙鍵的環(huán)氧化合物(例如甲基丙烯酸縮水甘油酯)反應(yīng)后，與其它的單體共聚的方法。
作為高分子量化聚合引發(fā)劑，使具有反應(yīng)性官能團的光重合引發(fā)劑與具有能夠與所述反應(yīng)性官能團反應(yīng)的官能團的、重均分子量3000～200萬的高分子量化合物反應(yīng)得到的物質(zhì)，即將光聚合引發(fā)劑接枝于高分子量化合物而得到的物質(zhì)，因其向蝕刻液等藥液的溶出少，因此優(yōu)選。
作為將光聚合引發(fā)劑接枝于高分子量化合物的方法，例如可以舉出以下方法使異佛爾酮二異氰酸酯的一個異氰酸酯基與具有羥基的光聚合引發(fā)劑反應(yīng)后，使另一個異氰酸酯基與高分子量化合物側(cè)的羥基反應(yīng)的方法；使具有羥基的光聚合引發(fā)劑與高分子量化合物側(cè)的異氰酸酯基反應(yīng)的方法；使具有羥基的光聚合引發(fā)劑與高分子量化合物側(cè)的酸酐環(huán)反應(yīng)的方法；使具有羧基的光聚合引發(fā)劑與高分子量化合物側(cè)的縮水甘油基反應(yīng)的方法；使具有羧基的光聚合引發(fā)劑與高分子量化合物側(cè)的羥基反應(yīng)的方法；但并不限于這些方法。
接枝有光聚合引發(fā)劑的高分子量化合物，優(yōu)選重均分子量為3000～200萬，優(yōu)選為丙烯酸系聚合物或聚氨酯系聚合物。丙烯酸系聚合物重均分子量優(yōu)選為3000～200萬。重均分子量小于3000時，難以控制合成時的分子量；超過200萬時，從粘度方面考慮，難以合成。聚氨酯系聚合物重均分子量優(yōu)選為2000～20萬。重均分子量小于2000時，難以控制合成時的分子量；超過20萬時，從粘度方面考慮，難以合成。
本發(fā)明的活性能量線粘著力消失型粘著劑中，優(yōu)選并用光聚合引發(fā)劑和增感劑。作為增感劑，可以舉出例如三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N-甲基嗎啉等，但是并不限定于此，可以使用公知的任何增感劑。
另外，固化劑是與具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物反應(yīng)而使粘著劑具有凝聚力的物質(zhì)，可以使用對反應(yīng)性官能團具有反應(yīng)性的異氰酸酯系化合物、環(huán)氧系化合物、氮雜環(huán)丙烷基系化合物等公知的多官能化合物。固化劑的使用量，只要考慮丙烯基單體的種類與粘著力來決定即可，并無特別限定，但相對于丙烯酸系樹脂100重量份，優(yōu)選添加0.1～15重量份，更優(yōu)選0.1～10重量份。小于0.1重量份則交聯(lián)度低，凝集力不夠；超過15重量份則對被粘著體的粘接力易變小，因此不適宜。
作為上述異氰酸酯化合物，可以舉出甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、間苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等二異氰酸酯或者這些的三羥甲基丙烷加合物、與水反應(yīng)得到的縮二脲、具有異氰脲酸酯環(huán)的三聚物等。
另外，作為環(huán)氧化合物，可以舉出山梨糖醇多縮水甘油醚、聚甘油多縮水甘油醚、季戊四醇多縮水甘油醚、雙甘油多縮水甘油醚、甘油多縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、間二甲苯二胺四縮水甘油醚及其加氫物等。
作為氮雜環(huán)丙烷基系化合物，可以舉出N，N’-二苯基甲烷-4，4-二(1-氮雜環(huán)丙烷羧酰胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮雜環(huán)丙烷基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮雜環(huán)丙烷基丙酸酯、N，N’-甲苯-2，4-二(1-氮雜環(huán)丙烷羧酰胺)三亞乙基密胺等。
作為網(wǎng)格形成片10的制造方法，例如可以舉出以下方法制作如圖4所示的包含基材膜11、活性能量線粘著力消失型粘著劑12、剝離膜6的層疊體7(不合電磁波屏蔽材料。以下稱為粘著片)，從該粘著片7將剝離膜6剝下，使活性能量線粘著力消失型粘著劑層面與金屬箔重合，進行金屬箔的粘合。此方法是，制成粘著片7之后，粘合粘著劑層與金屬箔的方法，與金屬箔的粘合是在活性能量線粘著力消失型粘著劑中使用的固化劑交聯(lián)結(jié)束后進行的。
例示粘著片7的制作方法，可以舉出例如以下二個方法。
第一個方法為，直接將活性能量線粘著力消失型粘著劑涂布于基材膜上，粘合剝離膜的方法。
第二個方法為，將活性能量線粘著力消失型粘著劑涂布于剝離膜上，使其與基材膜粘合的方法。
作為網(wǎng)格形成片10的制造方法，除上述方法之外，還可以舉出將活性能量線粘著力消失型粘著劑12涂布于基材膜11的一面，然后粘合金屬箔13的方法(涂布時金屬箔層壓法)。該涂布時金屬箔層壓法，不使用剝離膜，在活性能量線粘著力消失型粘著劑中使用的固化劑交聯(lián)開始后即刻進行金屬箔的粘貼，因此粘著劑的流動性高，與上述方法相比，與金屬箔的密合性高得多。因此，利用微平版印刷法的網(wǎng)格形成工序中，不易發(fā)生蝕刻液與抗蝕劑剝離液等藥液浸入粘著劑與金屬箔的界面而引起的金屬箔剝落。另外，這種涂布時金屬箔層壓法中，不需要后工序的剝離膜6的層壓，因此可以簡化工序從而降低成本，且由于不使用剝離膜而降低了成本。
涂布時金屬箔層壓法中，為了使金屬箔與粘著劑層能充分緊密粘接，根據(jù)需要，可以單獨使用加溫、加壓或真空條件或并用這些條件的2種以上，通過層壓平板壓制法來進行。
作為活性能量線粘著力消失型粘著劑的涂布方法，有間歇涂布、模唇涂布、簾式涂布、刮刀涂布、凹版涂布、吻式涂布、反向涂布以及微凹版涂布等，但不僅限于此。
活性能量線粘著力消失型粘著劑的厚度優(yōu)選為0.5μm～50μm左右。粘著劑的厚度若小于0.5μm則無法得到充分的接著性，若超過50μm則在經(jīng)濟上不利。
上述工序(2)具體來說，是通過微平版印刷法在金屬箔上形成作為電磁波屏蔽材料的金屬網(wǎng)格，進行抗蝕劑的剝離、中和的方法。其中，在金屬網(wǎng)格形成片的金屬箔上形成幾何圖形等的網(wǎng)格的方法如上文所述。在該工序中形成有金屬網(wǎng)格的金屬網(wǎng)格形成片15如圖5所示。在圖5中，11表示基材膜，12表示活性能量線粘著力消失型粘著劑，3表示作為電磁波屏蔽材料的金屬網(wǎng)格。
工序(3)是對金屬箔或金屬網(wǎng)格實施黑化處理的工序。黑化處理可以按照印刷配線板領(lǐng)域進行的公知方法，使用黑化處理液來實施。工序(3)中，可以在金屬箔上面或金屬網(wǎng)格上面及側(cè)面做黑化處理。使用銅箔作為金屬箔時，黑化處理例如可以是在亞氯酸鈉(31g/升)、氫氧化鈉(15g/升)，磷酸三鈉(12g/升)等的水溶液中，于95℃處理兩分鐘。但是，使用預(yù)先已黑化處理過的金屬箔時，工序(3)在工序(1)前進行，因此工序(2)后可以省略工序(3)。
工序(4)，將通過粘著劑2粘貼住的2片剝離膜1、8(以下稱為轉(zhuǎn)印片)的一面剝下來，粘貼到網(wǎng)格形成片的金屬網(wǎng)格面上的工序。圖6表示轉(zhuǎn)印片。轉(zhuǎn)印片9可以通過將粘著劑涂布于剝離膜1上，在該粘著劑2面上粘貼新的剝離膜8來制作。作為涂布粘著劑2于剝離膜1上的方法，可用與活性能量線粘著力消失型粘著劑的涂布方法一樣的公知方法。粘著劑是在電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件中說明的粘著劑，如上所述，也可以使用包含分子中具有羧基、羥基、氨基、縮水甘油基、氨基的至少1種以上的反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物，以及能夠與上述反應(yīng)性官能團反應(yīng)的固化劑的活性能量線固化型粘著劑。
轉(zhuǎn)印片9與形成有金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格形成片15的貼合如下進行將轉(zhuǎn)印片的一邊的剝離膜8剝下，將露出的粘著面與網(wǎng)格形成片15的網(wǎng)格粘貼。另外，粘貼時優(yōu)選使用層壓機。
工序(5)是將上述基材膜從上述金屬網(wǎng)格剝離的工序。圖7表示剝離金屬網(wǎng)格3的過程。在剝離工序前，從基材膜側(cè)照射活性能量線，使活性能性粘著力消失型粘著劑12的粘著力降低。該活性能量線的照射可以在轉(zhuǎn)印片粘貼于金屬網(wǎng)格之前進行，也可以在轉(zhuǎn)印片粘貼于金屬網(wǎng)格之后進行。通過活性能量線的照射，活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力充分降低的話，則可以容易地從形成有金屬網(wǎng)格上的電磁波屏蔽材料3上將基材膜11與活性能量線粘著力消失型粘著劑12剝下。被剝下的金屬網(wǎng)格3，負載于轉(zhuǎn)印片的粘著劑層。剝離金屬網(wǎng)格時，以設(shè)置于金屬網(wǎng)格的幾何圖形形狀的外周的導(dǎo)電線框緣部為基準將基材膜剝離。
工序(6)，將從金屬網(wǎng)格剝下基材膜的剝離面與新的剝離膜粘貼的工序(6a)或者與在新的剝離膜上涂布有粘著劑的層疊體的粘著劑面粘貼的工序(6b)。通過工序(6a)粘合的新的剝離膜與形成有金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格形成片如圖8a所示，通過工序(6b)粘合的新的在剝離膜上涂布有粘著劑的層疊體的粘著劑面與形成有金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格形成片如圖9a所示。由此形成在2片剝離膜1、21間夾有作為電磁波屏蔽材料的金屬網(wǎng)格3的狀態(tài)。
以下，將從金屬網(wǎng)格剝離基材膜的剝離面與新的剝離膜粘合，將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑層中的方法稱為一層埋入法；將從金屬網(wǎng)格剝離基材膜的剝離面與在新的剝離膜上涂布有粘著劑的層疊體的粘著面粘合，將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑層中的方法稱為二層埋入法。二層埋入法中的在剝離膜上涂有粘著劑的層疊體，可以是在剝離膜上涂布有粘著劑的物質(zhì)，也可以是將轉(zhuǎn)印一面的剝離膜剝落后的物質(zhì)。一層埋入法或二層埋入法的粘合可以使用所述的任何粘合方法。例如利用加熱、加壓的方法，滾筒加壓法或平板壓制法、利用層壓機的方法等。
工序(7)是將2片剝離膜間的金屬網(wǎng)格埋入粘著劑的工序。作為網(wǎng)格埋入粘著劑中的方法，有上述的一層埋入法與二層埋入法等。通過控制加熱溫度、加壓壓力，工序(7)與工序(6)也可以同時進行。一層埋入法的實施狀態(tài)如圖8所示，二層埋入法的實施狀態(tài)如圖9所示。
在圖8所表示的一層埋入法中，將新的剝離膜4粘合于網(wǎng)格3轉(zhuǎn)印后的轉(zhuǎn)印片的金屬網(wǎng)格面上(圖8(a))，并以層壓實施加熱，加壓，使得網(wǎng)格3埋入轉(zhuǎn)印片側(cè)的粘著劑2中(圖8(b))。埋入網(wǎng)格時的條件，從使粘著劑流向網(wǎng)格的需要考慮，優(yōu)選進行加熱，加熱溫度例如優(yōu)選20～150℃，更優(yōu)選40～130℃，進一步優(yōu)選60～120℃。小于20℃加熱時，粘著劑的流動性差，超過150℃則可能發(fā)生粘著劑變質(zhì)或過度流動引起的液體流掛。加壓優(yōu)選為1～50kg/cm2，更優(yōu)選1～30kg/cm2，進一步優(yōu)選1～20kg/cm2。加壓小于1kg/cm2則粘著劑的流動性差，超過50kg/cm2則網(wǎng)格有可能會變形。通過調(diào)整加熱、加壓條件、粘著劑層的膜厚等可以選擇圖1(a)～(c)的狀態(tài)。
網(wǎng)格的埋入可以是將網(wǎng)格3完全埋入粘著劑層2中(參照圖1(d)，圖8(b))，也可以是將網(wǎng)格3的新剝離膜側(cè)的面從粘著劑層2露出(參照圖1(a)、圖1(b)、圖1(c))。使用的轉(zhuǎn)印片的粘著劑層2的厚度比優(yōu)選厚于網(wǎng)格3的厚度。因為形成網(wǎng)格的金屬箔的厚度為0.5～40μm，所以粘著劑層2優(yōu)選涂布形成1～300μm的厚度，更優(yōu)選5～200μm，進一步優(yōu)選5～100μm。厚度小于5μm時則埋入性差，超過300μm則經(jīng)濟方面差。
二層埋入法中，將剝離膜4上形成有粘著劑層2的新的粘著片的粘著面粘貼于轉(zhuǎn)印有網(wǎng)格的轉(zhuǎn)印片的金屬網(wǎng)格3面(圖9(a))。此時，通過以層壓機加熱加壓，優(yōu)選在粘合的同時進行網(wǎng)格3的埋入(圖9(b))。本方法使用的轉(zhuǎn)印片的粘著劑的厚度為，優(yōu)選轉(zhuǎn)印片的粘著層2與新的粘著片的粘著層2的厚度合計厚于網(wǎng)格的厚度。厚度合計優(yōu)選為1～300μm，更優(yōu)選為5～200μm，特別優(yōu)選為5～100μm。本方法是將網(wǎng)格完全埋入粘著劑中。另外，二層埋入法中，負載有金屬網(wǎng)格的粘著劑層與構(gòu)成新的粘著片的粘著劑層的粘著劑可以相同也可以不同。
作為其它方法，可以舉出在一層埋入法之后，將第二剝離膜4剝下，進一步將剝離膜上涂有粘著劑的第3粘著片的粘著面粘合上。按照此方法，作為電磁波屏蔽材料的金屬網(wǎng)格被進一步埋入粘著劑中。
不論是使用一層埋入法或二層埋入法，都可以將粘著劑分開使用。在一層埋入法里，優(yōu)選使用活性能量線固化型粘著劑。另外，在二層埋入法里，優(yōu)選使用上述任何粘著劑作為涂布于第一層剝離膜的粘著劑，使用活性能量線固化型粘著劑作為第2剝離膜的粘著劑。
根據(jù)工序(7)的電磁波屏蔽層的埋入程度不同，電磁波屏蔽材料被粘著劑覆蓋的狀態(tài)不同。呈現(xiàn)電磁波屏蔽材料被粘著劑覆蓋的狀態(tài)或電磁波屏蔽材料的一部分從粘著劑中露出的狀態(tài)。不管是哪種狀態(tài)都可以發(fā)揮本發(fā)明的效果。
如以上說明，利用工序(1)～(7)，可以制造本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。被制造的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，在2片剝離膜間，含有粘著劑和電磁波屏蔽材料。
本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，優(yōu)選用于顯示器，尤其是等離子顯示器的電磁波屏蔽用途。電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，優(yōu)選一面粘貼于透明基材或等離子顯示器一側(cè)，另一面則粘貼于形成了硬涂層或近紅外線吸收層的膜上。另外，代替透明材料，優(yōu)選粘貼于形成了上述硬涂層等的膜。
實施例 以下，是基于本發(fā)明的實施例所做的具體說明，本發(fā)明并不僅限于這些實施例。其中，實施例及比較例中的「％」和「份」，只要沒有特別的限制，則各自表示「重量％」與「重量份」。另外，重均分子量是利用GPC(凝膠滲透色譜法)測定聚苯乙烯換算得到的值。
<附網(wǎng)格粘著片制作例1> 使用包含丙烯酸丁酯85.3重量份、丙烯酸甲基15份、丙烯酸4份、丙烯酸2-羥基乙基0.7份、偶氮雙異丁腈0.03份、丙酮190份、甲苯110份的原料，在氮氣氛圍下加熱回流使其反應(yīng)8小時，得到含有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物(重均分子量110萬)的溶液(不揮發(fā)成分25重量％)。在合成的具有反應(yīng)性官能團的彈性聚合物溶液100份中，配合甲苯二異氰酸酯的加合物(住化拜爾聚氨酯(バィェルゥレタン)制固化劑「斯密吉耳L-75(スミジュ一ルL-75)」)0.7份、2-甲基-1-((4-甲硫基)苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮(筑波專業(yè)化學(xué)制光聚合引發(fā)劑「ィルガキュァ907」)0.75份、6官能的聚氨酯丙烯酸酯低聚物(ダィセルUCB制「 Ebecryl 1290K 」，重均分子量1000)15份，得到活性能線粘著力消失型粘著劑。
接著，在厚度100μm的基材用PET膜(東洋紡織制「A-5000」)的單面上，以0.2μm厚度(干燥膜厚)涂布聚酯聚氨酯系錨定涂層劑(anchor coating)(東洋モ一トン制“AD-335AE”)，然后在其上涂布上述的活性能量線粘著力消失型粘著劑，使其干燥后的厚度為10μm，粘合剝離膜(東洋紡制“E7002厚度25μm”，以下使用的剝離膜也是該膜)，得到粘著片。得到的粘著片在40℃的氛圍下進行三天的蝕刻。
蝕刻后，剝落剝離膜，利用層壓機，在溫度80℃、壓力0.4MPa/cm、粘貼速度0.8m/min的條件下，將厚度10μm的電解銅箔(三井金屬制·NS-VLP)層壓到粘著片上，得到銅箔層壓體(網(wǎng)格形成片)。
通過利用了化學(xué)蝕刻的微平版印刷刻法(粘貼抗蝕劑膜→曝光→顯像→化學(xué)蝕刻→剝離抗蝕劑膜→中和)，在銅箔層壓體上形成線條寬度12μm、線條間距300μm的網(wǎng)格，之后，進行銅表面的黑化處理，得到附網(wǎng)格粘著片。
<附網(wǎng)格粘著片制作例2> 在厚度50μm的基材用PET膜(東洋紡織制「A-4100」)的易粘接面上，涂布在附網(wǎng)格粘著片制作例1中所制作的活性能量線粘著力消失型粘著劑，使其干燥后的厚度為10μm，之后經(jīng)與附網(wǎng)格粘著片制作例1一樣的工序得到粘著片。
將如此得到的粘著片的剝離膜剝下，利用層壓機，以溫度23℃、壓力0.05MPa/cm2的條件，將厚度10μm的電解銅箔(三井金屬制·NS-VLP)層壓在粘著片的粘著劑面上，得到銅箔層壓體。得到的銅箔層壓體在40℃的氛圍下，進行3天的蝕刻。
通過使用了化學(xué)蝕刻的微平版印刷法，在銅箔層壓體上形成線條寬度10μm、線條間距300μm的網(wǎng)格，之后，與附網(wǎng)格粘著片制作例1同樣進行黑化處理，得到附網(wǎng)格粘著片。
<附網(wǎng)格粘著片制作例3> 使用包含甲基丙烯酸甲酯88份、丙烯酸乙酯9份、丙烯酰胺3份、偶氮雙異丁腈0.44份、甲苯260份的原料，在氮環(huán)境下加熱回流使其反應(yīng)3小時后，利用甲醇使其再沉淀，過濾得到的聚合物，減壓干燥，得到重均分子量為70萬的粘接劑組合物。在得到的粘接劑組合物100份中，配合甲苯450份、醋酸乙酯10份，得到粘接劑溶液。涂布粘接劑溶液于厚度100μm的基材用PET膜(東洋紡制「A-4300」)上，使其干燥后的厚度達20μm，接著利用層壓機，以溫度180℃、壓力0.4MPa/cm2的條件，將厚度10μm的電解銅箔(NS-VLP)層壓于粘接面，得到銅箔層壓體。
通過利用了化學(xué)蝕刻的微平版印刷法，在銅箔層壓體上形成線條寬度10μm，線條間距300μm的網(wǎng)格，其后，實施與附網(wǎng)格粘著片制作例1同樣的黑化處理，得到附網(wǎng)格接著片。
<轉(zhuǎn)印片制作例1> 使用丙烯酸丁酯90份、丙烯酸甲酯10份、甲基丙烯酸2羥基乙酯5份、偶氮雙異丁腈0.04份、醋酸乙酯186份的原料，在氮氣氛圍環(huán)境下加熱回流使其反應(yīng)7小時，得到具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物(重均分子量55萬)的溶液(不揮發(fā)成分35重量％)。
在得到的具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物的溶液100重量份中，配合“斯密吉耳L-75”0.9份，按照使干燥后的厚度為18μm來涂布在剝離膜上，再將新的剝離膜粘貼到此粘著層上，得到轉(zhuǎn)印片。
<轉(zhuǎn)印片制作例2> 除了按照使轉(zhuǎn)印片干燥后的厚度達到10μm來進行涂布以外，與轉(zhuǎn)印片制作例1同樣的方法制得轉(zhuǎn)印片。
<轉(zhuǎn)印片制作例3> 除了按照使轉(zhuǎn)印片干燥后的厚度達到40μm來進行涂布以外，與轉(zhuǎn)印片制作例1同樣的方法也可以制得轉(zhuǎn)印片。
<轉(zhuǎn)印片制作例4> 使用包含丙烯酸丁酯79份、丙烯酸甲酯20份、丙烯酸2羥基乙酯1.0份、偶氮雙異丁腈0.02份、丙酮190份、甲苯210份的原料，在氮氣氛圍下加熱回流使其反應(yīng)8小時，得到重均分子量150萬的丙烯酸系聚合物的溶液(不揮發(fā)成分20重量％)。
在得到的丙烯酸系聚合物溶液100份中，配額三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(共榮社化學(xué)制活性能量線反應(yīng)性化合物「ラィトェステルTMP」)1份、1-羥基環(huán)己基-苯基-酮(筑波專業(yè)化學(xué)制光聚合引發(fā)劑“ィルガキュァ184”)0.05份、對苯二酚(精工化學(xué)制阻聚劑)0.001份，按照使干燥后的厚度達到16μm來進行涂布，再將新的剝離膜粘貼在該粘著層上，得到使用了活性能量線固化型粘著劑的轉(zhuǎn)印片。
<轉(zhuǎn)印片制作例5> 在轉(zhuǎn)印片制作例1合成的具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物的溶液(不揮發(fā)成分35％)100份中，配合“斯密吉耳L-75”0.9份、作為近紅外線吸收物的二亞銨系化合物(日本化藥制「K-1032」)1.0份和酞菁系化合物(日本化藥制「EX COLOR IR-14」)0.5份，得到活性能量線固化型粘著劑，將該活性能量線固化型粘著劑涂布于剝離膜，除此以外，以與轉(zhuǎn)印片制作例1同樣的方法制作轉(zhuǎn)印片。
<轉(zhuǎn)印片制作例6> 在轉(zhuǎn)印片制作例4合成的具有反應(yīng)性官能團的丙烯酸系聚合物的溶液(不揮發(fā)成分35％)100份中，配合“ラィトェステルTMP”1份、“ィルガキュァ 184”0.05份、對苯二酚0.001份和作為近紅外線吸收物的在陰離子成分中具有磺酰亞胺的二亞銨系化合物(日本Carlit Co.制“CIR-RL”)1.0份和酞菁系化合物(日本化藥制“EX COLOR IR-14”)0.5份，得到粘著劑，將該粘著劑涂布于剝離膜，除此以外，以與轉(zhuǎn)印片制作例4同樣的方式制作轉(zhuǎn)印片。
(實施例1) 剝落在轉(zhuǎn)印片制作例1中制作的轉(zhuǎn)印片的一側(cè)的剝離膜，將其粘貼于附網(wǎng)格粘著片制作例1制作的附網(wǎng)格粘著片的金屬網(wǎng)格側(cè)。以金屬鹵化物燈120W/cm，從該層疊體的附網(wǎng)格粘著片側(cè)，照射累計光量700mJ/cm2的紫外線，使活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力消失，接著剝離粘著片。由此，金屬網(wǎng)格被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印片的粘著層上。接著，向轉(zhuǎn)印片上的網(wǎng)格粘合剝離膜，再利用層壓機，以溫度80℃，壓力5kg/cm2的條件進行按壓，使網(wǎng)格埋入轉(zhuǎn)印片的粘著層里，制成電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。進而，剝落電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件一側(cè)的剝離膜，在其上粘貼厚度2.5mm的半強化玻璃板，得到帶透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(實施例2) 剝落在轉(zhuǎn)印片制作例2中制作的轉(zhuǎn)印片的一側(cè)的剝離膜，將其粘貼于附網(wǎng)格粘著片制作例2制作的附網(wǎng)格粘著片的金屬網(wǎng)格側(cè)。以金屬鹵化物燈120W，從該層疊體的附網(wǎng)格粘著片側(cè)照射累計光量700mJ/cm2的紫外線，使活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力消失，接著剝離粘著片。由此，網(wǎng)格被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印片的粘著層上。對于轉(zhuǎn)印片上的網(wǎng)格，利用層壓法以溫度80℃、壓力5kg/cm2的條件按壓轉(zhuǎn)印片制作例3制作的轉(zhuǎn)印片的單側(cè)剝離膜剝離后得到的粘著層，使網(wǎng)格埋入轉(zhuǎn)印片的粘著層里，制成電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。另外，剝落電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件一側(cè)的剝離膜，在其上粘貼厚度2.5mm的半強化玻璃板，得到帶透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(實施例3) 以金屬鹵化物燈120W，從附網(wǎng)格粘著片制作例2制作的附網(wǎng)格粘著片的基材用PET膜側(cè)照射累計光量700mJ/cm2的紫外線，使活性能量線粘著力消失型粘著劑的粘著力消失。剝離轉(zhuǎn)印片制作例4制作的轉(zhuǎn)印片的單側(cè)的剝離膜，使其與網(wǎng)格粘合，進行粘著片的剝離。由此，網(wǎng)格被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印片的粘著層上。接著，向轉(zhuǎn)印片上的網(wǎng)格粘貼剝離膜，進而利用層壓機，以溫度80℃、壓力5kg/cm2的條件進行按壓，使網(wǎng)格埋入轉(zhuǎn)印片后，使用金屬鹵化物燈120W，照射累計光量400mJ/cm2的紫外線，使活性能量線固化型粘著劑固化，賦予凝集力，制成電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。進而，剝落電磁波屏蔽光透過構(gòu)件的一側(cè)的剝離膜，將其與2.5mm厚的半強化玻璃板粘貼，形成帶透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(實施例4) 除了使用轉(zhuǎn)印片制作例5制作的轉(zhuǎn)印片來代替實施例1中使用的轉(zhuǎn)印片制作例1制作的轉(zhuǎn)印片以外，與實施例1同樣進行，得到電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，及附透明基材電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(實施例5) ，除了使用轉(zhuǎn)印片制作例6制作的轉(zhuǎn)印片來代替實施例3中使用的轉(zhuǎn)印片(轉(zhuǎn)印片制作例4制作的轉(zhuǎn)印片)以外，與實施例3同樣進行，得到電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，及附透明基材電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(實施例6) 剝落實施例3的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件一側(cè)的剝離膜，粘貼于等離子顯示器面板，得到附電磁波屏蔽的等離子顯示器面板。
(比較例1) 將轉(zhuǎn)印片制作例1制作的轉(zhuǎn)印片的單面的剝離膜剝離后，粘貼于附網(wǎng)格粘著片制作例3制作的附網(wǎng)格粘接片的基材用PET膜面上。進而，剝離新的轉(zhuǎn)印片制作例1制作的轉(zhuǎn)印片的單面的剝離膜，將該轉(zhuǎn)印片的粘著層粘貼于網(wǎng)格側(cè)，使用層壓機以溫度80℃、壓力5kg/cm2的條件將網(wǎng)格埋入粘著層，制成電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。進而，剝離PET膜側(cè)的轉(zhuǎn)印片(轉(zhuǎn)印片制作例1制作的轉(zhuǎn)印片)的剝離膜，粘貼2.5mm厚的半強化玻璃板，得到附透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件。
(特性的試驗) 測定了如以上方法得到的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的粘著力、電磁波屏蔽性、可見光透過率、成品率及附透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的厚度。測定結(jié)果如表1所示。
[粘著力] 利用拉伸試驗機(Tester產(chǎn)業(yè)制“TE-503”)，及使用JIS Z0237的規(guī)定方法(寬25mm，剝離角180°，剝離速度300mm/min)，對作為被粘附體的3mm丙烯酸系板(クラレ制“Como Glass”)來測定。其中，因比較例1使用了粘接劑，因此將被粘附體被熱壓后的數(shù)值作為粘著力。
[電磁波屏蔽性] 使用光譜分析儀(ァドバンテスト制“MS2601B”)、標準信號發(fā)生器(ァドバンテスト制“MG3602B”)、測定用(ァドバンテスト制“MA8602B”)，在10MHz～1GHz的頻率范圍內(nèi)，測定100MHz～1GHz的頻率范圍的電磁波屏蔽性。將100MHz與1GHz的數(shù)值記為其代表值。
[可見光透過率] 使用分光光度計(日本分光制「V-570」)測定400nm～700nm范圍間的透過率平均值。
[電磁波屏蔽構(gòu)件的成品率] 制造42英時的電磁波屏蔽構(gòu)件100片，調(diào)查成品率。
(A)因基材膜受損而報廢的片數(shù)電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件制造后，利用目測觀察基材用PET膜表面?？梢源_認在通過生產(chǎn)線的輥傳送產(chǎn)生傷痕的材料不能用于顯示器，因此報廢。其中，使用活性能量線粘著力消失型粘著劑制造的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，即使在形成網(wǎng)格時發(fā)生對基材用PET膜損傷的情況下，但因事后剝離，因此該損傷引起的報廢為0片。
(B)網(wǎng)格開口處異物附著引起的報廢片數(shù)電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件制造后，用10倍率的放大鏡觀察網(wǎng)格部以外的被蝕刻部(開口部)的異物附著的全部數(shù)量，電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的開口部若發(fā)現(xiàn)1個以上的異物附著就不能用于顯示器，因此報廢。其中，使用活性能量線粘著力消失型粘著劑制造的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，即使被確認開口部有異物，因形成網(wǎng)格后剝離活性能量線粘著力消失型粘著劑，因此沒有異物殘存，報廢0片。
根據(jù)以上的(A)與(B)的報廢片數(shù)的合計，計算出相對于制造的電磁波屏蔽構(gòu)件100片的成品率。
[附透明基材的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的厚度] 利用卡尺計量每一個連同剝離膜的粘貼于半強化玻璃板上的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的厚度，扣掉剝離膜的厚度，記為厚度。但是，因為實施例6是直接粘貼在等離子顯示器面板上，所以無法與其它的例子作單純的比較。因此，省略實施例6。
[表1] 如表1所示，由附網(wǎng)格粘著片制作例3制作的附網(wǎng)格粘接片來制作的比較例1的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其基材用PET膜的損傷與網(wǎng)格開口部的異物附著會造成可見光透過率降低，造成透明性低。由所述的原因，成品率也降低。
另一方面，本發(fā)明構(gòu)成的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，因為沒有制造時的基材用PET膜的損傷或網(wǎng)格開口部的異物附著，因此不僅可見光透過率高，成品率也高。這是由于，在兩片剝離膜之間適當?shù)睾姓持鴦┡c電磁波屏蔽層，因此既可以防止電磁波屏蔽的損傷又可防止網(wǎng)格開口部的異物附著。
利用本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，可以得到透明性優(yōu)異的電磁波屏蔽。進而，本發(fā)明的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件因為不使用基材膜，所以有利于等離子顯示器的薄型化。
權(quán)利要求
1.一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其特征在于，在該兩片剝離膜之間，含有粘著劑和電磁波屏蔽材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其中，電磁波屏蔽材料被粘著劑所覆蓋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其中，電磁波屏蔽材料的至少一部分從粘著劑中露出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其中，粘著劑為活性能量線固化型粘著劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，其中，粘著劑含有近紅外線吸收物或顏色修正物。
6.一種光學(xué)過濾器，其特征在于，從權(quán)利要求1～5中任一項所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件上至少剝離1片剝離膜，將露出的粘著劑粘貼在透明基材上而成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)過濾器，其中，透明基材包含從防反射層、硬膜防止層、防眩光功能層、顏色修正層以及近紅外線吸收層中選出的1個以上的層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)過濾器，其中，在透明基材上，進一步形成從防反射層、硬膜防止層、防眩光功能層、顏色修正層以及近紅外線吸收層中選出的1個以上的層。
9.根據(jù)權(quán)利要求6～8中任一項所述的光學(xué)過濾器，其中，光學(xué)過濾器是等離子顯示器面板用光學(xué)過濾器。
10.一種等離子顯示器面板，其特征在于，從權(quán)利要求1～5中任一項所述的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件上至少剝離1片剝離膜，粘貼露出的粘著劑而成。
11.一種等離子顯示器面板，其特征在于，安裝有權(quán)利要求6～8中任一項所述的光學(xué)過濾器。
12.一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法，其特征在于，以任意順序進行下述的工序(1)～(7)，并且至少進行一次活性能量線照射，
(1)通過活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼金屬箔與基材膜的工序；
(2)利用所述金屬箔的選擇性蝕刻來形成金屬網(wǎng)格的工序；
(3)所述金屬箔或金屬網(wǎng)格的表面進行黑化處理的工序；
(4)通過粘著劑來粘貼含有基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑和金屬網(wǎng)格而成的層疊體的金屬網(wǎng)格面和轉(zhuǎn)印用支持體的工序；
(5)將所述基材膜從所述金屬網(wǎng)格剝離的工序；
(6a)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜粘貼的工序；
(7)將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑中的工序。
13.一種電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的制造方法，其特征在于，以任意順序進行下述的工序(1)～(7)，并且至少進行一次活性能量線照射，
(1)通過活性能量線粘著力消失型粘著劑粘貼金屬箔與基材膜的工序；
(2)利用所述金屬箔所選擇的蝕刻來形成金屬網(wǎng)格的工序；
(3)所述金屬箔或金屬網(wǎng)格的表面進行黑化處理的工序；
(4)通過粘著劑來粘貼含有基材膜、活性能量線粘著力消失型粘著劑和金屬網(wǎng)格而成的層疊體的金屬網(wǎng)格面和轉(zhuǎn)印用支持體的工序；
(5)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離的工序；
(6b)將所述基材從所述金屬網(wǎng)格剝離而產(chǎn)生的金屬網(wǎng)格的露出部分與新的剝離膜上涂有粘著劑的層疊體的粘著劑面粘貼的工序；
(7)將金屬網(wǎng)格埋入粘著劑中的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在2片剝離膜(1)、(4)間含有粘著劑(2)與電磁波屏蔽材料(3)的電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件，將此電磁波屏蔽性光透過構(gòu)件的一側(cè)的剝離膜剝下，粘貼到光學(xué)過濾器或等離子顯示器面板上，可得到具有透明性優(yōu)異的電磁波屏蔽層的光學(xué)過濾器或等離子顯示器面板。
文檔編號H05K9/00GK101194544SQ200680019369
公開日2008年6月4日 申請日期2006年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月2日
發(fā)明者薄井慎一, 上田幸弘, 町田敏則, 中村尚稔, 加藤茂干, 德留一人 申請人:凸版印刷株式會社