專利名稱：：電磁波屏蔽板的制造方法、由該方法制造的電磁波屏蔽板及使用該電磁波屏蔽板的濾波...的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及用于等離子體顯示面板(PDP)、陰極射線管(CRT)等產生電磁波的圖像顯示部等的透明電磁波屏蔽板(shieldingsheet)及其制造方法、使用該電磁波屏蔽板的濾波器(filter)、顯示器。
背景技術：
：近年來，由于由電器產品產生的電磁波對各種精密儀器、計量儀器、數字機器類造成電波干擾，或給人體帶來影響，所以，相關規(guī)定逐漸嚴格。因此，電磁波排放已逐漸受法律限制，例如，有VCCI(民間電》茲干4尤控制委員會(VoluntaryControlCouncilforInterferencebydataprocessingequipmentelectronicofficemachine))只于電石茲〉皮才非》文的規(guī)定。因此，在從圖像顯示部向裝置外釋放特別強的電磁波的PDP中，將透光性電磁波屏蔽板與具有防反射或近紅外線屏蔽等其他功能的板合在一起作為前面濾波器直接安裝到圖像顯示部，或者安裝到用于前面濾波器的玻璃或塑料等制成的透明基板上，然后設置到圖像顯示部，屏蔽電磁波，從而使PDP遵守上述規(guī)定。目前，作為上述透光性電磁波屏蔽板，提出經以下工序得到的電磁波屏蔽板，所述工序如圖2所示，在透明基材1上通過粘合層2層合銅箔等金屬層3后(a),貼合抗蝕劑膜6，利用包括曝光、顯影(b)、蝕刻(c)、剝離抗蝕劑(d)的光刻法在透明基材上設置形成了圖案的導電性金屬層(專利文獻l)。作為在透明基材上設置形成了圖案的導電性金屬層的其他方法，還提出以下方法通過絲網印刷法或膠版印刷法進行蝕刻，形成抗蝕劑圖案，然后，蝕刻導電性金屬層，最后剝離抗蝕劑的方法(專利文獻2、專利文獻3)。但是，使用層合在透明基材上的導電性金屬層，制造透光性電磁波屏蔽板的光刻法，雖然能同時毫無問題地形成能確保電磁波屏蔽性和良好的透光性的細線圖案，但是為了不使對比度等圖像品質劣化，必須使用對單面及/或兩面進行了黑化處理的銅箔作為導電性金屬層，導致成本上升。另外，光刻法工序復雜且工期長，不能滿足低成本化的市場要求。此外，還提出了以下方案為了同時滿足電磁波屏蔽性和顯示器畫面的可見性，在形成了圖案的導電金屬層上層合黑色抗蝕劑層，不剝離黑色抗蝕劑，使其殘留(專利文獻4)，但由于該方案最終也是利用光刻法，所以不能說是一種能滿足低成本化的市場要求的方法。另一方面，利用絲網印刷或膠版印刷形成透光性電磁波屏蔽板的蝕刻圖案的方法，能以簡易的裝置和簡單的工序形成圖案，且能在具有影響對比度性能的金屬光澤的導電性金屬層上直接形成黑色樹脂層，從而能抑制晃眼感。因此，可以說是一種能充分滿足低成本化的市場要求的工序。但是，上述印刷法難以印刷高精細的線寬，難以形成在網狀圖案不可見性方面優(yōu)選的20(im以下的細線圖案。而且，得到的電》茲波屏蔽才反在透光性方面也存在問題。專利文獻l:專利第3388682號7>才艮專利文獻2:特開2000-315890號/>才艮專利文獻3:特開2000-323889號/>才艮專利文獻4:特開平9-293989號^>才艮
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于提供一種能夠以低成本制造電磁波屏蔽性、透光性及網狀圖案不可見性優(yōu)良的電磁波屏蔽板的方法。本發(fā)明為了解決上述課題，具有下述(1)(6)的特征。(1)電磁波屏蔽板的制造方法，所述方法通過印刷法在單面具有金屬層的透明基材的所述金屬層上形成樹脂層的圖案，以所述樹脂層作為蝕刻掩模蝕刻所述金屬層后，除去上述樹脂層中從殘留的金屬層在板表面方向上突出的部分。(2)如上述(1)所述的電磁波屏蔽板的制造方法，其中，利用粘合材料或超聲波除去從所述金屬層突出的部分。(3)如上述(2)所述的電磁波屏蔽板的制造方法，其中，利用超聲波除去從所述金屬層突出的部分時，將上述透明基材浸漬在液體內。(4)利用上述(1)(3)中任一項所述的方法制造的電磁波屏敝板。(5)具有上述(4)所述的電磁波屏蔽板和防反射層的濾波器。(6)具有上述(5)所述的濾波器的顯示器。根據本發(fā)明，能提供一種透光性電磁波屏蔽板，所述電磁波屏蔽板能夠在透明基材上層合形成了細線圖案的金屬層、進而在金屬層上層合樹脂層，所以，具有良好的電磁波屏蔽性和透光性，且不使對比度和云紋(moire)等圖像品質劣化。另外，在本發(fā)明中，制造電磁波屏蔽板時，如圖1所示，在單面具有金屬層3的透明基材1(a)的所述金屬層3上，通過印刷法形成樹脂層4的圖案(b),通過化學蝕刻，蝕刻該金屬層3后(c),除去樹脂層4中從殘留的金屬層3在板表面方向上突出的部分5(d)，由此能夠通過印刷法等低成本方法形成由金屬層及樹脂層組成的細線網狀圖案，進而能制造網狀圖案不可見性優(yōu)良的電磁波屏蔽板。另外，由于在金屬層上形成樹脂層，所以，制造時不易損傷透明基材的未形成金屬層的表面。而且，在貼合其他材料的工序等中也不易損傷其他基材。具體實施例方式本發(fā)明的電磁波屏蔽板的制造方法通過印刷法在單面具有金屬層的透明基材的所述金屬層上形成樹脂層的圖案，以樹脂層為蝕刻掩模，蝕刻金屬層后，除去樹脂層中從殘留的金屬層在板表面方向上突出的部分。即，通過在過度蝕刻的條件下進行蝕刻，能得到與作為蝕刻掩模的樹脂層相比線寬更細的金屬層圖案。然后，通過除去樹脂層中從殘留的金屬層在板表面方向上突出的部分，能使樹脂層的線寬與金屬層的線寬一致。結果，如圖l(d)所示，能夠得到網狀圖案不可見性優(yōu)良的電磁波屏蔽板，所述電磁波屏蔽板在透明基材l上具有由導電性金屬層3形成的細線圖案(線寬w例如為3nm25pm),在該金屬層3上具有由樹脂層4形成的同線寬的細線圖案。在現有的光刻法、印刷法中，必須用抗蝕劑剝離液剝離在蝕刻時用作掩模的抗蝕劑層，但在本發(fā)明中，只需要除去樹脂層4從殘留的金屬層3在板表面方向上突出的部分即可，其他部分基本上不需要除去。所以，能以低成本制造電磁波屏蔽性、透光性、及網狀圖案不可見性優(yōu)良的電磁波屏蔽板。作為透明基材l的材料，可以舉出玻璃、塑料等，無特別限定，從操作性方面考慮，優(yōu)選能形成巻物狀態(tài)的塑料膜。作為塑料膜，例如，可以舉出將以下樹脂進行熔融或溶液制膜而形成的塑料膜，所述樹脂包括聚對苯二甲酸乙二醇酯(以下記為PET)、聚萘二曱酸乙二醇酯等聚酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚碳酸酯樹脂、或聚丙烯、聚乙烯、聚丁烯、聚曱基戊烯等聚烯烴類樹脂、或三乙?；w維素、二乙?；w維素等纖維素類樹脂、聚氯乙雄類樹脂、聚酰胺類樹脂、聚苯乙烯類樹脂、聚氨酯類樹脂、聚砜類樹脂、聚醚類樹脂、聚丙烯腈類樹脂等。其中，從透明性、耐熱性、耐化學藥品性、成本等方面考慮，最優(yōu)選PET膜。透明基材1可以使用由上述塑料膜單獨或2種以上的混合物構成的單層膜或2層以上的層合膜等，優(yōu)選透明基材1的全光線透射率為85o/o以上。透明基材l的厚度可以根據用途進行選擇，無特別限定。本發(fā)明的電磁波屏蔽性顯示器被用作普通的光學濾波器時，透明基材l的厚度優(yōu)選為25(im以上，進一步優(yōu)選為50pm以上。作為上限，優(yōu)選為250pm以下，進一步優(yōu)選為150pm以下。為了在透明基材上設置金屬層，透明基材必須具有相應的強度，并優(yōu)選具有25pm以上的厚度。厚度為50pm以上時，硬度變得更強，加工時的操作性增強，故優(yōu)選。需要說明的是，使用厚度不足50)am的PET膜等作為透明基材時，可以與其他膜、例如具有屏蔽紫外線及/或紅外線功能的PET膜、硬涂布PET膜等層合，增加膜厚。膜通常從輥上放巻后使用。因此，如果膜的厚度在某一值以上，則放巻時膜不易變成平面，而呈巻曲狀態(tài)，從而需要將膜矯正成平面的工序。但是，如果厚度為250pm以下，則不需要特別的工序，可以直接使用上述膜，故優(yōu)選。進而，如果厚度為150(im以下，則制成顯示器時，可以容易地得到充分的亮度，故而不需要使用高透明PET膜等高成本的基材作為透明基材，所以較優(yōu)選厚度為15Opm以下。另外，可以根據需要，在形成透明基材l的過程中或形成后，對透明基材l進行電暈放電處理、臭氧噴射處理、等離子體處理、易粘合底漆涂布處理等公知的易粘合處理。例如，使用市售的易粘合處理PET膜時，也可以省略易粘合處理。導電性金屬層3可以使用銅、鋁、鎳、鐵、金、銀、不銹鋼、鉻、鈦等金屬中的1種或組合2種以上得到的合金或多層金屬層。考慮到用于獲得良好的電磁波屏蔽性的導電性、用于圖案加工的蝕刻的容易性、價格等方面，優(yōu)選由銅、鋁構成的金屬層。另外，從顯示器的圖像品質方面考慮，優(yōu)選實施了可抑制由金屬光澤引起的反射的處理的金屬層。例如，金屬層由銅構成時，優(yōu)選至少在單面進行了黑化處理的金屬層，金屬層由鋁構成時，優(yōu)選至少在單面上進行了陽極氧化處理的金屬層。金屬層3的厚度優(yōu)選為ljam以上，較優(yōu)選為5nm以上。上限優(yōu)選為30[im以下，較優(yōu)選為20[im以下。通過使金屬層3的厚度為l(im以上，能得到圖案的線寬變窄、透光性提高、且具有有效的電磁波屏蔽性的電磁波屏蔽板。另一方面，通過使金屬層3的厚度為30iim以下，能縮短蝕刻時間，進一步提高效率，同時能圖案精度良好地進行精加工。另外，斜視板時的透光率升高，因而使用該板的顯示器的視場角增大。作為在透明基材1上形成金屬層3的方法，可以舉出下述方法，即，如圖1所示通過粘合層2貼合導電性金屬箔形成金屬層3的方法(以下稱為金屬箔層合法)。還可以舉出真空蒸鍍法、噴濺法、離子鍍法、化學蒸鍍法、無電解及電解鍍法等薄膜形成技術中的一種方法，或組合二種以上方法得到的方法等，無特別限定。但是，例如，作為如上所述形成厚度為lpm以上的金屬層3的方法，從制造成本、容易性方面考慮，優(yōu)選金屬箔層合法。作為金屬箔層合法中使用的粘合劑，沒有特別限定，優(yōu)選透明性、耐熱性、耐濕性、粘合性、層合適應性、操作性、及成本優(yōu)良的粘合劑。貼合銅箔、鋁箔和PET薄膜時，優(yōu)選聚氨酯類樹脂、環(huán)氧類樹脂等固化型粘合劑，進一步優(yōu)選使用聚酯多元醇或聚醚多元醇作為主劑、使用異氰酸酯類固化劑作為固化劑的二液型固化粘合劑。接下來，通過印刷法在金屬層3上形成作為蝕刻掩模的樹脂層4的圖案。作為形成方法，可以使用公知的各種印刷法，從印刷尺寸(寬度、厚度)的精度及控制難易性方面考慮，優(yōu)選膠版印刷法和絲網印刷法。進一步優(yōu)選單件產品生產時間(tacttime)短、且對環(huán)境影響小的使用了無水平版的膠版印刷法。作為無水平版，可以使用市售的無水平版。具體包括使用光掩模進行紫外線曝光形成圖案的正型版、負型版、以及利用激光直接在版上描繪的直描型CTP版，優(yōu)選能印刷細線的負型版、或CTP版。另外，特別是使用膠版印刷時，為了得到樹脂層4的規(guī)定厚度，可以重復印刷2次以上。作為樹脂層4，沒有特別限定，優(yōu)選對與構成金屬層3的各種金屬對應的蝕刻液具有充分的耐化學藥品性、且與金屬層3的密合性良好的固化型樹脂。從操作性優(yōu)良和利用簡易的裝置即可固化的方面考慮，進一步優(yōu)選被紫外線、電子射線等電離放射線固化的電離放射線固化型樹脂。作為電離放射線固化型樹脂，從適合印刷的粘度、光聚合引發(fā)劑、聚合停止劑、著色劑、分散劑、均化劑、觸變劑等各種添加劑的分散性方面考慮，可以使用從公知的各種單體、低聚物、預聚物等中適當選擇、配合得到的樹脂組合物。例如，可以舉出甲基丙烯酸酯類、丙烯酸酯類樹脂組合物。為了防止金屬層3的金屬光澤導致的表面反射，優(yōu)選在樹脂層4中添加顏料、染料等著色劑、無機及/或有機粒子。其中，可以為對顯示器等的圖像品質無影響的黑色物質，也可以是使用柯尼卡美能達(KONICAMINOLTASENSING)公司制分光測色計CM-2500d(光學系統(tǒng)條件基于JISZ8722(1982)的條件c)，以D65為光源測定的結果L*為40以下的物質。作為黑色著色劑，可以使用氧化鐵、鈦、氧化鉻等無機顏料、炭黑、苯胺黑、芘類黑色有機顏料、或染料和單獨使用時呈黑色的顏料等。也可以混合黃色、品紅、青色3色著色劑形成黑色。為了有效地獲得電磁波屏蔽性，樹脂層4中可以含有金屬粒子、導電性碳粒子、碳納米管、導電性高分子等導電性物質，以便于接地。樹脂層4的厚度優(yōu)選為0.5pm以上、進一步優(yōu)選為ljim以上。另夕卜，優(yōu)選為10jim以下、進一步優(yōu)選為6jim以下。通過使其厚度為0.5iim以上，能夠在蝕刻金屬層時更準確地發(fā)揮作為掩模的功能。另一方面，通過使其厚度為10fim以下，能夠在蝕刻后容易地除去從殘留的金屬層在板表面方向上突出的樹脂層5(在樹脂層下進行側面蝕刻而導致突出的一部分樹脂層)。需要說明的是，在本發(fā)明中，網狀圖案是指存在于最終得到的電磁波屏蔽板的透光區(qū)域內的由金屬層及樹脂層形成的圖形。在電磁波屏蔽板上最終形成的網狀圖案的形狀，只要是能充分確保與板邊緣部導通的形狀即可，無特別限定。例如，可以舉出幾何圖形，為了提高透光性、及顯示器的亮度，優(yōu)選開口率為70%以上，進一步優(yōu)選開口率為80%以上。另一方面，從電石茲波屏蔽性方面考慮，優(yōu)選開口率為95%以下，進一步優(yōu)選開口率為90%以下。網狀圖案中開口部的形狀可以是符合顯示器的規(guī)格的任意形狀，例如，可以舉出以直線形狀形成的等邊三角形、等腰三角形、直角三角形等三角形、正方形、長方形、菱形、平行四邊形、梯形等四邊形、六邊形、八邊形、十二邊形等其他多邊形，或以曲線形狀形成的圓形、橢圓形、其他環(huán)形等，還可以將上述形狀組合。另外，開口部的形狀不必是在整個板上為均一或周期性的形狀，也可以是不均一的形狀。但是，從制造工序方面考慮，優(yōu)選以直線形狀形成的開口部，較優(yōu)選為三角形、四邊形。以直線形狀形成開口部時，除去在板表面方向上突出的樹脂時的操作變得容易進行。為了確保圖案的連續(xù)性，網狀圖案的線寬優(yōu)選為3pm以上。另夕卜，在用于顯示器時，為了得到充分的圖像亮度，較優(yōu)選線寬為25pm以下?？紤]到電磁波屏蔽性和防止云紋、不可見性等顯示器的圖像品質，優(yōu)選為5(im15)im。在本發(fā)明中，為了進一步提高電磁波屏蔽性，優(yōu)選在最終的電磁波屏蔽板上，金屬層的圖案連續(xù)不間斷。因此，優(yōu)選通過印刷設置的樹脂層的蝕刻圖案也形成線連續(xù)不間斷的形狀。通常情況下，電磁波屏蔽板的外周部分不必具有透光性。因此，在電磁波屏蔽板的外周部，對開口部的形狀、開口率無特別限定，也可以是沒有容易接地的開口部的封閉圖案。金屬層3上形成的樹脂層4的導電性低時可以如下除去，即，在接地部分的周邊部利用剝離液化學性地溶解剝離、機械性地削去等而除去。接下來，在金屬層3上印刷了樹脂層4的蝕刻圖案后，以該樹脂層4作為掩模層蝕刻金屬層3。作為蝕刻方法，可以使用利用適合金屬層3的公知的蝕刻液的浸漬法或利用噴嘴等進行的吹拂法(噴淋法)等。作為蝕刻液，導電性金屬是銅的情況下，例如可以選擇氯化鐵溶液、氯化銅溶液等，導電性金屬是鋁的情況下，例如可以選擇氬氧化鈉溶液等。另外，可以在蝕刻液中加入表面活性劑、沉淀封閉劑等公知的添力口齊寸。在蝕刻金屬層3前后，可以根據需要進行水洗、超聲波清洗、防銹處理、氣刀處理(airknife)、加熱千燥等。具體而言，在蝕刻前，為了避免金屬層上的雜物混入蝕刻液中，可以通過水洗或氣刀處理除去雜物。另一方面，在蝕刻后，可以沖洗才反上附著的蝕刻液、或通過氣刀處理或加熱干燥等除去水洗后殘留在板上的水滴。還可以在蝕刻后進行防銹加工，以防止金屬層發(fā)生腐蝕。在本發(fā)明中，蝕刻金屬層3后，除去樹脂層中從殘留金屬層在板表面方向上突出的部分。因該金屬的種類、蝕刻液及蝕刻方法的不同，金屬層3的蝕刻略有不同，但通常如下進行。即，如圖4所示，蝕刻是從印刷的樹脂層4的圖案邊緣沿垂直方向進行，同時，也沿水平方向進行。此時，設金屬層3中被蝕刻的厚度為d、蝕刻前金屬層3的露出部的寬為wl、蝕刻后金屬層3的露出部的寬為w2,用下式表示側面蝕刻量s二(w2-wl)/2(1)々蟲刻因子ef:d/s-2d/(w2—wl)(2)。上述(2)式中的蝕刻因子(etchingfactor)ef因構成金屬層3的金屬種類、蝕刻液組成、蝕刻條件、蝕刻深度(在本發(fā)明中實質上相當于金屬層3的厚度)而不同，通常在1.03.0的范圍內(金屬蝕刻技術，佐藤敏一編、模書店、1973年、78頁)。該蝕刻因子在1.03.0的范圍內，例如金屬層3的厚度t為15pm時，側面蝕刻量s為5nm15iim。由此可知，為了根據本發(fā)明能形成例如厚度為15pm、圖案線寬為10iim的金屬層3，可以通過印刷法印刷圖案線寬為2040nm的樹脂層4，蝕刻后，除去樹脂層4中從殘留的金屬層3沿板表面方向突出的部分(因側面蝕刻而向外伸出的樹脂層5)。在本發(fā)明中，作為蝕刻后除去樹脂層4中從殘留的金屬層3沿板表面方向突出的部分5的方法，可以舉出在蝕刻后通過超聲波使樹脂層5斷裂后除去的方法、或使樹脂層5轉印到粘合橡膠輥、粘合輥、粘合板、粘合膠帶等粘合材料上進行粘合剝離的方法。從對透明基材造成擦傷等缺陷的可能性低的方面考慮，優(yōu)選前者。特別是在連同透明基材一起浸漬在洗滌水等液體中的狀態(tài)下施加超聲波使樹脂層5斷裂時，由于能夠防止超聲波的衰減，同時能夠通過液體中產生的氣穴(cavitation)進一步確實地斷裂樹脂層，而且能夠防止斷裂的樹脂層重新附著在透明基材上，故優(yōu)選。另一方面，從裝置簡單、維修容易方面考慮優(yōu)選后者，特別是進一步用粘合輥除去粘合橡膠輥和轉印到該粘合橡膠輥上的樹脂層的裝置容易維修，故優(yōu)選。需要說明的是，后者的方法優(yōu)選在水洗、干燥后進行。根據上述本發(fā)明，能夠得到一種透光性電磁波屏蔽板，在得到的電磁波屏蔽板中，樹脂層4的網狀圖案的線寬與金屬層3基材側的網狀圖案的線寬之比能達到0.951.05，且透光性和網狀圖案不可見性更優(yōu)良。線寬之比為0.95以上時，不發(fā)生金屬層3導致的圖像變差，故優(yōu)選。線寬之比為1.05以下時，開口率變大，透光性提高，故優(yōu)選。利用超聲波斷裂樹脂層5時，可以使用超聲波頻率為16kHz以上的裝置。優(yōu)選超聲波的頻率不在人的可聽范圍內、且除去力高的25kHz以上。另一方面，頻率過高時，由于除去力下降，故優(yōu)選為50kHz以下。在2550kHz范圍內，由于接近25kHz的超聲波除去不均小，故較優(yōu)選。在浸漬在洗滌水等液體中的狀態(tài)下施加超聲波使樹脂層5斷裂時，試樣和超聲波振子的距離優(yōu)選約為超聲波在該液體中的波長的一半的距離的自然數倍。所以，在超聲波的頻率為25kHz、且在水中進行處理時，試樣和超聲波振子的距離優(yōu)選為2530mm、或5560mm、之后間隔30mm的距離。除此以外的距離除去力小，除去不充分的部分變得不均勻，易殘留。需要說明的是，該試樣和超聲波振子的最佳距離由超聲波的頻率、在液體中的聲速決定，也可以通過重合多個頻率的超聲波擴大最佳范圍。另一方面，超聲波振子與水面的距離優(yōu)選大約為(超聲波在該液體中的波長的一半的距離的自然數倍)+(在該液體中的波長的四分之一的距離)。另外，使用多個振子進行上述處理時，為了降低除去不均，振子的配置也是很重要的。即，通常是輸送透明基材等連續(xù)地制造電磁波屏蔽板，但優(yōu)選在與該輸送方向垂直的方向(以下稱為交叉方向)上以一定間隔配置多個振子。例如，使用直徑為4mm的蘭杰文(Langevin)型振子(最大功率為50W)時，優(yōu)選配置振子使交叉方向上的2個振子的間距為30mm以下。通過使上述距離為30mm以下，能防止振子間的部分的除去力降低。在難以使交叉方向上的2個振子之間的間隔例如為30mm以下時，可以將振子的位置沿輸送方向錯開，或者相對板輸送方向傾斜放置設置了多個振子的箱體。由此，能縮小交叉方向上振子的間隔，從而使間距達到例如30mm以下。其結果能夠制造除去不均小的板。需要說明的是，振子為單片式時，可以使板相對振子移動，也可以使振子相對板移動。如上所述制造的本發(fā)明的電磁波屏蔽板適合與防反射層等一起設置到被安裝在等離子體顯示器等中的濾波器中。顯示器是通過將例如PDP、濾波器、電源電路、從視頻信號轉變成適合PDP的電信號的電路等收納到一個箱體中而構成，PDP與濾波器的位置關系如后所述。需要說明的是，顯示器的箱體中還可以設置用于發(fā)出聲音的揚聲器及揚聲器的驅動電路、電視電波接收信號電路等。使用本發(fā)明的電磁波屏蔽板的濾波器通常以下面2種方式中的任一種安裝在構成等離子體顯示器的面板(以下稱為PDP)上。一種方式是在PDP的前面玻璃板上直接貼合電磁波屏蔽板，另一種方式是將電磁波屏蔽板貼合在另外準備的玻璃板等上，然后在PDP前留出若干空隙設置該貼合體。本發(fā)明的電磁波屏蔽板優(yōu)選使用前者的方式。在上述二種方式中，濾波器的結構分別如下所述。在前者的方式中，例如從PDP側開始為沖擊吸收層、電磁波屏蔽板(透明基材在PDP側)、色調調整層、近紅外線屏蔽層、及防反射層。在后者的方式中，濾波器的結構為電磁波屏蔽板(具有圖案的樹脂層在PDP側)、玻璃、色調調整層、近紅外線屏蔽層、及防反射層。具有上述各功能的層可以是各自獨立的層，也可以是發(fā)揮多種功能的一層結構。對此沒有特別限定，可以使用分別具有如下結構、組成的層。防反射層由低折射率層和高折射率層至少2層構成，并將高折射率層配置在PDP側。為了形成低折射率層，可以使用硅烷偶聯劑、具有烷氧基甲硅烷基的氟樹脂。為了形成高折射率層，可以使用含有金屬化合物粒子的丙烯酸類樹脂。并用金屬化合物粒子能得到防帶電效果，并抑制灰塵附著在濾波器上，故優(yōu)選。可以將各種樹脂溶解于公知的有機溶劑中，涂布在電磁波屏蔽板或另外準備的基材上。近紅外線屏蔽層可以通過在電磁波屏蔽板的透明基材或另外準備的基材上涂布二亞胺鑰(diimmonium)型化合物等具有近紅外線吸收能力的色素而形成。此時，并用酞菁類化合物、花青類化合物、二硫醇鎳絡合物類化合物能提高吸收能，故優(yōu)選。色調調整層例如可以通過在電磁波屏蔽板的透明基材或另外準備的基材上涂布四氮雜卟啉(porphyrazine)類化合物等能吸收波長590nm附近的可見光的色素而形成。另外，該色素可以與具有近紅外線吸收能力的色素并用，使用近高分子樹脂粘合劑和公知的有機溶劑，涂布到基材上。實施例下面說明各實施例、比較例的評1介方法。(1)全光線透射率使用日本電色工業(yè)(抹)制濁度計NDH2000、基于"塑料透明材料的全光線透射率的試-驗方法"JISK7361-1:1997測定全光線透射率。對于電磁波屏蔽板，測定透明基材側的全光線透射率，對于透明基材，測定沒有設置金屬層的一側的全光線透射率。在板的四個角和板中央共計5個點進行測定，計算其平均值。全光線透射率在70%以上為良好。(2)蝕刻圖案及網狀圖案的線寬、開口率基于顯微鏡照片測定被印刷的樹脂層的蝕刻圖案的線寬(jam)、及蝕刻后除去從殘留的金屬層在板表面方向上突出的樹脂層后的網狀圖案的線寬((am)、開口率(％)。對于線寬、開口率，也對板的四個角和板中央共計5個點進行測定，每個點測定3次，總計15個值，計算其平均值。需要說明的是，網狀圖案的開口率(％)利用以下計算式進行計算。.開口率(％)={(OmxOd)/(PmxPd)}xi00其中，網狀圖案為圖3所示的圖案，Pm(pm)和Pd(pm)分別是由金屬層3和樹脂層4形成的格子之間的距離，Om(pm)和Op(pm)為圖案的開口寬度。(3)樹脂層的厚度使用切片機，用掃描型電子顯微鏡(TOPCON制ABT-32、倍率為2500倍)觀察電磁波屏蔽板的截面，測定樹脂層的厚度。以板的四個角和板中央共計5個點作為測定點，每個點測定3次，總計15個值，計算其平均值。(4)金屬層的厚度通過金屬箔層合法形成金屬層時，在層合前，利用千分尺測定導電金屬箔自身的厚度，進而求出金屬層的厚度(pm)。以板的四個角和板中央共計5個點作為測定點，每個點測定3次，總計15個值，計算其平均值。利用真空蒸鍍法、無電解及電解鍍法等與上述金屬箔層合法不同的方法形成金屬層時，或者不能用使用上述測微計的方法進行測定時，用掃描型電子顯微鏡(TOPCON制ABT-32、倍率為2500倍)觀察屏蔽板金屬層的截面，以板的四個角和板中央共計5個點作為測定點，每個點測定3次，總計15個值，計算其平均值，作為金屬層的厚度(,)。(5)電磁波屏蔽性使用ADVANTEST(抹)制光譜分析系統(tǒng)(spectrumanalyzersystem)、屏蔽評價儀器(TR17031A),通過KEC(關西電子工業(yè)振興中心)法測定10MHzlGHz的頻率范圍的電波衰減(dB)、磁波衰減(dB)。電波衰減(dB)、磁波衰減(dB)的值越大，表明屏蔽性越優(yōu)良。評價基準(市場要求)如下所述。電波衰減和磁波衰減都為"o"曰于，電磁波屏蔽性良好。電波衰減40dB以上.'O、低于40dB"x磁波衰減15dB以上'.0、低于15dB'.x(6)不可見性在普通房間的熒光燈下，從與電磁波屏蔽板相距0.5m處，觀察電磁波屏蔽板。評價基準如下所述。"〇，，表示良好。不能辨認網狀圖案的幾何圖形的才反…〇能辨認網狀圖案的幾何圖形的板…x(7)畫質(顯示器畫面的可見性)在PDP畫面的最前面貼合電磁波屏蔽板，使樹脂層成為觀察側，從正面、上下、左右等所有方向進行肉眼XC察，基于以下基準進ft評價。"O"表示良好。畫面上不產生不均和晃眼…〇畫面上產生不均或/及晃眼…x(實施例l)在全光線透射率93%、厚度100jim的PET薄膜(東麗司制"Lumirror"U34)上，4吏用干層合用二液型粘合劑(Toyo-Morton(抹)制，主劑AD-7P1/固化劑CAT-10L)層合厚度為12pm的銅箔(FURUKAWACIRCUITFOIL(林)制)作為金屬層，得到導電性金屬片。然后，使用無水平版(東麗公司制負型TAN24E)及紫外線固化型油墨((抹)T&KTOKA制"BESTCURE，，UV171黑油墨)，在導電性金屬片的銅箔面上通過膠版印刷法(速度5m/min)印刷2次線寬35)im、線間距250iim的格子狀圖案，然后進行UV固化，得到厚度為3pm的格子狀黑色樹脂層。接下來，利用噴淋法，使用溫度調整至35。C4(TC范圍內的氯化鐵溶液蝕刻1.5分鐘，除去沒有印刷樹脂層的部分及樹脂層的線寬端部下的銅箔，進行水洗、干燥。最后使用粘合橡膠輥(TEKNEK社制清潔輥DCR、級別F)作為粘合材料，除去黑色樹脂層中從殘留的銅箔在板表面突出的部分，得到具有格子狀網狀圖案(線寬ll(im、線間距250jim、開口率90%)的透光性電》茲波屏蔽板。對得到的透光性電磁波屏蔽板進行以下評價根據(1)的方法評價全光線透射率、根據(5)的方法評價電磁波屏蔽性、根據(6)的方法評價不可見性、根據(7)的方法評價畫質。結果示于表l。(實施例2)在全光線透射率89%、厚度38fim的PET膜(東麗公司制"Lumirror"T60)上噴濺、電解鍍銅作為金屬層，得到厚度5pm的導電性金屬片。然后，利用與實施例l相同的方法在該導電性金屬片的鍍銅面上印刷一次線寬17pm、線間距250(im的格子狀圖案，然后進行UV固化，形成厚度1.5pm的格子狀黑色樹脂層。接下來，利用噴淋法，使用溫度調整至35。C40。C范圍內的氯化鐵溶液蝕刻0.8分鐘，除去沒有印刷樹脂層的部分及樹脂層的線寬端部下的銅，水洗，干燥。接下來，利用與實施例1相同的方法除去黑色樹脂層中從殘留的銅在板表面方向上突出的部分。然后，利用丙烯酸類粘合劑貼合該板和全光線透射率92%、厚度100iim的PET膜(東麗公司制LumirrorU426),得到具有才各子狀網狀圖案(線寬7pm、線間距250jim、開口率95%)的透光性電磁波屏蔽板。與實施例l相同地評價所得的透光性電磁波屏蔽^反。結果示于表l。(實施例3)使用全光線透射率93%、厚度125m的PET膜代替全光線透射率93%、厚度10(Vm的PET膜，使用厚度為10jim的銅箔(日本電解(抹)制)代替厚度為12pm的銅箔，除此以外，與實施例l相同地形成導電性金屬片，在所得導電性金屬片的銅箔面上，使用NEWLONG精密工業(yè)社制絲網印刷機LS-150型及二液環(huán)氧樹脂固化型油墨(藤倉化成(抹)制"DOTITE"SH-3A)，通過絲網印刷法(網目艮#400、刮板速度(squeegeespeed)6m/min、刮板角度70度)印刷l次線寬45(im、線間距300jim的格子狀圖案，然后在120。C下加熱30分鐘，形成厚度為8nm的格子狀黑色樹脂層。然后，除了將蝕刻時間變?yōu)?.7分鐘以外，利用與實施例l相同的方法得到具有格子狀網狀圖案(線寬23pm、線間距300pm、開口率85%)的透光性電^f茲波屏蔽^1。與實施例l相同地評價所得的透光性電磁波屏蔽板。結果示于表l。(實施例4)在全光線透射率92%、厚度100pm的PET膜(東麗公司制"Lumirror"U426)上，使用干層合用二液型粘合劑(大日本油墨化學工業(yè)(抹)制"DICDRY"主劑LX-901/固化齊'JKW-75)層合厚度15pm的鋁箔(日本制箔(抹)制)作為金屬層，得到導電性金屬片。然后，在該導電性金屬片的鋁箔面上利用絲網印刷法與實施例3相同地印刷線寬45pm、線間距300pim的格子狀圖案，形成厚度8pm的格子狀黑色樹脂層。然后，利用噴淋法，使用溫度調整至45。C50。C的范圍的氫氧化鈉溶液蝕刻3.5分鐘，除去沒有印刷樹脂層的部分及樹脂層的線寬端部下的鋁箔，然后在水洗過程中，用尼龍制清洗刷除去黑色樹脂層中從殘留的鋁箔在板表面方向上突出的部分，進行干燥，得到具有格子狀導電性圖案(線寬15pm、線間距300pm、開口率93%)的透光性電磁波屏蔽板。與實施例l相同地評價所得的透光性電磁波屏蔽板。結果示于表l。(實施例5)利用與實施例1相同的方法得到導電性金屬片，形成黑色樹脂層，進行蝕刻，除去沒有印刷樹脂層的部分及樹脂層的線寬端部下的銅箔。然后，一邊進行水洗一邊用超聲波除去黑色樹脂層中從殘留的銅箔在板表面方向上突出的部分，進行千燥，得到具有格子狀導電性圖案(線寬llfim、線間距250iam、開口率90%)的透光性電磁波屏蔽板。用超聲波除去樹脂時，在板輸送方向并列2臺S&C日本制Aqua-tron600作為洗滌槽，并使垂直于輸送方向的振子的間隔為25mm。超聲波的振蕩頻率為25kHz,振子面的水深為70mm,板的輸送速度為1.5m/min、輸送位置在距離振子面25mm處。與實施例l相同地評〗介所得的透光性電》茲波屏蔽^1。結果示于表l。(實施例6)除了板的輸送位置在距離振子面40mm處以外，與實施例5相同地制成透光性電磁波屏蔽板，進行評價。結果示于表l。(比較例l)蝕刻后不用粘合材料除去從殘留的銅箔在板表面方向上突出的黑色樹脂層，除此之外，與實施例l相同地形成透光性電磁波屏蔽板，與實施例l相同地進行評價。結果示于表l。(比較例2)利用研磨墊完全除去與實施例l相同地制成的透光性電,茲波屏蔽板的樹脂層，與實施例l相同地進行評價。結果示于表l。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>實施例1實施例6都滿足市場所要求的"透光性"、"電》茲波屏蔽性"、"不可見性"、"不使畫質劣化"。實施例6在電》茲波屏蔽性、網狀圖案不可見性、畫質方面沒有差別，但用顯微鏡觀察時，可觀察到若干從金屬層突出的樹脂層沒有被完全除去的部分。比較例1由于沒有在蝕刻后除去從殘留的銅箔在板表面方向上突出的黑色樹脂層，所以導電性圖案的線寬變寬，肉眼觀察時可見格子狀圖案。比較例2可見金屬層的光澤，網狀圖案不可見性變差。而且，銅箔的色調使圖像的色調發(fā)生變化，所以不能重現圖像本來的色調。產業(yè)上的可利用性本發(fā)明可以用作屏蔽產生電磁波的等離子體顯示面才反(PDP)、陰極射線管(CRT)等圖像顯示部分等中的電磁波的板。圖l是表示本發(fā)明的實施方式之一的透光性電磁波屏蔽板的制造工序圖(簡圖)。圖2是利用現有的光刻法制造透光性電磁波屏蔽板的工序(簡圖)。圖3是表示實施例中制造的透光性電磁波屏蔽板的網狀圖案的簡圖。圖4是說明蝕刻時的側面蝕刻及蝕刻因子的筒圖。符號說明1…透明基材2…粘合層(或透明基材的表面處理層)3…金屬層4…通過印刷法形成的樹脂層5…蝕刻后從殘留的金屬層在板表面方向上突出的樹脂層6…抗蝕劑膜權利要求1、電磁波屏蔽板的制造方法，所述方法是在單面具有金屬層的透明基材的所述金屬層上通過印刷法形成樹脂層的圖案，以所述樹脂層作為蝕刻掩模，蝕刻所述金屬層后，除去所述樹脂層中從殘留的金屬層在板表面方上突出的部分。2、如權利要求l所述的電磁波屏蔽板的制造方法，其中，通過粘合材料或超聲波除去從所述金屬層突出的部分。3、如權利要求2所述的電磁波屏蔽板的制造方法，其中，通過超聲波除去從所述金屬層突出的部分時，將所述透明基材浸漬在液體內。4、一種電磁波屏蔽板，是利用權利要求13中任一項所述的方法制造的。5、一種濾波器，所述濾波器具有權利要求4所述的電磁波屏蔽板和防反射層。6、一種顯示器，所述顯示器具有權利要求5所述的濾波器。全文摘要本發(fā)明涉及低成本制造電磁波屏蔽性、透光性及網狀圖案不可見性優(yōu)良的電磁波屏蔽板的方法，該方法是在透明基材(1)的金屬層(3)上通過印刷法印刷樹脂層(4)的圖案后，以樹脂層(4)作為蝕刻掩模，過度蝕刻金屬層(3)，然后除去樹脂層(4)中從殘留的金屬層(3)在板表面方向上突出的部分(5)。文檔編號H05K9/00GK101189930SQ20068001990公開日2008年5月28日申請日期2006年6月14日優(yōu)先權日2005年6月20日發(fā)明者上羽功純,吉岡忠司,后藤一起,渡邊修申請人:東麗株式會社