專(zhuān)利名稱(chēng)：一種雙面鏤空板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于FPC (柔性線路板)制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種雙面鏤
空板。
背景技術(shù)：
隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，柔性線路板，尤其是雙面鏤空板在LCD領(lǐng)域得到廣 泛的應(yīng)用。 一般而言，雙面鏤空板為雙面線路，包括異向?qū)щ娔?ACF)端子 及鏤空手指，用在LCD中時(shí)，異向?qū)щ娔ざ俗佑糜贚CD壓玻璃，鏤空手指則 用來(lái)與一些部件壓焊?，F(xiàn)有技術(shù)提供了一種雙面鏤空板，如圖1所示，它包括 粘接層1，、上、下銅箔層21，、 22，、上、中及下覆蓋膜層31'、 32，、 33，。上覆 蓋膜層31，設(shè)置在上銅箔層21，的上方，下覆蓋膜層33，設(shè)置在下銅箔層22，的下 方，中覆蓋膜層32，是通過(guò)全壓的方式設(shè)置在下銅箔層22，的上方，中覆蓋膜層 32，的作用主要A^到機(jī)械支撐作用，而為防止出現(xiàn)褶皺及斷裂，中覆蓋膜層32' 需達(dá)到一定的厚度，現(xiàn)有技術(shù)均傾向于選擇較厚的尺寸。上銅箔層21，通過(guò)粘接 層l'設(shè)置在中覆蓋膜層32，的上方，在中、下覆蓋膜層32'、 33，上分別開(kāi)有與下 銅箔層22，相通的上、下鏤空窗口321'、 331，，該上、下鏤空窗口321'、 331，位 置相互對(duì)應(yīng)，且均是沿著上覆蓋膜層31，、上銅箔層21，及粘結(jié)層的右端面開(kāi)設(shè) 的，上、下鏤空窗口 321，、 331，形成的區(qū)域即為鏤空手指區(qū)，在該鏤空手指區(qū)銅 箔的表面處理為硬金(含有鈷)。
這種產(chǎn)品的缺陷主要存在于以下幾個(gè)方面首先，上鏤空窗口 321，是沿著 上覆蓋膜層31'、上銅箔層21，及粘結(jié)層l，的右端面開(kāi)設(shè)的，這就意味著，鏤空 手指的階差是從最上層的上覆蓋膜31，的上端面算起，即圖中的H，，無(wú)疑階差值 被不必要的增大了，這樣一來(lái)，會(huì)使得對(duì)銅箔表面壓制電路時(shí)的干膜層壓工序 中，非常容易產(chǎn)生氣泡，從而導(dǎo)致鏤空手指區(qū)出現(xiàn)凹蝕，即會(huì)對(duì)鏤空手指區(qū)的 非金屬材料造成侵蝕。這種凹蝕會(huì)直接導(dǎo)致產(chǎn)品的成品率的下降；其次，該產(chǎn) 品的組成結(jié)構(gòu)不合理，上、下純銅箔層間傾向于選用較厚的中覆蓋膜，這就會(huì) 造成上覆蓋膜的上端面至鏤空手指(下銅箔的上表面)的距離變大，也即鏤空 手指與該中覆蓋膜層32，交接處存在較大的階差H，，進(jìn)一步的加大凹蝕的可能 性；再次，中覆蓋膜層32，是采用全壓的方式設(shè)置在下銅箔層22，的上方，壓合 后產(chǎn)生的轉(zhuǎn)印問(wèn)題將更嚴(yán)重，同樣也會(huì)導(dǎo)致階差的擴(kuò)大；最后，鏤空手指區(qū)銅 箔表面處理主要是硬金(含有鈷)，在后續(xù)制作過(guò)程中就容易出現(xiàn)鏤空手指斷裂 的現(xiàn)象，進(jìn)一步導(dǎo)致成品率的下降。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種雙面鏤空板，能夠顯著的減少 蝕問(wèn)題的出現(xiàn)。 '
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是 提供一種雙面鏤空板，它包括粘接層、上、下銅箔層、上、中及下覆蓋膜 層，其中，上覆蓋膜層設(shè)置在上銅箔層的上方，下覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的 下方，中覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的上方，上銅箔層通過(guò)粘接層設(shè)置在中覆蓋 膜層的上方，在中、下覆蓋膜層上分別開(kāi)有與下銅箔層相通的上、下鏤空窗口，上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層均設(shè)置在中覆蓋膜層上鏤空窗口以外的位置上， 所述的上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層靠近上鏤空窗口 一端的端面均與所述上 鏤空窗口相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)。
采用這樣的結(jié)構(gòu)以后，上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層靠近上鏤空窗口一 端的端面均與所述鏤空窗口相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)，那么鏤空手指區(qū)的下銅箔 的階差就只是中覆蓋膜上端面至下銅箔表面的距離，顯然，這大大小于現(xiàn)有產(chǎn) 品中的階差值，能夠顯著的減緩鏤空手指區(qū)出現(xiàn)和凹蝕問(wèn)題，從而有效地提高 產(chǎn)品的成品率。


圖l是現(xiàn)有技術(shù)提供雙面鏤空板的截面示意圖2是本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施例的截面示意圖3是本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施例的俯視示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處 所描述的具體實(shí)施例^U叉用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
如圖2和圖3所示的雙面鏤空板的一較佳實(shí)施例，它包括粘接層1，上、 下銅箔層21、 22,還有上、中、下覆蓋膜層31、 32、 33。
上覆蓋膜層31設(shè)置在上銅箔層21的上方，下覆蓋膜層33設(shè)置在下銅箔層 22的下方，中覆蓋膜層32則設(shè)置在下銅箔層22的上方，上銅箔層21通過(guò)粘接層1設(shè)置在中覆蓋膜層32的上方，上、下銅箔層21、 22使用的材質(zhì)優(yōu)選為純 銅。在中、下覆蓋膜層32、 33上分別開(kāi)有與下銅箔層22相通的上、下鏤空窗 口 321、 331,上覆蓋膜層31、上銅箔層21及粘接層1均設(shè)置在中覆蓋膜層32 上鏤空窗口 321以外的位置上，上覆蓋膜層31、上銅箔層21及粘接層1靠近上 鏤空窗口 321 —端的端面均與上鏤空窗口 321相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)。由于上 覆蓋膜層31、上銅箔層21及粘接層1靠近上鏤空窗口 321 —端的端面與上鏤空 窗口 321相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)，那么鏤空手指區(qū)的下銅箔的階差就只是中覆 蓋膜上端面至下銅箔表面的距離，即圖2中H與圖1中的H，相比，顯然，階差 值大大的減小了，能夠顯著的減緩鏤空手指區(qū)4出現(xiàn)的凹蝕問(wèn)題，從而有效地 提高產(chǎn)品的成品率。
在具體實(shí)施時(shí)，中覆蓋膜層32應(yīng)根據(jù)情況盡可能的選擇較薄的材料，比如 常用的覆蓋膜材料主要有27.5um、 37.5um、 50um等幾種規(guī)格的，在本實(shí)施例中 選擇了最薄的材料，即27.5um規(guī)格的，這樣可以有效的減小階差，減輕凹蝕。 由于覆蓋膜只有一面具有粘性，另一面要與其它材料相組合的話，就必須采用 一個(gè)粘接層1來(lái)實(shí)現(xiàn)，本鏤空板中的上銅箔層21就是通過(guò)粘接層1壓合在中覆 蓋膜上的。具體的，粘接層1所采用的材質(zhì)可以為純膠。另外，為了減輕現(xiàn)有 技術(shù)中采用的全壓方式壓合在鏤空手指處所產(chǎn)生的嚴(yán)重轉(zhuǎn)印問(wèn)題，本實(shí)施例中， 中覆蓋膜層32是采用快速壓合的方式設(shè)置在下銅箔層22的上方的，改變壓合 方式后， 一方面可以控制鏤空手指處的轉(zhuǎn)印問(wèn)題，另一方面還可以縮短工藝周 期，提高生產(chǎn)效率。
本雙面鏤空板各層之間的沖切及壓合工藝可以采用現(xiàn)有技術(shù)提供的各種方法，在本實(shí)施例中，主要包括以下工藝步驟
1) 制作好在中間起機(jī)械支撐作用的覆蓋膜層后，對(duì)該中覆蓋膜層32進(jìn)行鉆
孔并沖切窗口，作為上鏤空窗口321;
2) 制作好下銅箔層22,并在該下銅箔層22中鉆設(shè)復(fù)合定位孔，然后將其 與中覆蓋膜層32組合快壓；
3) 制作好上銅箔層21,并將上、下銅箔層21、 22與粘接層1組合加壓， 然后，再鉆沖切定位孔及組合對(duì)位孔；
4) 在已組合好粘接層1的上銅箔層21上沖切窗口，該窗口長(zhǎng)寬尺寸必須 要比中覆蓋膜層32上開(kāi)設(shè)的上鏤空窗口 321略大，參見(jiàn)圖2所示，體現(xiàn)在該截 面視圖中，就是要讓上銅箔層21、粘接層1的右端面與上鏤空窗口 321的左端 面相互錯(cuò)開(kāi)，實(shí)現(xiàn)減小階差的目的。
如圖2所示，在中覆蓋膜層32上，除開(kāi)有上鏤空窗口 321外還開(kāi)設(shè)有異向 導(dǎo)電膜端子窗口 322，這樣，參見(jiàn)圖3，與該異向?qū)щ娔ざ俗哟翱?322相對(duì)應(yīng)的 位置處的銅箔即可作為異向?qū)щ娔?ACF)端子5使用。在本實(shí)施例中，上鏤 空窗口 321和異向?qū)щ娔ざ俗哟翱?322分別設(shè)置在中覆蓋膜層32的兩端，上覆 蓋膜層31、上銅蕩層21及粘接層1則壓合在中覆蓋膜層32異向?qū)щ娔ざ俗哟?口 322及上鏤空窗口 321之間的位置上。
為了解決鏤空手指容易斷裂的問(wèn)題，本實(shí)施例中，還可以在下銅箔層22與 所述上、下鏤空窗口321、 331相對(duì)應(yīng)部分的表面電鍍軟金鎳層來(lái)進(jìn)行處理，并 且適當(dāng)控制鎳層厚度；也可以使用更加柔軟的電鍍錫層來(lái)對(duì)銅箔表面進(jìn)行處理。 通過(guò)表面處理方式的改進(jìn)，可以有效地增強(qiáng)鏤空手指處的柔軟處，經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明， 能夠很好地解決現(xiàn)有產(chǎn)品中鏤空手指易斷裂或褶皺的問(wèn)題。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng) 包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種雙面鏤空板，它包括粘接層、上、下銅箔層、上、中及下覆蓋膜層，其中，上覆蓋膜層設(shè)置在上銅箔層的上方，下覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的下方，中覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的上方，上銅箔層通過(guò)粘接層設(shè)置在中覆蓋膜層的上方，在中、下覆蓋膜層上分別開(kāi)有與下銅箔層相通的上、下鏤空窗口，上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層均設(shè)置在中覆蓋膜層上鏤空窗口以外的位置上，其特征在于所述的上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層靠近上鏤空窗口一端的端面均與所述上鏤空窗口相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面鏤空板，其特征在于所述的中覆蓋膜層上還開(kāi)有異向?qū)щ娔ざ俗哟翱冢细采w膜層、上銅箔層及粘接層均設(shè)置在中覆蓋 膜層異向?qū)щ娔ざ俗哟翱谝酝獾奈恢蒙稀?br> 3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面鏤空板，其特征在于所述下銅箔層與所述上、下鏤空窗口相對(duì)應(yīng)部分的表面還設(shè)有軟金層或錫層。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙面鏤空板，其特征在于所述的軟金鎳層或錫層是通過(guò)電鍍的方式處理在所述的下銅箔的表面。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面鏤空板，其特征在于所述的中覆蓋膜層是采用快速壓合的方式設(shè)置在下銅箔層的上方。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型屬于FPC制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種雙面鏤空板。它包括粘接層、上、下銅箔層、上、中及下覆蓋膜層，其中，上覆蓋膜層設(shè)置在上銅箔層的上方，下覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的下方，中覆蓋膜層設(shè)置在下銅箔層的上方，上銅箔層通過(guò)粘接層設(shè)置在中覆蓋膜層的上方，在中、下覆蓋膜層上分別開(kāi)有與下銅箔層相通的上、下鏤空窗口，上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層均設(shè)置在中覆蓋膜層上鏤空窗口以外的位置上，所述的上覆蓋膜層、上銅箔層及粘接層靠近上鏤空窗口一端的端面均與所述上鏤空窗口相對(duì)應(yīng)的端面相互錯(cuò)開(kāi)。這種結(jié)構(gòu)，能夠顯著的減緩鏤空手指區(qū)出現(xiàn)和凹蝕問(wèn)題，從而有效地提高產(chǎn)品的成品率。
文檔編號(hào)H05K1/02GK201182037SQ20072012254
公開(kāi)日2009年1月14日 申請(qǐng)日期2007年8月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月28日
發(fā)明者劉運(yùn)杰, 張沈?qū)?申請(qǐng)人:比亞迪股份有限公司