專利名稱：抗刮耐磨電子裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子裝置及其制造方法，尤其涉及一種抗刮耐 磨電子裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
電子裝置已廣泛應(yīng)用于日常工作和生活中，各種電子裝置隨著 使用時(shí)間的增長(zhǎng)，其表面會(huì)由于磨擦等原因而出現(xiàn)不同程度的磨 損，從而影響電子裝置的美觀并使其價(jià)值下降。因此許多電子裝置
的表面都設(shè)置有一抗刮耐磨的保護(hù)膜。該保護(hù)膜是由uv膠形成， 先將uv膠涂布于電子裝置表面，然后將其置于特定波長(zhǎng)的uv光
下照射使其固化以形成該保護(hù)膜。
然而，uv膠成本較高，且使uv膠固化需要uv照射設(shè)備，
這使得采用UV膠制得的保護(hù)膜成本較高；此外，UV膠形成的保
護(hù)膜也會(huì)影響電子裝置的美觀。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷提供一種成本 低且美觀的抗刮耐磨電子裝置。
本發(fā)明的另一目的是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷提供一種成本 低且美觀的抗刮耐磨電子裝置的制造方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的之一，本發(fā)明提供一種抗刮耐磨電子裝置，其 包括一保護(hù)膜，該保護(hù)膜是由納米材料制得，其形成于電子裝置的表面。
為實(shí)現(xiàn)上述另一目的，本發(fā)明提供一種抗刮耐磨電子裝置的制
造方法，其步驟如下
步驟一，將納米材料制成納米涂布液；步驟二，將納米涂布液均勻涂布于電子裝置表面； 步驟三，將涂布有納米涂布液的電子裝置在低于150。C的加熱 環(huán)境下或在室溫下使納米涂布液干燥形成一保護(hù)膜。
如上所述，本發(fā)明抗刮耐磨電子裝置及其制造方法通過(guò)在電子 裝置表面形成一保護(hù)膜，從而達(dá)到抗刮耐磨的功效；并且該抗刮耐 磨電子裝置的制造方法中納米涂布液可在較低溫度下干燥并形成 保護(hù)膜，從而該抗刮耐磨電子裝置的制造成本較低。
具體實(shí)施例方式
為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、所實(shí)現(xiàn)目的及功效，以下舉例 詳予說(shuō)明。
本抗刮耐磨電子裝置的制造方法包括如下步驟
步驟一，將納米材料和異丙醇以適當(dāng)比例1: 1 3稀釋并攪拌 均勻，而制得納米涂布液，其納米材料可為納米級(jí)的三氧化二鋁 (A1203)、氧化鋯(Zr02)、 二氧化硅(Si02)等氧化物，其直徑 設(shè)為8 10納米左右，利用水解縮合反應(yīng)而得；
步驟二，將納米涂布液以噴涂、浸泡或擦拭的方式均勻地涂布 于電子裝置的表面；
步驟三，將已均勻涂布有納米涂布液的電子裝置在低于150°C 的加熱環(huán)境下或在室溫下使納米涂布液干燥，從而納米涂布液于電 子裝置表面形成一連續(xù)性的保護(hù)膜。該保護(hù)膜的厚度越大，其抗刮 耐磨能力越強(qiáng)，但厚度過(guò)大則會(huì)影響電子裝置的美觀，在不影響電 子裝置外觀的情況下，此保護(hù)膜的厚度可為10 20微米。
本抗刮耐磨電子裝置是在電子裝置的表面設(shè)置一由上述制造 方法形成的保護(hù)膜，從而達(dá)到抗刮耐磨的功效。
下面的非限定性實(shí)施例用來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明
本實(shí)施例中使用的起始反應(yīng)物為硅烷化合物，以該硅烷化合物 制備得到納米涂布液；以擦拭方式將納米涂布液分別涂布于一連接 線材及一手機(jī)外殼上，將連接線材及手機(jī)外殼都放置于105'C下， 使納米涂布液干燥，從而連接線材及手機(jī)外殼表面形成一厚度為 17微米的保護(hù)膜。將連接線材置于線材耐磨試驗(yàn)機(jī)上作耐磨測(cè)試時(shí)，該具有保護(hù)膜的連接線材的耐磨能力約提升4.5% 9.3%。以 抗刮規(guī)范ASTMD3363為測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)對(duì)手機(jī)外殼表面進(jìn)行測(cè)試時(shí)，該 手機(jī)外殼表面的抗刮能力為2 3H。
如上所述，本發(fā)明抗刮耐磨電子裝置及其制造方法通過(guò)在電子 裝置表面形成一保護(hù)膜，從而達(dá)到抗刮耐磨的功效；并且該抗刮耐 磨方法中納米涂布液可在較低溫度下干燥并形成保護(hù)膜，從而該抗 刮耐磨電子裝置的制造成本較低。
綜上所述，本發(fā)明之「抗刮耐磨電子裝置及其制造方法」由上 述揭露的方法與構(gòu)造，可以達(dá)到所述的功效，且本發(fā)明的申請(qǐng)合乎 專利的要件，故依法提出申請(qǐng)。然而，以上所揭露者，僅為本發(fā)明 的較佳實(shí)施例，自不能以此限定本發(fā)明的權(quán)利范圍。至于本發(fā)明的 其它等效的修飾或變化，都應(yīng)涵蓋在本案的申請(qǐng)專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種抗刮耐磨電子裝置，包括一保護(hù)膜，其特征在于該保護(hù)膜由納米材料制得，其形成于電子裝置的表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗刮耐磨電子裝置，其特征在于所 述保護(hù)膜的厚度為10 20微米。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗刮耐磨電子裝置，其特征在于所 述奈米材料為三氧化二鋁(A1203)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗刮耐磨電子裝置，其特征在于所 述納米材料為氧化鋯(Zr02)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗刮耐磨電子裝置，其特征在于所 述納米材料為二氧化硅(Si02)。
6. —種抗刮耐磨電子裝置的制造方法，其步驟如下-步驟一，將納米材料制成納米涂布液；步驟二，將納米涂布液均勻涂布于電子裝置表面；步驟三，將涂布有納米涂布液的電子裝置在低于15(TC的加熱環(huán)境下或在室溫下使納米涂布液干燥，而在電子裝置表面形成一保護(hù)膜。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗刮耐磨電子裝置的制造方法，其特 征在于所述保護(hù)膜的厚度為10 20微米。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗刮耐磨電子裝置的制造方法，其特 征在于所述納米材料為三氧化二鋁(A1203)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗刮耐磨電子裝置的制造方法，其特 征在于所述納米材料為氧化鋯(Zr02)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗刮耐磨電子裝置的制造方法，其 特征在于所述納米材料為二氧化硅(Si02)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種抗刮耐磨電子裝置及其制造方法，其包括步驟首先將納米材料制成納米涂布液；其次將納米涂布液均勻涂布于電子裝置表面；最后將涂布有納米涂布液的電子裝置在低于150℃的加熱環(huán)境下或在室溫下使納米涂布液干燥形成一保護(hù)膜。由此，經(jīng)由在電子裝置表面形成的保護(hù)膜，可提升電子裝置表面的抗刮耐磨能力。
文檔編號(hào)H05K5/02GK101631438SQ20081002964
公開(kāi)日2010年1月20日 申請(qǐng)日期2008年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月18日
發(fā)明者黃志豪 申請(qǐng)人:富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司