專利名稱：一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及醫(yī)療器械領域，具體地講是一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置。
背景技術：
目前，在治療人體結(jié)石時，除使用手術外，通常使用體外碎石機進行治 療。其核心部分是沖擊波發(fā)生裝置，即推力產(chǎn)生裝置。其原理是利用瞬間 產(chǎn)生的電磁場，將其電磁力通過能量轉(zhuǎn)換裝置、聚焦能量到人體的病灶部位， 達到碎石治療目的?，F(xiàn)有技術中，醫(yī)療用沖擊波發(fā)生裝置有液電式、后聚焦電磁式、自聚焦 電磁式等多種結(jié)構，主要用于體外擊碎人體內(nèi)部的結(jié)石。液電式?jīng)_擊波發(fā)生裝置是利用水下電極高壓脈沖放電，產(chǎn)生沖擊波，然后經(jīng)橢球面反射體聚焦形成點沖擊能量。例如中國發(fā)明專利公開號CN861043 38A，發(fā)明名稱為水下沖擊波高壓發(fā)生裝置，這種裝置存在的不足在于，由于 電極放電產(chǎn)生強烈的電弧和噪聲，在治療中使患者感到高度緊張，電極壽命 短，每治療一個病人須更換一根電極，橢球面反射體要求精度高，制造工藝 相對復雜。后聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置是利用平面電磁線圈盤和平面振膜產(chǎn)生沖 擊波，再經(jīng)前方的透鏡聚焦形成點電沖擊能量，例如中國實用新型專利公告 號CN2173592Y，實用新型名稱為電磁式體外沖擊波發(fā)生裝置，公開了一種使 用透鏡的電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置， 一般加工工藝比較簡單，但是由于沖擊波 走行路線較長，交織在透鏡中的折射、反射使能量損失比較大，致使沖擊波 的能量衰減損失較大，從而影響質(zhì)量效果；并且由于透鏡產(chǎn)生的柱狀沖擊波，容易損傷患者內(nèi)臟器官?，F(xiàn)有技術中還出現(xiàn)了一種不使用透鏡聚焦的沖擊波發(fā)生裝置，由于沖擊 波是無需透鏡的自聚焦，其能量損失較小，其原理是通過線圈中流過的電流 產(chǎn)生電磁力，驅(qū)動固定形狀的振膜振動，通過水等介質(zhì)產(chǎn)生沖擊波，并通過 水等介質(zhì)傳導出去。由于振膜具有特定的幾何形狀，如半球狀、碟裝等等， 這些幾何形狀的特性就是能將波進行聚焦。所以，振動通過水傳導出去的同 時，也將振動所產(chǎn)生的沖擊波進行了聚焦。但是，要完成這一過程，振膜和 線圈必須緊密貼合。也就是說，線圈也必須繞制成和膜片完全一樣的幾何形 狀，這一加工工藝是非常復雜。例如中國實用新型專利公告號CN2776305Y，實用新型名稱為自由振膜式 自聚焦沖擊波發(fā)生器，公開了一種利用凹形振膜構成的自聚焦沖擊波發(fā)生器， 其利用凹形的振膜將產(chǎn)生的沖擊波聚焦到一點，但因聚焦的需要，其電磁線 圈盤和振膜均需制成特定的反射形狀，即凹形，且要貼合緊密，其加工工藝 非常復雜。以弓I入方式將上述技術內(nèi)容合并于本申請。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，用于解決現(xiàn) 有技術中電磁線圈纏繞技術復雜的問題。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實施例提供一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝 置，包括水囊，所述水囊中容納液體用于傳遞沖擊波，其特征在于該沖擊波 發(fā)生裝置包括振膜和平板形電磁線圈盤，所述振膜與所述平板形電磁線圈盤 接觸的一側(cè)為平面，朝向人體的一側(cè)為凹面，所述振膜產(chǎn)生所述沖擊波，并 由所述振膜的凹面將所述沖擊波匯聚到某一點。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的一個進一步的方 面，所述振膜包括上振膜和下振膜，所述上振膜為所述凹面，所述下振膜為所述平面，所述上振膜具有側(cè)壁；還包括一膠墊，所述上振膜的側(cè)壁通過所 述膠墊與下振膜相連接。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的再一個進一步的 方面，所述上振膜和下振膜之間為中空的。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另 一個進一步的 方面，所述上振膜和下振膜之間具有所述液體。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，所述凹面為橢球面或可聚焦面。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，所述膠墊將所述上振膜的側(cè)壁和下振膜粘連成一體。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，還包括一支撐罩，所述支撐罩外套接于所述振膜和電磁線圈盤，所述 水囊外套連接于所述支撐罩。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，所述支撐罩外壁具有凹槽與所述水囊的凸棱相接觸，用于固定所述水根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，所述上振膜和下振膜不直接接觸。根據(jù)本發(fā)明所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置的另一個進一步的 方面，所述膠墊為膠環(huán)。本發(fā)明實施例的有益效果在于，本發(fā)明裝置結(jié)構簡單合理，由于不用聚 焦透鏡，所以能量傳導時損失較小，沖擊波產(chǎn)生效率高，焦點集中，對患者損傷小；由于膜片精巧的設計，使其與電磁線圈貼合處為簡單的平面，而通過模片的剛性連接，最終推動水的部分是聚焦平面，這樣，電磁線圈只需繞 制成平面狀，同樣可以達到將沖擊波聚焦的目的，從而大大簡化了加工工藝， 降低了成本。


此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構成本申請的一部 分，并不構成對本發(fā)明的限定。在附圖中圖1是本發(fā)明一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置結(jié)構示意圖；圖2是本發(fā)明振膜詳細結(jié)構圖；圖3是本發(fā)明沖擊波發(fā)生裝置安裝完成后的示意圖。
具體實施方式
為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明白，下面結(jié)合實施方式 和附圖，對本發(fā)明做進一步詳細說明。在此，本發(fā)明的示意性實施方式及其 說明用于解釋本發(fā)明，但并不作為對本發(fā)明的限定。本發(fā)明實施例提供一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置。以下結(jié)合附圖對 本發(fā)明進行詳細說明。如圖1所示為本發(fā)明一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置結(jié)構示意圖，如坐標系所示，x軸正方向稱為右側(cè)，x軸負方向稱為左側(cè)，y軸正方向稱為上， y軸負方向稱為下。該沖擊波發(fā)生裝置包括水囊101，振膜102，膠墊103， 電磁線圈盤104，底座105，支撐罩106，絕緣層107。所述水囊101固定于 支撐罩106上，并且所述支撐罩106固定于底座105之上，在水囊101內(nèi)起 到支撐作用；所述電磁線圈盤104固定于底座105與支撐罩106之間，所述 電磁線圈盤104依所述底座105的平面布置，而不需要將電磁線圈盤104像 現(xiàn)有技術中那樣纏繞成球面，所述電磁線圈盤104產(chǎn)生向上的推力；在所述 電磁線圈盤104之上還具有一個絕緣層107;在所述絕緣層107之上安裝有振 膜102，所述振膜102在所述推力的驅(qū)動下開始向上運動；膠墊103位于所述 振膜102的上下兩個振動部分之間，如圖2所示為本發(fā)明振膜詳細結(jié)構圖， 它包括上、下兩部分，在本文中分別稱為上振膜201和下振膜202，所述上振膜201為凹面，并具有側(cè)壁，所述下振膜202與所述電磁線圈盤104—樣為 平板形，所述膠墊103將上振膜的側(cè)壁與下振膜粘貼成一體，并且該膠墊IO 3的周邊固定于所述絕緣層107或底座105上；當電磁線圈盤104瞬間斷電不 向上提供推力時，所述膠墊103在膠墊103周邊的彈性回復力的作用下向下 運動，從而帶動所述上振膜201和下振膜202向下運動，從而實現(xiàn)振膜的上 下震動，該膠墊103同時也將水囊101的液體與下振膜202隔開，起到更好 的絕緣作用。作為優(yōu)選的實施例，所述膠墊103可以只連接上、下振膜，并同時與底 座相連接，即，所述膠墊103為環(huán)狀膠墊。作為優(yōu)選的實施例，所述上振膜201和下振膜202不相接觸；或者可以 接觸。作為優(yōu)選的實施例，所述上振膜201呈橢球弧面，其截面呈現(xiàn)橢圓的一 部分，其符合橢圓的標準方程2^ + ^ = 1，其中a〉b〉0。作為優(yōu)選的實施例，所述橢球弧面還可以為其它形狀的可聚焦面，例如 為圓球面等。作為優(yōu)選的實施例，在上振膜201和下振膜202之間構成的空間可以為 空氣或者與水囊101中一樣的液體。作為優(yōu)選的實施例，所述支撐罩106在與所述水囊101接觸的部分具有 凹槽或者凸棱，用于與水囊101相應的凸棱或者凹槽相連接，使水囊101更 加穩(wěn)定的固定于所述支撐罩106。如圖3所示為本發(fā)明沖擊波發(fā)生裝置安裝完成后的示意圖，所述水囊10 1套接于所述支撐罩106的外壁，所述電磁線圈盤104內(nèi)接于所述支撐罩106 的內(nèi)壁，在所述電磁線圈盤104之上還具有絕緣層107，所述振膜102內(nèi)置于 所述電磁線圈盤104與支撐罩106之間，并且固定于所述絕緣層107之上。當在底座105的兩個電極端108、 109加上電流后，所述電磁線圈盤104產(chǎn)生 磁場，推動振膜102向上運動，同時帶動與所述振膜102 —體的膠墊103 — 起向上運動；然后突然斷電，振膜102在所述膠墊103的彈性回復力的作用 下向下運動，通過不斷的供電與斷電，實現(xiàn)振膜102的震動。所述振膜102 包括，上振膜201和下振膜202，其中下振膜202產(chǎn)生震動并將震動能量通過 膠墊103傳遞給上振膜201，上振膜201在下振膜202、膠墊103和本身震動 的作用下，在y軸方向上產(chǎn)生沖擊波，該沖擊波在上振膜201橢球面的聚焦 作用下，匯聚到一焦點F，作用于人體相應位置。作為優(yōu)選的實施例，本發(fā)明還可以將振膜102作為一體，在電磁線圈盤l 04的推動下， 一體的振膜向上運動，當斷電時，所述一體的振膜在彈性回復 力的作用下向下運動，從而產(chǎn)生所需的沖擊波。同時由于上表面的橢球面， 所以沖擊波會被聚焦到目的焦點，作用于人體。本發(fā)明的有益效果在于，本發(fā)明裝置結(jié)構簡單合理，由于不用聚焦透鏡， 所以能量傳導時損失較小，并且電磁線圈盤只需繞制成平面狀，同樣可以達 到將沖擊波聚焦的目的，從而大大簡化了加工工藝，降低了成本。以上所述的具體實施方式
，對本發(fā)明的目的、技術方案和有益效果進行 了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式
而 已，并不用于限定本發(fā)明的保護范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做 的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權利要求
1.一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，包括水囊，所述水囊中容納液體用于傳遞沖擊波，其特征在于該沖擊波發(fā)生裝置包括振膜、膠墊和平板形電磁線圈盤，所述膠墊與所述振膜相連接，給所述振膜提供回復力，所述振膜與所述平板形電磁線圈盤相對的一側(cè)為平面，朝向人體的一側(cè)為凹面，所述振膜產(chǎn)生所述沖擊波，并由所述振膜的凹面將所述沖擊波匯聚到某一點。
2. 根據(jù)權利要求1所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在 于，所述振膜包括上振膜和下振膜，所述上振膜為所述凹面，所述下振膜為 所述平面，所述上振膜具有側(cè)壁；所述上振膜的側(cè)壁通過所述膠墊與下振膜 相連接。
3. 根據(jù)權利要求2所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在于，所述上振膜和下振膜之間為中空的。
4. 根據(jù)權利要求3所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在于，所述上振膜和下振膜之間具有所述液體。
5. 根據(jù)權利要求1或2所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在于，所述凹面為橢球面或可聚焦面。
6. 根據(jù)權利要求2所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在于，所述膠墊將所述上振膜的側(cè)壁和下振膜粘連成一體。
7. 根據(jù)權利要求1所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在 于，還包括一支撐罩，所述支撐罩外套接于所述振膜和電磁線圈盤，所述水 囊外套連接于所述支撐罩。
8. 根據(jù)權利要求7所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在于，所述支撐罩外壁具有凹槽與所述水囊的凸棱相接觸，用于固定所述水囊。
9. 根據(jù)權利要求l所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征在 于，所述上振膜和下振膜不直接接觸。
10. 根據(jù)權利要求1所述的一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，其特征 在于，所述膠墊為膠環(huán)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置。為了解決現(xiàn)有技術中電磁線圈盤制作工藝復雜，聚焦效果不好的不足，提出了一種無透鏡電磁式?jīng)_擊波發(fā)生裝置，包括水囊，所述水囊中容納液體用于傳遞沖擊波，其特征在于該沖擊波發(fā)生裝置包括振膜和平板形電磁線圈盤，所述振膜與所述平板形電磁線圈盤接觸的一側(cè)為平面，朝向人體的一側(cè)為凹面，所述振膜產(chǎn)生所述沖擊波，并由所述振膜的凹面將所述沖擊波匯聚到某一點。本發(fā)明的有益效果在于，由于不用聚焦透鏡，所以能量傳導時損失較小，并且電磁線圈盤只需繞制成平面狀，同樣可以達到將沖擊波聚焦的目的，從而大大簡化了加工工藝，降低了成本。
文檔編號B06B1/02GK101601597SQ20081011494
公開日2009年12月16日 申請日期2008年6月13日 優(yōu)先權日2008年6月13日
發(fā)明者安玉良, 朱建華, 綺 王, 王鐵軍, 董世娜 申請人:北京中科健安醫(yī)用技術有限公司