專利名稱：在表面上制備精細(xì)導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種能在表面上制備小的和極小導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的方法。本文中將小的和極
小的結(jié)構(gòu)看作是通常僅在借助于光學(xué)輔助手段才可通過人眼識別的結(jié)構(gòu)。其可如下實現(xiàn)， 即通過(熱)沖壓和/或壓印納米級凹槽產(chǎn)生微通道，接著借助于毛細(xì)管力的物理效應(yīng)將 導(dǎo)電材料有針對性地引入如此形成的凹槽中，以及最后對導(dǎo)電材料進行合適的后處理。 存在這樣的需要，即特別在不導(dǎo)電或?qū)щ娦圆畹耐该魑矬w的表面上配備導(dǎo)電結(jié) 構(gòu)，同時又不損害其光學(xué)或機械或物理特性。此外，還存在這樣的需要，即在該表面上配備 由人眼所不能識別的結(jié)構(gòu)，同時例如對表面的透明性、半透明性和光澤不產(chǎn)生不利影響。通 常認(rèn)為用于此的結(jié)構(gòu)的特性尺寸必須小于25 i！ m。例如最大寬度和深度為25 i！ m的任意長 度的線。 各種印刷技術(shù)提供了在基材上施加小結(jié)構(gòu)的可能性。這類印刷技術(shù)之一是所謂 的噴墨技術(shù)，其有各種實施方案。其中借助于可定位的噴嘴可將液滴或液體射流施加到基 材上。對由噴墨產(chǎn)生的線的寬度起主要影響的是所用噴嘴的直徑。此外，還存在迄今無例 外的常規(guī)，該線寬至少與所用噴嘴的直徑一樣大或大部分是大于所用噴嘴的直徑。由此例 如在使用出口孔為60iim的噴嘴時產(chǎn)在的線寬^ 60iim[J. Mater. Sci. 2006,41,4153 ;Adv. Mater. 2006， 18， 2101]。在US 2006/124028A1中公開了基于碳納米管的墨水作為導(dǎo)電基材 來印刷導(dǎo)線的實例。 因此容易想到，將噴嘴孔縮小到約15-20 ii m，以得到所需的《25 y m的線寬。這種 解決辦法在實踐中是不可行的，因為隨直徑縮小，該所用印刷物質(zhì)(油墨(Farb)、墨水、導(dǎo) 電膏)的流變局限會增加影響。由此該印刷物質(zhì)常常不可用于該使用目的。這時尤其會出 現(xiàn)噴嘴堵塞的麻煩，因為該印刷物質(zhì)含有被分散的顆粒。此外，該流變要求(該物質(zhì)的一定 的粘度和表面張力，以及接觸角和濕潤性)可彼此獨立地進行調(diào)節(jié)，以致用這種噴嘴的可 印刷墨水在基材的印刷圖案中不顯示出所需的特性。 另外，商業(yè)的印刷技術(shù)如膠板印刷或絲網(wǎng)印刷均不能在表面上產(chǎn)生這種精細(xì)的結(jié) 構(gòu)。 用于形成小的和極小的結(jié)構(gòu)的另一措施是通過合適的方法(如等離子體法)以如 下方式處理基材使得產(chǎn)生潤濕性不同的區(qū)域，例如通過使用含該待形成結(jié)構(gòu)的負(fù)像的掩 模。例如在使用水性聚合物下其產(chǎn)生5 iim的線寬[Science 2000， 290， 2123]。在使用類 似的措施下已可形成寬度小于5ym的結(jié)構(gòu)。但對于此方法需要昂貴的光刻步驟。[Nature Mater. 2004，3，171]。 在US 2006/188823A1中公開了一種在基材上施加附加的光活性層的方法。通過 壓印物理地提供一種結(jié)構(gòu)。該形成的結(jié)構(gòu)再用UV-光硬化。此外，還可接著進行蝕刻步驟 和硬化步驟。但該所用的在形成的結(jié)構(gòu)中充填的導(dǎo)電材料的準(zhǔn)確性質(zhì)未予公開。該方法由 于多個處理步驟而是較繁瑣的和昂貴的。 —種用于在聚合物上形成小結(jié)構(gòu)但不形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的簡單的純機械方法是利用 (熱)沖壓或納米級壓印。在此主要是用壓力將沖模(Stempel)壓在基材上，并由此在表 面上成型出該沖模結(jié)構(gòu)的負(fù)像。特別是在此已使用高于該聚合物的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度的沖模熱沖壓聚合物基材以形成直徑為25nm的結(jié)構(gòu)。與上述的光刻法相反，在沖壓方法中所 用的模板(也稱Master)總可保持完好地一再使用[A卯l. Phys. Lett. 1995,67,3114 ;Adv. Mater. 2000，12，189 ;Appl.Phys. Lett. 2002,81，1955]。 為從所得結(jié)構(gòu)制備導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，必須用合適材料充填該結(jié)構(gòu)。刮涂工藝和擦拭工藝 (Wischprocess)原則上適合此方式。例如從WO 1999 45375A1中已知該方法。其中在基材 上施加過量的應(yīng)充填該結(jié)構(gòu)的材料，并分布進應(yīng)保留該材料的結(jié)構(gòu)中，而以所用的擦拭技 術(shù)從剩余的基材上基本清除掉該材料。該方法的缺點在于，除尤其是充填材料的大量損失 外，還僅能困難地確保從基材的非充填部位上完全除去殘余充填材料。在US 6911385Bl中 公開了一種方法，方法中使用連續(xù)的和非連續(xù)的沖壓法。在該兩種情況下，均要在表面上施 加導(dǎo)電墨作為均勻膜，并接著借助沖壓去除其表面不應(yīng)導(dǎo)電部位的材料。另外還公開了一 種方法，方法中在保持在基材上的多孔沖壓圖案(沖模)下經(jīng)開孔施加導(dǎo)電墨。因此在涂 墨時沖模與基材直接接觸的部位未經(jīng)涂墨并由此產(chǎn)生所需的結(jié)構(gòu)化(Strukturier皿g)。
精細(xì)結(jié)構(gòu)的充填原則上可利用毛細(xì)管力實現(xiàn)，但其有意義的利用的前提要使該充 填材料有針對性引入該所產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)中，以避免材料浪費。已經(jīng)描述過用毛細(xì)管力充填小 結(jié)構(gòu)(或管，參見J. Colloid Interface Sci. 1995， 172， 278)，特別是用液態(tài)預(yù)聚物(如聚 甲基丙烯酸酯；J. Phys. Chem. B 1997， 101,855)或微流體構(gòu)件中的生物分子如DNA的水溶 液(ChemPhysChem 2003,4,1291)。但未公開用其后變得導(dǎo)電的材料來充填這種結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的目的是在表面上形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)低于人裸眼識別閾值(即小于 25 ym)并不以其它方式影響該構(gòu)件的特性。其中還應(yīng)避免已知方法的其它上述缺點。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，可使用在基材表面中沖壓凹槽和應(yīng)用含導(dǎo)電性納米顆粒的墨制劑與后 續(xù)的將納米顆粒燒結(jié)成連續(xù)導(dǎo)電的線路的組合。該方法的簡單圖示在

圖1中給出。
本發(fā)明的目的是提供一種用于在具有可造型表面的基材上制備其在兩個維度上 尺寸均不大 于25 m的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的方法，該方法中通過機械作用和任選附加的熱作用在基 材表面上形成通道，優(yōu)選該通道優(yōu)選在一個維度上尺寸不大于25 m(例如在通道底部的 寬度小于25 m)，在通道上施加墨，優(yōu)選是可由其形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的顆粒的分散體，通過毛細(xì) 管力用墨充填該通道，并通過引入能量特別是通過熱處理使墨轉(zhuǎn)變成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的另一 目的是可按上述新方法制備具有在兩個維度上尺寸均不大于25 m 的結(jié)構(gòu)的基材。 優(yōu)選是首先使均具有凸出的微觀結(jié)構(gòu)(正像)的沖?；驂狠亯河≡趦?yōu)選是聚合物 基材的基材上，以在該基材表面中沖壓出該沖模的結(jié)構(gòu)負(fù)像。如果使用聚合物基材，那么其 中該沖?；驂狠伒臏囟葍?yōu)選至少是該所用的聚合物基材的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度。特別優(yōu)選是該 沖模溫度或壓輥溫度至少比玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度高20°C。此外，該沖?；驂狠伒谋砻嫔蟽?yōu)選具 有在兩個維度上尺寸均不大于25 ii m，優(yōu)選25 ii m-100nm，特別優(yōu)選10 y m-100nm，非常特別 優(yōu)選1 y m-100nm的小結(jié)構(gòu)。該沖模壓入(Einpressen)基材中的時間應(yīng)特別為1_60分鐘， 優(yōu)選2-5分鐘，特別優(yōu)選3-4分鐘。與此不同，應(yīng)用壓輥需較短的壓制時間，因為其中使用 較高的壓力。其中連續(xù)形成沖壓結(jié)構(gòu)。 在此方法中，基材對輥的相對速度為10-0. 00001m/s，優(yōu)選1_0. 0001m/s，特別優(yōu) 選O. 1-0. 0001m/s。 參數(shù)即壓緊力、溫度和壓入時間是以如下方式相關(guān)聯(lián)的也即在較高溫度或較高壓力下可縮短壓印時間。因此用上述方法可考慮相應(yīng)較短的時間和由此較高的構(gòu)件處理 量。此外，也可考慮這樣的方法，該方法在使用更高的壓緊力情況下以更短的時間和以更低 的沖模或壓輥溫度產(chǎn)生所需的結(jié)果。 還優(yōu)選將輥壓在基材上，而拉動在該壓輥下的基材并由此轉(zhuǎn)動該輥，或驅(qū)動該輥 并由此輸送基材，從而將通道沖壓入基材中。 在如此形成的通道中充填可形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的墨。在最簡單情況下，該墨由溶劑或 懸浮液體和導(dǎo)電材料或適于導(dǎo)電材料的前體化合物制成。 該墨例如可含導(dǎo)電聚合物、金屬或金屬氧化物、碳顆?；虬雽?dǎo)體。優(yōu)選是含導(dǎo)電材 料納米顆粒，特別是碳納米管和/或分散在溶劑如水中的金屬顆粒的墨，所述納米顆粒通 過燒結(jié)形成連續(xù)導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。特別優(yōu)選是該墨含由水中的銀組成的納米顆粒，其通過銀顆粒 的燒結(jié)形成連續(xù)導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。適用的金屬氧化物例如是銦_錫_氧化物、氟_錫_氧化物、 銻_錫_氧化物、鋅_鋁_氧化物。半導(dǎo)體例如包括亞硒酸鋅、亞碲酸鋅、硫化鋅、亞硒酸 鎘、亞碲酸鎘、硫化鎘、亞硒酸鉛、硫化鉛、亞碲酸鉛和亞砷酸銦。此外，為更好地利用毛細(xì) 管力，在新方法中優(yōu)選使用的墨應(yīng)盡可能好地潤濕該基材，即在該基材上形成不大于6(TC， 優(yōu)選不大于3(TC的盡可能低的接觸角和大于20N/m，優(yōu)選大于40N/m，特別優(yōu)選大于50N/m 的盡可能高的表面張力。如果該墨含上述的納米顆粒，即其應(yīng)特別是小于lPm，優(yōu)選小于 100nm。特別優(yōu)選是該納米顆粒小于80nm，尤其是小于60nm，并具有雙峰粒度分布。
將該墨計量加入上述所形成的通道中。優(yōu)選將各液滴計量加入通道中。特別優(yōu)選 是使用具有打印頭(Druckkopf)的噴墨打印機進行計量加入，其壓力噴嘴精確設(shè)置在通道 上方并將各液滴計量加入通道中。 為在一個優(yōu)選方案中以該新方法在基材上用墨充填盡可能長的通道距離，有時必 須多次向通道中計量加入。因此，優(yōu)選沿著所述通道以規(guī)則間距多次計量加入墨。另外，還 可用優(yōu)選使用的噴墨打印機將墨連續(xù)計量加入到在打印頭下面通過的基材上。這優(yōu)選以 合適的間隔進行，該間隔與基材上通道的式樣和形狀有關(guān)。例如在沿基材通過方向上取向 的斷續(xù)線情況下可停止連續(xù)的噴墨。在斷續(xù)線情況下例如針對中斷的時間長短調(diào)節(jié)計量加 入。在此情況下，術(shù)語斷續(xù)線也可意指不平行于基材通過方向延伸的線，如與通過方向呈直 角延伸的線。還可提供以彼此呈規(guī)則間距配置的壓力噴嘴，以在單次通過期間充填整個通 道結(jié)構(gòu)。 在一個優(yōu)選的變型方案中提供可移動的打印頭，該打印頭在基材于其下方相對移 動時跟蹤沖壓過的通道結(jié)構(gòu)。當(dāng)沿基材取向沖壓彎曲的，優(yōu)選波形的通道時例如為此情況。 如果該打印頭可垂直于基材通過方向移動，則該打印頭在垂直于基材方向相對于基材振蕩 會導(dǎo)致波形移動。由此可用墨連續(xù)充填波形結(jié)構(gòu)。特別在斷續(xù)結(jié)構(gòu)下，這也可擴展到該打 印頭短時間跟蹤基材通過方向的安裝方案。即提供可在兩個維度中移動的打印頭設(shè)備。
在本發(fā)明方法中可用的基材是具有可成型表面的基材，如玻璃、陶瓷或聚合物，特 別是透明的聚合物。這類基材是電絕緣的。但是希望的是，由該基材產(chǎn)生的構(gòu)件至少在某 些部位具有導(dǎo)電特性。 聚合物材料具有各種各樣的特性，這使其在許多應(yīng)用領(lǐng)域成為優(yōu)選材料。這包括 例如相對高的柔性，與無機材料相比在相同或類似的機械負(fù)荷能力下通常更低的厚度，以 及通過該材料較易可塑性有大的成型自由度。同時一些材料(如聚碳酸酯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和一些PVC類)表明，除此外還有特別的特性如光學(xué)透明性。在該新方 法中使用的聚合物優(yōu)選是透明的和/或其具有高的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度。具有高的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變 溫度的聚合物是指玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度高于IO(TC的聚合物。在該新方法中特別優(yōu)選使用選自 下面系列的聚合物聚碳酸酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯或聚對苯二甲酸乙二酯。 在上述步驟之后，墨位于所形成的通道中，通過合適的后處理由其得到具有所需 導(dǎo)電性的結(jié)構(gòu)。 根據(jù)本發(fā)明，該后處理包括向所得的充填有墨的通道中引入能量。在優(yōu)選使用含 在溶劑懸浮液中的導(dǎo)電聚合物的墨的情況下，在溶劑中懸浮存在的聚合物顆粒如通過加熱 懸浮液而在基材上相互熔融，而溶劑經(jīng)蒸發(fā)。優(yōu)選該后處理步驟在導(dǎo)電聚合物的熔點，特別 優(yōu)選高于其熔點進行。由此產(chǎn)生連續(xù)的導(dǎo)體電路。 在另一優(yōu)選使用含碳納米管的墨的情況下，通過基材表面的熱后處理蒸發(fā)掉在分 散存在的碳顆粒之間的溶劑，以得到由導(dǎo)電碳組成的可滲濾的連續(xù)電路。該后處理步驟在 墨中所含溶劑的蒸發(fā)溫度范圍內(nèi)進行，優(yōu)選在高于該溶劑的蒸發(fā)溫度進行。如達到滲濾極 限，則產(chǎn)生本發(fā)明的導(dǎo)電電路。 在該方法的另一優(yōu)選變型方案中，如果使用上述的金屬顆粒在溶劑中的懸浮液， 則該后處理是加熱整個構(gòu)件或有針對性地加熱導(dǎo)電電路，使其溫度達到金屬顆粒相互燒結(jié) 和溶劑至少部分蒸發(fā)的溫度。這時具有盡可能小的顆粒直徑的金屬顆粒是有利的，因為在 納米級顆粒下，燒結(jié)溫度與粒度成正比，以致在較小顆粒下需要的燒結(jié)溫度小于在較大顆 粒下的燒結(jié)溫度。這時該溶劑的沸點盡可能接近該顆粒的燒結(jié)溫度并盡可能低，以不會對 基材產(chǎn)生由熱損傷。優(yōu)選使用沸點< 25(TC，特別優(yōu)選〈20(TC溫度，尤其是《IO(TC溫度 的溶劑作為墨的溶劑。這里所給出的溫度均為壓力為1013hPa下的沸點。特別優(yōu)選的溶 劑是含最多12個碳原子的正烷烴；含最多4碳原子的醇如甲醇、乙醇、丙醇和丁醇；含最多 5個碳原子的酮和醛如丙酮和丙醛；水以及乙腈；二甲基醚；二甲基乙酰胺；二甲基甲酰胺； N-甲基-吡咯烷酮(NMP);乙二醇和四氫呋喃。該燒結(jié)步驟在給定的溫度下進行到產(chǎn)生連 續(xù)的導(dǎo)電電路。該燒結(jié)時間優(yōu)選為l分鐘-24小時，特別優(yōu)選5分鐘-8小時，尤其是2-8 小時。 本發(fā)明的目的還在于含可產(chǎn)生導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的墨用于制備在其表面上具有導(dǎo)電結(jié)構(gòu) 的基材的用途，該導(dǎo)電結(jié)構(gòu)在一個維度上尺寸不大于25 ii m，優(yōu)選20 ii m-100nm，特別優(yōu)選 10 ii m-100nm，更特別優(yōu)選1 y m-100nm，其中該墨優(yōu)選是如上所述的導(dǎo)電顆粒的懸浮液，該 基材優(yōu)選是透明的，如玻璃、透明陶瓷或如上所述的透明聚合物。
下面依附圖示例性地詳述本發(fā)明。
附圖中， 圖1示出借助沖模實施本發(fā)明方法的圖解，其中A)將位于上面的沖模壓入基材 中，B)提起該沖模，C)將墨施加到基材的所形成的通道中，和D)燒結(jié)在通道中的墨材料
圖2示出通過具有壓印出的通道的聚苯乙烯板的橫截面顯微照片
圖3示出通過具有燒結(jié)的銀導(dǎo)體的聚苯乙烯板的放大示圖實施例 實施例1 通過將網(wǎng)格結(jié)構(gòu)(MASTER)壓印到玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度Tg為IO(TC的聚苯乙烯基材 (N5000, Shell AG)上以制備在聚合物基材上的通道網(wǎng)格。為此將該MASTER加熱到180°C ， 并用小型壓機(Tribotrak，DACAInstruments， Santa Barbara, CA， USA)用3kg負(fù)荷在該基 材上壓制達3分鐘。該MASTER具有42 ii m的線距，從橫截面看，在MASTER中的凹槽似于倒 立的經(jīng)截去的三角形(圖2)。在MASTER中的凸起的高為20ym，并且從橫截面看同樣是經(jīng) 截去的三角形。在MASTER中的凸起的底寬為32 y m，該凸起的峰寬約為4. 5 y m。 [OO38] 將一滴銀納米墨(Nanopaste , Harima Chemicals, Japan)施加到如上所述制備 的線路的一條上。該墨由在十四烷中的平均直徑約為5nm的銀納米顆粒的分散體組成。 通過毛細(xì)管力立刻形成在通道中的墨線。可得到約4mm長的均勻線路。該墨滴的精確定 位可借助于噴墨系統(tǒng)實現(xiàn)(Autodrop system ;Microdrop Technologies, Norderstedt， Germany)。該系統(tǒng)配置有68 y m的噴頭。如圖3可知，所得銀線路的最大寬度在充填高度 下為6. 3 m。在最薄的位置，寬度為大約3. 7 m。最后在20(TC熱處理該基材1. 5小時，由 此該墨轉(zhuǎn)變成由燒結(jié)銀組成的連續(xù)線路。在凹槽在底部的寬度(3.7iim)與該MASTER型材 上緣的相應(yīng)寬度(4.5iim)之間的偏差以墨溶劑的作用下該基材的溶脹和在壓印時基材的 加熱來解釋。在6mm的距離上對4條平行線測得的電阻為2. 5 Q 。
實施例2 通過將網(wǎng)格壓印到加熱到27(TC的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度Tg為205t:的聚碳酸酯薄膜 (Bayfol ,Bayer MaterialScience AG)上以制備通道網(wǎng)格。壓印的所有其它參數(shù)均對應(yīng)
于實施例l。也以與實施例1同樣的方式形成導(dǎo)電線路。該所得線寬和導(dǎo)電的銀導(dǎo)電電路 的長度與實施例1中產(chǎn)生的相同。
實施例3 如實施例1運行，但用壓輥代替使用沖模的壓印法。 在10mm厚的聚碳酸酯基材(Makrolon， Bayer， Germany,玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度為148°C ) 用安裝在小型壓機(Tribotrak， DACA Instruments, Santa Barbara, CA， USA)上的輥產(chǎn)生 連續(xù)的結(jié)構(gòu)。該安裝在小型壓機上的特制輥具有寬度為10iim和間距為3mm的凸起線結(jié) 構(gòu)。這時將基材的表面加熱到6(TC，而該輥的溫度為155°C。該壓機的壓力用在上述設(shè)備 上的10kg重量調(diào)節(jié)。對所調(diào)節(jié)溫度和所用的壓制力，該輥相對于該基材的相對推進速度選 為0.25mm/s。這時沿輥下方的滑板抽拉該基材，以達到上面給定的相對速度。該壓制力足 以使輥在基材上轉(zhuǎn)動。
權(quán)利要求
用于在具有可造型表面的特別是光學(xué)透明的基材上制備在兩個維度上尺寸均不大于25μm的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的方法，在該方法中ii)通過機械作用和任選附加的熱作用在基材表面上形成通道，iii)在所述通道上施加可由其產(chǎn)生導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的墨，iv)通過毛細(xì)管力用墨充填該通道，v)通過引入能量使該墨轉(zhuǎn)變成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。
2. 權(quán)利要求1的方法，其中該墨是導(dǎo)電材料的顆?；?qū)щ姴牧系那绑w化合物的顆粒在 溶劑中的懸浮液。
3. 權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于，使用至少一種選自下面系列的試劑作為該墨的 導(dǎo)電材料或?qū)щ姴牧系那绑w化合物碳納米管、導(dǎo)電聚合物或金屬納米顆粒，特別是銀納米 顆粒，或金屬氧化物納米顆粒。
4. 權(quán)利要求2或3的方法，其特征在于，該導(dǎo)電顆粒的直徑小于1 P m。
5. 權(quán)利要求1-4之一的方法，其特征在于，該通道在底部的寬度不大于25 m。
6. 權(quán)利要求l-5之一的方法，其特征在于，該通道借助沖?；驂狠亯喝氲交谋砻嬷校?其中所述沖?；驂狠伻芜x地經(jīng)加熱。
7. 權(quán)利要求l-6之一的方法，其特征在于，該基材是透明的聚合物，并且該沖模或壓輥 尤其具有比該聚合物的玻璃態(tài)轉(zhuǎn)變溫度更高的溫度，優(yōu)選高至少2(TC。
8. 權(quán)利要求1-7之一的方法，其特征在于，該墨借助噴墨打印法施加到所述通道上。
9. 可根據(jù)權(quán)利要求1-8之一的方法獲得的具有在兩個維度上尺寸均不大于25 m的導(dǎo) 電結(jié)構(gòu)的基材。
10. 可由其產(chǎn)生導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的墨用于制備在表面上具有導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的特別是透明的基材的 用途，其中所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)在兩個維度上尺寸均不大于25 m。
11. 權(quán)利要求10的用途，其中該墨是導(dǎo)電顆粒的分散體。
全文摘要
本發(fā)明涉及可在表面上制備小的和極小的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的方法。其通過如下方式實現(xiàn)(熱)沖壓和/或納米級壓印制備微通道，接著借助于毛細(xì)管力將導(dǎo)電材料有針對性地引入如此形成的通道中，以及對導(dǎo)電材料進行合適的后處理。
文檔編號H05K3/12GK101755493SQ200880025345
公開日2010年6月23日 申請日期2008年7月8日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月19日
發(fā)明者C·E·亨德里克斯, S·M·邁耶, S·巴恩米勒, S·艾登, U·舒伯特 申請人:拜爾材料科學(xué)股份公司