專利名稱：用于以提高的效率生成euv輻射或軟x射線的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種借助于電操作的放電來生成光學(xué)輻射，特別是EUV輻射或軟X射線的方法和裝置，其中在放電空間中至少兩個電極之間在氣態(tài)介質(zhì)中點(diǎn)燃等離子體，所述等離子體發(fā)出待生成的所述輻射，且其中所述氣態(tài)介質(zhì)至少部分地由液態(tài)材料產(chǎn)生，液態(tài)材料被施加到在放電空間中移動的一個或幾個表面上且至少部分地由一個或幾個脈動能量束蒸發(fā)。這樣的基于放電的光源當(dāng)發(fā)出EUV輻射或軟X射線(特別是在大約Inm與20nm 之間的波長范圍中)時，主要在EUV光刻和計(jì)量學(xué)領(lǐng)域中成為所需。
背景技術(shù)：
在上述類型的光源中，輻射從脈動電流所產(chǎn)生的熱等離子體發(fā)出。很強(qiáng)大的EUV輻射發(fā)生裝置利用金屬蒸汽操作以生成所需的等離子體。這種裝置的實(shí)例在 W02005/025280A2中示出。在這個已知的EUV輻射發(fā)生裝置中，金屬蒸汽從金屬熔體產(chǎn)生， 金屬熔體被施加到放電空間中的表面上且至少部分地由脈動能量束、特別是激光束蒸發(fā)。 在此裝置的優(yōu)選實(shí)施例中，兩個電極可旋轉(zhuǎn)地安裝，形成電極輪，其在該裝置操作期間旋轉(zhuǎn)。電極輪在旋轉(zhuǎn)期間浸在具有金屬熔體的容器內(nèi)。脈動激光束被直接導(dǎo)向至電極的表面以便從所施加的金屬熔體生成金屬蒸汽。此金屬蒸汽云可朝向第二電極擴(kuò)展且導(dǎo)致連接到充電的電容器組(bank)的兩個電極之間的短路，從而引發(fā)放電。由于電路的低電感， 形成幾十kA的電脈沖，其在大約IOOns內(nèi)加熱等離子體至數(shù)十eV。通過這種加熱，退出期望的電離階段且從箍縮等離子體發(fā)出在EUV區(qū)域中的輻射。轉(zhuǎn)換效率被定義為EUV輻射的比率，即，洲帶寬集中于13. 5nm，在sr中發(fā)出，且能量最初存儲于電容器組。對于此EUV輻射在EUV掃描儀中的應(yīng)用，不僅每個脈沖產(chǎn)生的EUV輻射量是所關(guān)心的，可由掃描儀使用的分?jǐn)?shù)(fraction)也是所關(guān)心的。僅對于源自直徑大約為Imm的球 (sphere)的輻射，是這種情況。確切的直徑取決于光學(xué)收集器(collector optics)的立體角和掃描儀的集光率。特別是對于放電產(chǎn)生的等離子體，類似于上面所謂的“Aachener Lampe已知并非所有產(chǎn)生的EUV輻射都集中在上述可收集的體積(volume)內(nèi)。這主要?dú)w因于在等離子體中心與電極之一之間的大區(qū)域，從該區(qū)域也發(fā)出EUV。盡管強(qiáng)度低，由于其大的體積，從此區(qū)域發(fā)出的能量的總量仍相當(dāng)大?？墒占霓D(zhuǎn)換效率(CCE)是可收集的EUV 輻射與電脈沖能量的比率，且因此是EUV發(fā)生的總效率的度量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種借助于電操作的放電來以提高的可收集的轉(zhuǎn)換效率生成光學(xué)輻射、特別是EUV輻射或軟X射線的方法和裝置。這個目的由根據(jù)權(quán)利要求1和9所述的裝置和方法來實(shí)現(xiàn)。該方法和裝置的有利實(shí)施例是從屬權(quán)利要求的主題且還在說明書的后面部分中描述。在所提出的方法中，等離子體在放電空間中至少兩個電極之間在氣態(tài)介質(zhì)中被點(diǎn)燃，所述等離子體發(fā)出待生成的輻射。所述氣態(tài)介質(zhì)至少部分地由液態(tài)材料(特別是金屬熔
4體)產(chǎn)生，液態(tài)材料被施加到在放電空間中移動的一個或幾個表面上且至少部分地由一個或幾個脈動能量束蒸發(fā)，脈動能量束可為例如離子或電子束且在優(yōu)選實(shí)施例中為激光束。 生成脈動能量束(一個或幾個)的脈沖，使得在每次放電的時間間隔內(nèi)脈動能量束的至少兩個連續(xù)脈沖被導(dǎo)向至表面上，蒸發(fā)所施加的液態(tài)材料。相應(yīng)的裝置包括至少兩個電極，彼此相距一定距離地布置于放電空間中，這允許在電極之間在氣態(tài)介質(zhì)中點(diǎn)燃等離子體；用于向在所述放電空間中移動的一個或幾個表面施加液態(tài)材料的裝置；以及能量束裝置，其適于將一個或幾個脈動能量束導(dǎo)向至所述表面上，至少部分地蒸發(fā)所述施加的液態(tài)材料，且由此產(chǎn)生所述氣態(tài)介質(zhì)的至少一部分。能量束裝置被設(shè)計(jì)成在每次放電的時間間隔內(nèi)向所述表面上施加脈動能量束的至少兩個連續(xù)脈沖。所提出的裝置可以另外如冊2005/025觀0 A2中所述裝置那樣構(gòu)造，W02005/025^0 A2 在本文中引作參考。所提出的方法和裝置的主要方面是不僅對于每次電極放電施加一個單能量束脈沖，而且還在每次放電或電流脈沖的時間間隔內(nèi)施加至少兩個連續(xù)脈沖。時間間隔始于施加發(fā)起相應(yīng)的放電的第一能量束脈沖，止于在相應(yīng)的電流脈沖后電容器組放電時。由于在每次放電期間液態(tài)材料由兩個或更多連續(xù)脈沖蒸發(fā)，與每次放電僅使用一個單能量束脈沖的情況相比，等離子體和因此所生成的輻射的空間分布多得多地集中在所述體積中。這導(dǎo)致可收集的轉(zhuǎn)換效率增加，使得更多的生成的輻射可由掃描儀使用。更集中的輻射發(fā)射的另一優(yōu)點(diǎn)在于，與一個單脈沖的情況相比，高強(qiáng)度區(qū)域被置于更加靠近收集體積的中部，這也改進(jìn)了其中使用輻射的掃描儀的光學(xué)性能。在本方法和裝置的一個有利實(shí)施例中，以< 300ns的相互時間延遲來施加至少兩個連續(xù)脈沖。對于這種短的時間距離，與僅使用一個單脈沖相比，實(shí)現(xiàn)了可收集的轉(zhuǎn)換效率的顯著增加?？赏ㄟ^使用兩個單獨(dú)的能量束源，特別是激光源，生成至少兩個連續(xù)脈沖，每個能量束源具有其自己的觸發(fā)器以獲得合適的時序(timing)。也可以僅使用一個單能量束源，其脈動能量束被分離成兩個或更多部分束。在單個脈沖之間的延遲然后由不同部分束的不同延遲線來實(shí)現(xiàn)。在本領(lǐng)域中已知用于將一個光束分離成若干部分束的合適分束器， 特別是針對激光束的分束器。取決于應(yīng)用，可優(yōu)化若干參數(shù)以對于相應(yīng)的應(yīng)用得到最大可收集的轉(zhuǎn)換效率。這些參數(shù)是在連續(xù)脈沖之間的時間延遲、連續(xù)脈沖的偏振、連續(xù)脈沖的波長、連續(xù)脈沖在移動的表面上的空間和時間強(qiáng)度分布以及這些脈沖在移動的表面上的入射角。這也意味著兩個或更多連續(xù)脈沖中的每一個具有另一偏振、波長、在移動的表面上的空間和時間強(qiáng)度分布和在移動的表面上的入射角?？臻g強(qiáng)度分布可受到針對每個個別激光束的單獨(dú)光學(xué)器件的控制。也可利用上述參數(shù)中的一個或全部或任何可能的組合來執(zhí)行優(yōu)化。在一個有利實(shí)施例中，上述參數(shù)中的至少一個利用診斷單元基于合適的測量而受到控制。這些測量可包括可收集的體積中的EUV產(chǎn)量(yield)且也可包括由等離子體發(fā)出的快離子量的測量。當(dāng)利用合適的輻射檢測器(如背光CCD照相機(jī)或光電二極管)來測量 EUV產(chǎn)量時，這些參數(shù)有利地被優(yōu)化以在可收集的體積中得到最大EUV產(chǎn)量。當(dāng)測量快離子的輸出時，可以控制參數(shù)以實(shí)現(xiàn)可噴濺收集器的快離子的最低輸出。在上述情況下相應(yīng)的裝置包括控制單元，其基于測量結(jié)果控制上述參數(shù)中的至少一個。為了測量快離子的輸出，可定位小拾取線圈于電容器組或電極系統(tǒng)的附近。此線圈產(chǎn)生與電流的時間導(dǎo)數(shù)成比例的電壓，因?yàn)槎叨寂c磁場成比例。這是這個拾取線圈也被稱作dl/dt探測器的原因。根據(jù)dl/dt信號對時間的依賴，可導(dǎo)出箍縮動態(tài)(pinch dynamics)，其負(fù)責(zé)(on its hand)給出是否成功地抑制快離子產(chǎn)生的信息。動能高于IOkeV 的快離子是有害的，因?yàn)樗鼈兒茈y被碎屑減緩系統(tǒng)阻擋，從而它們遠(yuǎn)離收集器鏡的光學(xué)涂層而噴濺。為了實(shí)現(xiàn)至少一年的收集器壽命，必需成功地減小快離子的產(chǎn)生。此可利用上述控制單元獲得。至少兩個連續(xù)脈沖可相對于移動的表面的移動方向、特別是移動的電極表面的移動方向施加到移動的表面的相同橫向位置。在有利實(shí)施例中，連續(xù)脈沖相對于此移動方向施加在不同橫向位置。此允許更好地使用施加到表面的液態(tài)材料且也可用于實(shí)現(xiàn)所生成的等離子體更好的空間分布。在上下文中，術(shù)語橫向表示在表面上垂直于該表面的移動方向的方向。利用此技術(shù)，放電體積可在此體積通常具有小的延伸的方向中擴(kuò)展。由于與僅施加單個脈沖相比，放電云或體積的空間波動并不改變，利用這樣的技術(shù)，放電體積的相對波動較小。而且，通過在移動的表面上適當(dāng)?shù)胤植寄芰渴}沖的沖擊點(diǎn)，作為放電體積的發(fā)光體積可以以正確方式形成以最佳地調(diào)適該發(fā)光體積使之適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)(例如光刻掃描儀的光學(xué)系統(tǒng))的接收面積，從而允許更有效地使用所生成的輻射。作為改變每次放電內(nèi)的連續(xù)脈沖的橫向位置的補(bǔ)充或替代，至少兩個不同放電 (優(yōu)選地連續(xù)放電)的脈沖組可施加到不同的橫向位置，其中每個脈沖組由相應(yīng)的放電的連續(xù)脈沖形成。在有利實(shí)施例中，能量束脈沖(在每次放電內(nèi)的連續(xù)脈沖或者不同放電的脈沖組)被施加到移動的表面使得在移動的表面上實(shí)現(xiàn)沖擊點(diǎn)的周期性重復(fù)的圖案。此圖案是由于相應(yīng)表面的移動、脈沖之間的時間間隔和脈沖的橫向分布的組合造成。舉例而言，可選擇該圖案近似沖擊點(diǎn)的圓形分布或者可選擇成包括由三個脈沖或脈沖組所致的三個沖擊點(diǎn)，這些脈沖點(diǎn)中的每一個形成等腰三角形的角。上文所提出的診斷和控制單元也可用于控制脈沖或脈沖組的橫向位置使得實(shí)現(xiàn)可收集體積內(nèi)發(fā)射體積或EUV強(qiáng)度的期望的幾何形狀。


在下文中結(jié)合附圖來描述所提出的方法和裝置，但不限制權(quán)利要求的范圍。附圖示出
圖1用于生成EUV輻射或軟X射線的裝置的示意圖2示出在一個放電的時間段內(nèi)施加的連續(xù)脈沖之間的時間延遲的示意圖3根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的由一個單激光脈沖所創(chuàng)建的等離子體發(fā)出的EUV輻射的示意圖
像；
圖4根據(jù)本發(fā)明的由利用兩個連續(xù)激光脈沖所創(chuàng)建的等離子體發(fā)出的EUV的示意圖像；以及
圖5根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例的在移動的表面上的沖擊點(diǎn)圖案的示意圖。
具體實(shí)施例方式圖1示出用于生成EUV輻射或軟X射線的裝置的示意性側(cè)視圖，本方法可應(yīng)用于該裝置且該裝置可為本發(fā)明的裝置的一部分。該裝置包括布置于真空腔中的兩個電極1、2。 圓盤形電極1、2可旋轉(zhuǎn)地安裝，即，它們在操作期間繞旋轉(zhuǎn)軸3旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)期間，電極1、 2部分地浸在相應(yīng)容器4、5內(nèi)。這些容器4、5中的每一個包含金屬熔體6，在本情況下，為液態(tài)錫。金屬熔體6保持大約300°C的溫度，S卩，略高于錫的熔點(diǎn)230°C。通過連接到容器的加熱裝置或冷卻裝置(在附圖中未圖示)使容器4、5中的金屬熔體6維持在上述操作溫度。在旋轉(zhuǎn)期間，電極1、2的表面由液態(tài)金屬濕潤使得液態(tài)金屬膜形成在所述電極上。電極 1、2上的液態(tài)金屬的層厚度可借助于剝離器(stripper) 11而通?？刂圃?. 5 μ m到40 μ m 之間的范圍中。經(jīng)由金屬熔體6向電極1、2供應(yīng)電流，金屬熔體6經(jīng)由絕緣饋通8連接到電容器組7。利用這種裝置，電極表面持續(xù)地再生使得不發(fā)生電極基體材料的放電磨損 (discharge wear).電極輪通過金屬熔體的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致電極與金屬熔體之間的緊密熱接觸， 使得由氣體放電加熱的電極輪可有效地向熔體釋放其熱。電極輪與金屬熔體之間的低歐姆電阻還允許傳導(dǎo)很高的電流，該很高的電流是生成用于EUV輻射發(fā)生的充分熱的等離子體所必需的。不需要精細(xì)的電流接觸件或遞送電流的電容器組的旋轉(zhuǎn)。電流可經(jīng)由一個或幾個饋通從金屬熔體外部穩(wěn)定地遞送。電極輪有利地布置于基本真空(basic vacuum)小于KT4Ua(10_4mbar)的真空系統(tǒng)中。高電壓可施加到電極，例如2kV至IOkV之間的電壓，而不會造成任何不受控制的電擊穿。此電擊穿以受控方式由脈動能量束的合適脈沖(在本實(shí)例中為激光脈沖)啟動。激光脈沖9在兩個電極之間最窄的點(diǎn)處聚焦于電極1、2之一上，如圖所示。因此，電極1、2上的金屬膜的部分蒸發(fā)且橋接電極間隙。這導(dǎo)致在此點(diǎn)的破壞性放電，伴有來自電容器組7 的很高的電流。電流加熱金屬蒸汽(在上下文中也被稱作燃料)到高溫度，使得金屬蒸汽被電離且在箍縮等離子體15中發(fā)出所期望的EUV輻射。為了防止燃料從該裝置逸出，碎屑減緩單元10布置于該裝置前方。此碎屑減緩單元10允許輻射從該裝置直通出來，但在碎屑粒子從該裝置出來的途中保持大量的碎屑粒子。為了避免該裝置的外殼14的污染，屏障(screen) 12可布置于電極1、2與外殼14之間。附加的金屬屏障13可布置于電極1、2之間，允許冷凝的金屬流回到兩個容器4、5內(nèi)。利用這種EUV發(fā)生裝置，當(dāng)根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)使用和構(gòu)造時，使用一個單激光脈沖來發(fā)起每次放電。圖3示出在這種裝置中由一個單激光脈沖創(chuàng)建的等離子體發(fā)出的EUV輻射的示意圖像。為了增強(qiáng)低強(qiáng)度發(fā)射區(qū)域的可視性，取對數(shù)標(biāo)度(logarithmic scale)。由在此圖像中繪制的不同外形(shell)來近似地指示不同強(qiáng)度。外部外形示出最低強(qiáng)度，其中最內(nèi)的外形涉及最高強(qiáng)度。閉合圓表示EUV掃描儀的典型的可收集的體積20。如從此圖像可看出的，在可收集的體積20的外部也發(fā)出EUV輻射。盡管強(qiáng)度低，由于其大的體積，在該可收集的體積20外部，由此區(qū)域發(fā)出的能量的總量仍是相當(dāng)大的。在圖3中所描繪的等離子體中，這意味著僅所生成的輻射的大約一半可用于EUV掃描儀中。此等離子體的可收集的轉(zhuǎn)換效率等于0. 8%。這接近當(dāng)僅一個單激光脈沖用于這樣的EUV發(fā)生裝置中錫的蒸發(fā)時可實(shí)現(xiàn)的最大值。為了增大可收集的轉(zhuǎn)換效率，在本方法和裝置中，使用每次放電多于一個激光脈沖來生成錫云。圖2示出一個實(shí)施例，其中使用僅具有25ns時間差的兩個連續(xù)激光脈沖18 來蒸發(fā)錫。在此圖中，電流脈沖19的持續(xù)時間用虛線指示且示出在此電流脈沖19開始處的兩個連續(xù)脈沖18。在此實(shí)例中，在形成電流脈沖19之前，已施加了第二激光脈沖。也可增加在兩個連續(xù)激光脈沖之間的延遲使得在放電期間施加第二激光脈沖(參看圖2中的點(diǎn)線)。在圖4中示出所發(fā)出的EUV輻射的最終的空間強(qiáng)度分布，其可直接與圖3的圖像進(jìn)行比較。所生成的EUV輻射總量相似于圖3的EUV輻射總量，但空間分布多得多地集中于由閉合圓所示的可收集的體積20內(nèi)，這可為EUV掃描儀所用。此等離子體的可收集的轉(zhuǎn)換效率大約為1. 3%，這意味著與每次等離子體放電僅使用一個單激光脈沖相比，效率有超過 50%的提高。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯然的是，所提出的方法并不限于圖2中所示的兩個連續(xù)的激光脈沖。每次放電還可施加三個或更多的連續(xù)激光脈沖，以便提高可收集的轉(zhuǎn)換效率。連續(xù)激光脈沖之間的合適時序可通過使用每一個都具有其自己的觸發(fā)器的不同激光器和/或通過使用分束器和延遲線來實(shí)現(xiàn)。可通過適當(dāng)?shù)匦薷母鶕?jù)圖1的裝置來應(yīng)用這兩種措施。作為在相對于移動的電極表面的相同橫向位置在每次放電內(nèi)施加連續(xù)脈沖或施加不同放電的脈沖組的替代，這些脈沖也可施加在相對于旋轉(zhuǎn)電極輪的表面的移動方向的不同橫向位置。利用錫表面上的這樣的激光脈沖的分布或激光脈沖沖擊，形成等離子體箍縮或輻射發(fā)射體積，在一次或多次放電上取平均，與現(xiàn)有技術(shù)相比，其具有直徑方向的更高的延伸。利用這樣的徑向上更大的直徑或延伸，減小了相對空間波動。圖1的裝置僅必須適于在電極輪表面上獲得激光脈沖的這樣的分布。這可以通過使用聚焦于電極輪上不同橫向位置的若干激光源或者通過使用激光源與電極輪表面之間的旋轉(zhuǎn)或掃描光學(xué)器件來實(shí)現(xiàn)。圖5示出沖擊圖案的實(shí)例，沖擊圖案可利用在移動的電極表面上施加激光脈沖的這樣的橫向變化來實(shí)現(xiàn)。取決于脈沖或脈沖組之間的時間間隔，在該表面上實(shí)現(xiàn)如圖如和 5b所指示的沖擊點(diǎn)16的圖案17。如果與電極輪的旋轉(zhuǎn)速度相比，在很短的時間間隔中施加兩個激光脈沖或激光脈沖組，則實(shí)現(xiàn)類似于圖fe中所示的圖案。如果在同一時間間隔施加所有脈沖，則實(shí)現(xiàn)圖恥中所示的曲折的圖案。針對一圖案使用三個激光脈沖或激光脈沖組，可實(shí)現(xiàn)如圖5c中所示的近似等腰三角形的結(jié)構(gòu)。沖擊點(diǎn)16中的每一個在三角形的角上。這種圖案組合了提高的輸出功率的優(yōu)點(diǎn)和EUV輻射的較大發(fā)射區(qū)域或體積的優(yōu)點(diǎn)。這個發(fā)射區(qū)域利用圖fe至圖5d中右手邊上的閉合圓指示。與電極輪的旋轉(zhuǎn)速度相比，為此目的，三個激光脈沖或脈沖組可在很短的時間距離中施加。然后在更大時間間隔之后生成下一放電，這可從圖5c中認(rèn)識到。雖然在附圖和前文的描述中詳細(xì)地示出和描述了本發(fā)明，這樣的說明和描述被認(rèn)為是說明性的或示范性的而不是限制性的。本發(fā)明并不限于所公開的實(shí)施例。也可組合上文所述和權(quán)利要求中的不同實(shí)施例。所公開的實(shí)施例的另外的變型可由本領(lǐng)域技術(shù)人員在實(shí)踐所要求保護(hù)的本發(fā)明時，通過研究附圖、公開內(nèi)容和所附權(quán)利要求而理解和實(shí)現(xiàn)。舉例而言，施加連續(xù)脈沖并不限于施加兩個連續(xù)脈沖。也可以使用多于兩個激光脈沖或連續(xù)脈沖以實(shí)現(xiàn)可收集的轉(zhuǎn)換效率的期望的增加。本發(fā)明也不限于EUV輻射或軟X射線，而是可應(yīng)用于由電操作的放電發(fā)出的任何類型的光學(xué)輻射。在權(quán)利要求中，詞語“包括”不排除其它元件或步驟，且不定冠詞“一”不排除多個。 在互不相同的從屬權(quán)利要求中陳述特定措施的這一起碼事實(shí)并不表示不能使用這些措施的組合來取得益處。權(quán)利要求中的附圖標(biāo)記不應(yīng)被解釋為限制這些權(quán)利要求的范圍。附圖標(biāo)記列表1電極 2電極 3旋轉(zhuǎn)軸 4容器 5容器 6金屬熔體 7電容器組 8饋通 9激光脈沖 10碎屑減緩單元 11剝離器 12屏蔽件 13金屬屏障 14外殼
15箍縮等離子體 16沖擊點(diǎn) 17圖案
18連續(xù)激光脈沖 19電流脈沖 20可收集的體積.
權(quán)利要求
1.一種用于借助于電操作的放電生成光學(xué)輻射、特別是EUV輻射或軟X射線的裝置，包括-至少兩個電極(1，2)，其彼此相距一定距離地布置于放電空間中，這允許在所述電極(1，2)之間在氣態(tài)介質(zhì)中點(diǎn)燃等離子體(15)，-用于向通過所述放電空間移動的一個或幾個表面施加液態(tài)材料(6)的裝置，以及 -能量束裝置，其適于將一個或幾個脈動能量束導(dǎo)向至所述表面上，至少部分地蒸發(fā)所述施加的液態(tài)材料(6)，由此產(chǎn)生所述氣態(tài)介質(zhì)的至少部分，-其中所述能量束裝置被設(shè)計(jì)成在每次放電的時間間隔內(nèi)施加所述脈動能量束的至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)到所述表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述能量束裝置被設(shè)計(jì)成以< 300ns的相互時間延遲來施加所述至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述能量束裝置被設(shè)計(jì)成在相對于所述表面的移動方向的不同橫向位置施加每次放電的所述至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)和/或至少兩次不同放電的脈沖組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述能量束裝置被設(shè)計(jì)成施加所述脈沖能量束的脈沖或脈沖組以在所述裝置操作期間實(shí)現(xiàn)所述表面處沖擊點(diǎn)(16)的周期性重復(fù)的圖案(17)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述用于施加液態(tài)材料(6)的裝置適于向所述電極(1，2)中的至少一個的表面施加液態(tài)材料(6)，所述電極(1，2)中的所述至少一個被設(shè)計(jì)為可在操作期間置為旋轉(zhuǎn)的可旋轉(zhuǎn)輪。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，還包括輻射傳感器和/或dl/dt探測器，所述輻射傳感器被配置成測量所述生成的光學(xué)輻射的特征，所述dl/dt探測器用于確定由所述放電生成的快離子的量。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，還包括控制單元，其連接到所述能量束裝置且基于所測量的特征和/或所確定的快離子的量來控制所述兩個連續(xù)脈沖(9，18)之間的時間延遲。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中所述控制單元被設(shè)計(jì)成控制所述兩個連續(xù)脈沖(9，18)之間的時間延遲以實(shí)現(xiàn)最大EUV輸出和/或由所述放電生成的快離子的最小量。
9.一種借助于電操作的放電生成光學(xué)輻射、特別是EUV輻射或軟X射線的方法，其中 -在放電空間中至少兩個電極(1，2)之間在氣態(tài)介質(zhì)中點(diǎn)燃等離子體(15)，所述等離子體(1 發(fā)出待生成的所述輻射，-其中所述氣態(tài)介質(zhì)至少部分地由液態(tài)材料(6)產(chǎn)生，所述液態(tài)材料(6)被施加到在所述放電空間中移動的一個或幾個表面上且至少部分地由一個或幾個脈動能量束蒸發(fā)；以及 -其中在每次放電的時間間隔內(nèi)施加所述脈動能量束的至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)到所述表面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中以< 300ns的相互時間延遲來施加所述至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中在相對于所述表面的移動方向的不同橫向位置施加每次放電的所述至少兩個連續(xù)脈沖(9，18)和/或至少兩次不同放電的脈沖組。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中向所述表面施加所述脈動能量束的脈沖或脈沖組使得在所述表面的移動期間在所述表面處實(shí)現(xiàn)沖擊點(diǎn)(16)的周期性重復(fù)的圖案(17)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中檢測所述生成的光學(xué)輻射的特征和/或由所述放電生成的快離子的量且基于所述檢測的測量數(shù)據(jù)控制兩個連續(xù)脈沖(9，18)之間的時間延遲。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中控制所述兩個連續(xù)脈沖(9，18)之間的時間延遲以實(shí)現(xiàn)最大EUV輸出和/或快離子的最小量。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述電極(1，2)中的至少一個在操作期間被置為旋轉(zhuǎn)，所述液態(tài)材料(6)被施加到所述電極(1，2)中的所述至少一個的表面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種借助于電操作的放電生成光學(xué)輻射、特別是EUV輻射或軟X射線的方法和裝置。在至少兩個電極(1,2)之間在氣態(tài)介質(zhì)中點(diǎn)燃等離子體(15)，其中所述氣態(tài)介質(zhì)至少部分地由液態(tài)材料(6)產(chǎn)生，液態(tài)材料被施加到在放電空間中移動的一個或幾個表面上且至少部分地由一個或幾個脈動能量束蒸發(fā)。在所提出的方法和裝置中，在每次放電的時間間隔內(nèi)，施加至少兩個連續(xù)脈沖(9,18)到所述表面上。利用這種措施，與在每次放電內(nèi)僅使用一個單能量脈沖相比，增加了可收集的轉(zhuǎn)換效率。
文檔編號H05G2/00GK102257883SQ200980150671
公開日2011年11月23日 申請日期2009年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月16日
發(fā)明者A. 凱珀 F., E. 弗布拉克 H., W. 內(nèi)夫 J., 瓊克斯 J. 申請人:愛克斯特里姆科技有限責(zé)任公司, 皇家飛利浦電子股份有限公司