專利名稱：雙螺旋線圈盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種線圈盤，具體是一種雙螺旋線圈盤。
背景技術(shù)：
電磁爐線圈盤是電磁爐中重要的功率輸出元件，它由IGBT功率管向功率輸出元 件電磁線圈盤輸送頻率為20KHz、電流約20A的脈沖電流，使設(shè)置在線圈盤上方的鐵質(zhì)鍋具 底部產(chǎn)生強(qiáng)大渦流并發(fā)熱，達(dá)到加熱食物的目的。理論上電磁爐的熱效率可以達(dá)到93%，由 于傳統(tǒng)的電磁爐受造價(jià)及結(jié)構(gòu)影響，其效率只有80%左右，除了功率管(IGBT)、風(fēng)扇、控制 板的功耗約6%外，其余的損耗14%均來自于電磁線圈盤，因此如何降低電磁線圈盤的造 價(jià)，提高Q值、降低溫升，是提高電磁爐電氣性能，熱效率及使用壽命的一個(gè)重要途徑。而市場上的電磁爐一般呈平板狀，鍋具一般為平底鍋，因此這種電磁爐一般智能 對(duì)平底鍋的底部進(jìn)行加熱，熱效率較低，于是市面上開始出現(xiàn)對(duì)電磁爐線圈盤的結(jié)構(gòu)進(jìn)行 改造的電磁爐。如中國專利文獻(xiàn)號(hào)CN 2679958于2005年2月16日公開了一種內(nèi)外環(huán)型加熱線 圈盤，包括線圈盤支架、鐵粉芯和加熱線圈，其線圈盤支架分為內(nèi)環(huán)支架和外環(huán)支架，設(shè)置 在內(nèi)外環(huán)支架和鐵粉芯上的加熱線圈也分為相隔離的內(nèi)加熱線圈盤和外加熱線圈盤。所述 的內(nèi)、外環(huán)支架和內(nèi)、外加熱線圈盤在同一平面上，或在不同平面上，或在圓弧鍋底內(nèi)凹弧 面上。內(nèi)加熱線圈盤與外加熱線圈盤通過并聯(lián)或串聯(lián)的方式聯(lián)接；加熱線圈盤一般為內(nèi)凹 的盤狀。該結(jié)構(gòu)雖然能對(duì)平底鍋的頂部也同時(shí)進(jìn)行加熱，但是其實(shí)用范圍較窄，而且這種繞 線方式所產(chǎn)生的磁場并不均勻，容易造成鍋具受熱不均，因此，有必要進(jìn)一步改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的旨在提供一種設(shè)計(jì)簡單、結(jié)構(gòu)合理、適用性廣、產(chǎn)生的磁場均 勻、使用安全可靠的雙螺旋線圈盤，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處。按此目的設(shè)計(jì)的一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈，其結(jié)構(gòu)特 征是線圈盤呈平底鍋狀或弧底鍋狀，線圈螺旋式盤繞在其上。所述線圈盤呈平底鍋狀，其底部設(shè)置有圓形平底托，平底托放射性地向上延伸出 數(shù)條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成線圈盤的盤身。所述線圈盤呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂部邊緣設(shè)置有水平凸緣。所述線圈的間隙均勻地螺旋盤繞在線圈盤上。所述線圈的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤上。所述線圈的間隙變化為，從線圈盤的中心到外圈，間隙由小變大、再由大變小。所述線圈的間隙變化為，從線圈盤的中心到其半徑中點(diǎn)，間隙由小變大、從線圈盤 半徑中點(diǎn)到其外圈，間隙由大變小。所述線圈的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。所述線圈盤的直徑大小為10-60厘米。[0015]通過采用上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型通過改變線圈盤的形狀(即改變線圈盤盤面 與鍋具底部的距離)及改變線圈的繞制密度，以增加電磁爐的適用范圍，同時(shí)通過調(diào)節(jié)線 圈間的間隙，平衡鍋具底部的磁場，保證鍋具的受熱均勻，提高電磁爐的熱效率。其同時(shí)具 有設(shè)計(jì)簡單、結(jié)構(gòu)合理、適用性廣、使用安全可靠的特點(diǎn)，特別適合不同外形結(jié)構(gòu)的電磁爐， 適合廠家的推廣。
圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的又一立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖1的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本實(shí)用新型又一實(shí)施例的主視圖；圖5為圖4的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為圖4的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。第一實(shí)施例參見圖1-圖3，本雙螺旋線圈盤，包括線圈盤2，和盤繞在其上的線圈1，其線圈盤 2呈平底鍋狀，其底部設(shè)置有圓形平底托，平底托放射性地向上延伸出數(shù)條彎曲的支肋，支 肋末端相互連接形成線圈盤2的盤身。線圈1的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤2上，其 間隙變化為，從線圈盤2的中心到其半徑中點(diǎn)，間隙由小變大、從線圈盤2半徑中點(diǎn)到其外 圈，間隙由大變??；而且線圈1的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。另外，線圈盤盤面與 鍋具底弧面(圖3虛線所示)距離由小變大、再由大變小。用該線圈盤2做的電磁爐，一般適合平底鍋、或弧底鍋的烹飪使用，其線圈1的間 隙經(jīng)過準(zhǔn)確計(jì)算并調(diào)整，確保平底鍋底部磁場均勻，從而使其受熱均勻，該設(shè)計(jì)可有效提高 電磁爐的熱效率，節(jié)約能源，滿足時(shí)下提倡的低碳生活，而且由于線圈1的每圈線圈之間的 間隙大小均不相等，因而其適合用于做成尺寸較大的線圈盤2，使其適合用于餐飲企業(yè)的廚 具中，為企業(yè)節(jié)約更多成本。第二實(shí)施例參見圖4-圖6，本雙螺旋線圈盤，線圈盤3呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂 部邊緣設(shè)置有水平凸緣。線圈1的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤3上，其間隙變化為，從 線圈盤3的中心到其半徑中點(diǎn)，間隙由小變大、從線圈盤3半徑中點(diǎn)到其外圈，間隙由大變 ??；而且線圈1的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。其中，線圈盤2的直徑大小為50厘米。由于該線圈盤3呈弧底鍋狀，因而特別適合弧底鍋的烹飪使用，同時(shí)還能增加電 磁爐的適用范圍，大大滿足不同人或餐飲企業(yè)的不同需求，而且由于線圈1的每圈線圈之 間的間隙大小均不相等，因而其適合用于做成尺寸較大的線圈盤2，使其適合用于餐飲企業(yè) 的廚具中，為企業(yè)節(jié)約更多成本。
權(quán)利要求1.一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈(1)，其特征是線圈盤呈平底 鍋狀或弧底鍋狀，線圈(1)螺旋式盤繞在其上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈盤(2)呈平底鍋狀，其底部 設(shè)置有圓形平底托，平底托放射性地向上延伸出數(shù)條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成 線圈盤的盤身。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈盤(3)呈弧底鍋狀，其底部 開有圓形通孔，其頂部邊緣設(shè)置有水平凸緣。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈(1)的間隙均勻地螺 旋盤繞在線圈盤(2)、(3)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈(1)的間隙漸變式地 螺旋盤繞在線圈盤O)、(3)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈(1)的間隙變化為，從線圈 盤O)、(3)的中心到外圈，間隙由小變大、再由大變小。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈(1)的間隙變化為，從線圈 盤(2),(3)的中心到其半徑中點(diǎn)，間隙由小變大、從線圈盤(2),(3)半徑中點(diǎn)到其外圈，間 隙由大變小。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈(1)的每圈線圈之間的間 隙大小均不相等。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特征是所述線圈盤0)、(3)的直徑大小為 10-60厘米。
專利摘要一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈，其線圈盤呈平底鍋狀或弧底鍋狀，線圈螺旋式盤繞在其上。這兩種線圈盤主要用于加熱球形弧底鍋具。線圈盤呈平底鍋狀，其底部設(shè)置有圓形平底托，平底托放射性地向上延伸出數(shù)條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成線圈盤的盤身。或者，線圈盤呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂部邊緣設(shè)置有水平凸緣。線圈的間隙均勻地螺旋盤繞在線圈盤上?；蛘撸€圈的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤上。本實(shí)用新型通過改變線圈盤的形狀及改變線圈的繞制密度，以增加電磁爐的適用范圍，同時(shí)通過調(diào)節(jié)線圈間的間隙，平衡鍋具底部的磁場，保證鍋具的受熱均勻，提高電磁爐的熱效率。
文檔編號(hào)H05B6/36GK201830488SQ201020591610
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月28日
發(fā)明者萬宇 申請(qǐng)人:萬宇