專利名稱:罩固定工具及電感耦合等離子處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及用于固定電感耦合等離子處理裝置中對構(gòu)成處理室的頂壁部分的窗部件的下表面進(jìn)行覆蓋的罩的罩固定工具以及具備該罩固定工具的電感耦合等離子處理
直O(jiān)
背景技術(shù):
在FPD(平板顯示器)的制造工序中,對FPD用玻璃基板實(shí)施等離子蝕刻、等離子灰化、等離子成膜等各種等離子處理。作為實(shí)施這種等離子處理的裝置,已知一種能夠產(chǎn)生高密度等離子的電感耦合等離子(ICP)處理裝置。電感耦合等離子處理裝置具備氣密地保持且對作為被處理體的基板實(shí)施等離子處理的處理室、和配置于處理室的外部的高頻天線。處理室具有構(gòu)成其頂壁部分的由電介體等材質(zhì)構(gòu)成的窗部件,高頻天線配置于窗部件的上方。在該電感耦合等離子處理裝置中, 通過對高頻天線施加高頻電力,經(jīng)由窗部件在處理室內(nèi)形成感應(yīng)電場,通過該感應(yīng)電場,導(dǎo)入到處理室內(nèi)的處理氣體被轉(zhuǎn)化為等離子,并使用該等離子來對基板實(shí)施預(yù)定的等離子處理。在該電感耦合等離子處理裝置中,若窗部件的下表面露出于處理室,則該窗部件的下表面會因等離子而受損。窗部件由于不能容易地裝卸,所以即使受傷也不能容易地更換或清理。為此,像專利文獻(xiàn)1所記載的那樣,將窗部件的下表面,用容易裝卸的罩進(jìn)行覆蓋。由此,能夠保護(hù)窗部件的下表面,且能夠容易更換或清理受損的罩。專利文獻(xiàn)1 日本特開2001-28299號公報(bào)像專利文獻(xiàn)1記載的那樣,以往,罩是通過多個(gè)螺絲而固定在窗部件的支承部件上的。更詳細(xì)而言,以往的罩固定方法,在罩的周緣部的附近部分,形成分別供螺絲的軸部插通的多個(gè)貫通孔,在各貫通孔中從罩的下面?zhèn)炔迦肼萁z的軸部,并將該軸部擰入對窗部件進(jìn)行支承的支承部件中,從而固定罩。但是,該現(xiàn)有的罩固定方法存在如下問題。在處理室實(shí)施等離子處理時(shí),由于罩的下表面連續(xù)地暴露于等離子中,所以其溫度上升。在罩的下表面的溫度上升的過程中,罩的下表面產(chǎn)生不均勻的溫度分布,其結(jié)果, 罩產(chǎn)生伸長或彎曲等微小變形。此時(shí),由于罩材料(例如陶瓷)和支承部件材料(例如鋁) 的熱膨脹系數(shù)不同,所以產(chǎn)生罩變形量和支承部件的變形量之差。因此,為了使罩的貫通孔附近部分幾乎不產(chǎn)生變形而通過螺絲將罩固定到支承部件的情況下,罩的貫通孔附近部分會被施加過度的應(yīng)力,存在從該部分起罩產(chǎn)生破損的可能性。為此,可以想到相比螺絲的軸部的直徑充分加大罩的貫通孔的直徑,并設(shè)置罩和螺絲殼相對變位的機(jī)構(gòu),來防止過度的應(yīng)力施加到罩的貫通孔附近部分的方案。但就算這樣,罩變形時(shí)施加于罩的應(yīng)力也容易集中在貫通孔附近部分,所以容易產(chǎn)生以貫通孔為起點(diǎn)的裂紋,造成罩的破損。此外,在現(xiàn)有的罩的固定方法中,在處理室的頂壁面上形成有由于多個(gè)螺絲的頭部而產(chǎn)生的多個(gè)凸部。這種凸部,容易使等離子處理時(shí)產(chǎn)生的副生成物附著在其上。因此,
4在等離子處理中,附著于螺絲頭部的副生成部會從螺絲的頭部被剝離而產(chǎn)生微粒(浮游粒子),因此存在該微粒引起蝕刻不良的可能性。此外,還存在螺絲的頭部被等離子消耗而產(chǎn)生微粒,并且該微粒引起蝕刻不良的可能性。并且,現(xiàn)有的罩的固定方法,由于使用大量的螺絲來固定罩,所以存在罩的裝卸作業(yè)性變差等問題。此外,近年,應(yīng)對FPD的大型化,還帶來電感耦合等離子處理裝置的處理室的大型化。在具有大型處理室的電感耦合等離子處理裝置中,有時(shí)窗部件和罩分別由被分割的多個(gè)部分的構(gòu)成。在這種情況下,為了固定蓋而使用更多的螺絲,所以罩的裝卸作業(yè)性變得更差,還增加微粒產(chǎn)生的可能性。此外,以往的電感耦合等離子處理裝置,采用在對上述窗部件進(jìn)行支承的梁等支承部件上形成氣體導(dǎo)入路,并經(jīng)由設(shè)置于罩的多個(gè)小氣孔向處理室導(dǎo)入氣體的方法。因此, 必須在梁上加工出用于使氣體擴(kuò)散的空隙部分,并且還需要在罩上形成多個(gè)微細(xì)的氣孔, 因而加工所需時(shí)間和成本大大增加。此外,在沒有支承部件的部位由于不能配設(shè)氣體導(dǎo)入路,所以向處理室導(dǎo)入氣體的部位僅限于支承部件的配設(shè)位置,向處理室內(nèi)以均勻的分布供給氣體并形成均勻的電感耦合等離子的觀點(diǎn)上,有待改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而作出的,其目的在于提供一種罩固定工具,在電感耦合等離子處理裝置中,能夠抑制對窗部件的下表面進(jìn)行覆蓋的罩的破損和微粒的產(chǎn)生,并且能夠容易裝拆罩,同時(shí)提高氣體導(dǎo)入的設(shè)計(jì)自由度。本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置的罩固定工具使用于電感耦合等離子處理裝置。該電感耦合等離子處理裝置具備處理室,其具有構(gòu)成頂壁部分的窗部件,實(shí)施等離子處理;氣體供給裝置,其向上述處理室供給氣體;高頻天線,其配置于上述窗部件的上方, 在上述處理室內(nèi)形成感應(yīng)電場;支承部件,其對上述窗部件進(jìn)行支承;以及罩,其對上述窗部件的下表面進(jìn)行覆蓋。本發(fā)明的罩固定工具對上述罩進(jìn)行固定。本發(fā)明的罩固定工具具備對上述罩進(jìn)行支承的支承部和與上述支承部連接的基部,在上述基部設(shè)有氣體導(dǎo)入路,該氣體導(dǎo)入路構(gòu)成從上述氣體供給裝置向上述處理室供給氣體的氣體流路的一部分。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,上述氣體導(dǎo)入路可以具有傳導(dǎo)比上述氣體流路的其他部分的小的節(jié)流部。此時(shí),上述節(jié)流部可以為與上述處理室面對的氣孔。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,在上述氣體導(dǎo)入路上設(shè)有等離子切斷部件,該等離子切斷部件防止等離子從上述處理室內(nèi)向上述氣體流路的上游側(cè)進(jìn)入。此時(shí),上述等離子切斷部件可以具備主體和形成于該主體并供氣體通過的多個(gè)貫通開口。并且,上述貫通開口和上述氣孔被配設(shè)于在直線上不重合的位置。此外,上述氣孔的傳導(dǎo)比上述貫通開口的傳導(dǎo)小。此外,一個(gè)或多個(gè)上述等離子切斷部件裝拆自如地配備于上述氣體導(dǎo)入路。此外,上述等離子切斷部件和上述罩固定工具各自獨(dú)立且可更換。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,可以在上述氣體導(dǎo)入路形成氣體擴(kuò)散空間。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,上述支承部件具有與上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結(jié)的第一部件,上述基部可以直接或間接固定在上述第一部件。此時(shí),上述第一部件具有機(jī)械性游隙地被支承于上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部。
此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,上述支承部件具有與電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結(jié)的第一部件和與該第一部件連結(jié)的第二部件,上述基部可以直接或間接固定于上述第二部件。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,上述支承部可以對構(gòu)成上述罩的一部分的被支承部以在與上述支承部件和上述窗部件中的至少一方之間直接或間接夾持的方式進(jìn)行支承。此外,在本發(fā)明的罩固定工具中,上述支承部可以具有對上述被支承部的下表面進(jìn)行支承的上表面和隨著遠(yuǎn)離上述基部而距上述上表面的距離變得越小的下表面。本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置在一個(gè)或多個(gè)部位安裝有上述任意一種罩固定工具。在本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置中,上述罩可以具有切口部,該切口部用于安裝上述罩固定工具。在本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置中,可以安裝有更換用罩固定工具來替換上述罩固定工具的至少一個(gè),該更換用罩固定工具構(gòu)成為可與上述罩固定工具進(jìn)行更換,具備對上述罩進(jìn)行支承的支承部和與上述支承部連接的基部,并且該基部具有對上述氣體導(dǎo)入路和上述處理室的內(nèi)部的氣體流動(dòng)進(jìn)行切斷的封閉結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的罩固定工具具備對罩進(jìn)行支承的支承部和與支承部連接的基部,在基部設(shè)有從氣體供給裝置向處理室供給氣體的氣體流路的一部分。也就是說,本發(fā)明的罩固定工具具有對罩進(jìn)行固定的功能,并且具有經(jīng)由罩固定工具向處理室內(nèi)供給氣體的功能。由此,在本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置中,能夠在罩上不形成供螺絲的軸部插通的多個(gè)貫通孔地固定罩,削減了部件數(shù),抑制了罩的破損和微粒的產(chǎn)生,并且能夠容易地裝拆罩。此外,無需在支承部件上設(shè)置用于擴(kuò)散氣體的空隙,或無需在罩上形成多個(gè)氣孔。并且,還可以從沒有支承部件的部位進(jìn)行氣體供給,起到向處理室導(dǎo)入氣體的部位的自由度提高,能夠在處理室內(nèi)容易形成均勻的電感耦合等離子的效果。
圖1為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置的剖視圖。圖2為表示圖1的電介體壁及掛鉤的立體圖。圖3為表示圖1的電介體壁及高頻天線的立體圖。圖4為表示電介體罩及電介體罩固定工具的仰視圖。圖5為表示圖4的5-5線所示位置的截面的剖視圖。圖6為配備了等離子切斷部件的電介體罩固定工具的剖視圖。圖7為配備了多個(gè)等離子切斷部件的電介體罩固定工具的剖視圖。圖8為表示第二實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置的剖視圖。圖9為表示圖8的電介體罩及電介體罩固定工具的仰視圖。圖10為表示第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置的電介體罩及電介體罩固定工具的仰視圖。圖11為表示圖10的11-11線所示位置的截面的剖視圖。圖12為更換用電介體罩固定工具的剖視圖。
圖13為配備了電介體罩固定工具和更換用電介體罩固定工具的電介體罩的仰視圖。標(biāo)號說明1、Ia…電感耦合等離子處理裝置;2…主體容器;4…天線室;5…處理室;6…電介體壁;7…支承架;12···電介體罩;12A1、12B1…被支承部;13···天線;16…支承梁;18···電介體罩固定工具;18a…支承部;18b…基部;21a…氣體導(dǎo)入路;21b…氣體導(dǎo)入路;101…氣體導(dǎo)入路;IOla…氣孔。
具體實(shí)施例方式
以下,參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。[第一實(shí)施方式]首先,參照圖1至圖4,對本發(fā)明的第一實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖1為表示電感耦合等離子處理裝置的剖視圖。圖2為表示作為“窗部件”的電介體壁及作為“支承部件”的掛鉤(suspender)的立體圖。圖3為表示圖1的電介體壁及高頻天線的立體圖。圖4為表示作為“罩”的電介體罩及作為“罩固定工具”的電介體罩固定工具的仰視圖。圖1所示的電感耦合等離子處理裝置1是例如對FPD用玻璃基板(以下,簡記為“基板”)S實(shí)施等離子處理的裝置。作為FPD可以例示出液晶顯示器(LCD)、電致發(fā)光 (Electro Luminescence ;EL)顯示器、等離子顯示屏(PDP)等。電感耦合等離子處理裝置1具備主體容器2 ;天線室4和處理室5,天線室4和處理室5是利用配置于該主體容器2內(nèi)且作為“窗部件”的電介體壁6將主體容器2內(nèi)的空間劃分成上下兩個(gè)空間而構(gòu)成的。天線室4為主體容器2內(nèi)的電介體壁6的上側(cè)空間,處理室5為主體容器2內(nèi)的電介體壁6的下側(cè)空間。從而,電介體壁6構(gòu)成天線室4的底部, 并且構(gòu)成處理室5的頂壁部分。處理室5保持為氣密狀態(tài),并在此對基板實(shí)施等離子處理。主體容器2為具有上壁部加、底部2b和四個(gè)側(cè)部2c的方筒形狀的容器。其中,主體容器2還可以為圓筒形狀的容器。作為主體容器2的材料,使用鋁、鋁合金等導(dǎo)電性材料。 作為主體容器2的材料,在使用鋁的情況下,對主體容器2的內(nèi)壁面實(shí)施氧化鋁膜處理,以不會從主體容器2的內(nèi)壁面產(chǎn)生污染物。電介體壁6具有大致正方形形狀的上表面及底面、四個(gè)側(cè)面,形成大致長方體形狀。電介體壁6由電介體材料形成。作為電介體壁6的材料,例如,使用Al2O3等陶瓷或石英。作為一個(gè)例子,電介體壁6被分割為6個(gè)部分。即,電介體壁6具有第一部分壁6A、第二部分壁6B、第三部分壁6C及第四部分壁6D。另外,電介體壁6也可不被分割成四個(gè)部分。電感耦合等離子處理裝置1還具備支承架7和支承梁16作為支承著電介體壁6 的支承部件。支承架7安裝于主體容器2的側(cè)壁2c。支承梁16,如圖2所示呈十字形狀。 電介體壁6的四個(gè)部分壁6A、6B、6C、6D通過支承架7和支承梁16進(jìn)行支承。另外,支承架 7和支承梁16也可形成一體。電感耦合等離子處理裝置1還具備圓筒形狀的掛鉤8A及圓柱形狀的掛鉤8B、8C、 8D、8E,這些掛鉤分別具有與主體容器2的上壁部加連接的上端部。支承梁16在其上表面的中央部分(十字的交叉部分)與掛鉤8A的下端部連接。在本實(shí)施方式中,掛鉤8A 8E及支承梁16均為支承部件,掛鉤8A構(gòu)成“第一部件”,支承梁16構(gòu)成“第二部件”。此外, 支承梁16在其上表面的中央部分和十字的四個(gè)前端部分之間的中間四個(gè)部位,與掛鉤8B、 8C、8D、8E的下端部連接。這樣,支承梁16通過五個(gè)掛鉤8A 8E懸吊于主體容器2的上壁部加,在主體容器2的內(nèi)部的上下方向的大致中央位置,維持水平狀態(tài)地配置。在掛鉤8A 的內(nèi)部形成有氣體導(dǎo)入路21a,該氣體導(dǎo)入路21a構(gòu)成“第一氣體導(dǎo)入路”的一部分。作為支承梁16的材料,優(yōu)選例如使用鋁等金屬材料。在作為支承梁16的材料而使用鋁的情況下,對支承梁16的內(nèi)外表面實(shí)施氧化鋁膜處理,以防止從表面產(chǎn)生污染物。在支承梁16的內(nèi)部形成有氣體導(dǎo)入路21b,該氣體導(dǎo)入路21b構(gòu)成“第一氣體導(dǎo)入路”的一部分。電感耦合等離子處理裝置1還具備高頻天線13 (以下,簡記為“天線”),該天線13 配置于天線室4的內(nèi)部、即處理室5的外部且電介體壁6的上方。如圖3所示,天線13呈大致正方形的平面方形渦旋形狀。天線13配置于電介體壁6的上表面。在主體容器2的外部配置有耦合器14和高頻電源15。天線13的一端經(jīng)由耦合器14與高頻電源15連接。 天線13的另一端與主體容器2的內(nèi)壁連接,并經(jīng)由主體容器2接地。電感耦合等離子處理裝置1還具備電介體罩12,該電介體罩12作為“罩”對電介體壁6的下表面進(jìn)行覆蓋。電介體罩12具有大致正方形形狀的上表面及底面、四個(gè)側(cè)面, 呈板狀。電介體罩12由電介體材料形成。作為電介體罩12的材料例如使用Al2O3等陶瓷或石英。作為一個(gè)例子,電介體罩12與電介體壁6相同地被分割成四個(gè)部分。S卩,如圖4所示,電介體罩12具有第一部分罩12A、第二部分罩12B、第三部分罩12C及第四部分罩12D。 第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D分別覆蓋電介體壁6的第一至第四部分壁6A、6B、6C、 6D的下表面。其中,電介體罩12可被分割成四個(gè)部分,也可被分割成5個(gè)部分以上。如圖4所示,電感耦合等離子處理裝置1具備電介體罩固定工具18,該電介體罩固定工具18作為本實(shí)施方式所涉及的“罩固定工具”而對電介體罩12進(jìn)行固定。電感耦合等離子處理裝置1還具備除電介體罩固定工具18之外的電介體罩固定工具19A、19B、19C、 19D。電介體罩12通過電介體罩固定工具18、19A、19B、19C、19D進(jìn)行固定。其中,對電介體罩12的周邊部的固定不限于19A、19B、19C、19D這四個(gè)部位。在對基板S實(shí)施等離子處理時(shí),從高頻電源15對天線13供給感應(yīng)電場形成用的高頻電力(例如,13. 56MHz的高頻電力)。由此,通過天線13在處理室5內(nèi)形成感應(yīng)電場。 該感應(yīng)電場使后述的處理氣體轉(zhuǎn)化為等離子。在主體容器2的外部還設(shè)置有氣體供給裝置20。氣體供給裝置20經(jīng)由上述氣體流路向處理室5內(nèi)供給等離子處理所使用的處理氣體。氣體供給裝置20經(jīng)由作為“氣體配管”的氣體供給管21而與形成于掛鉤8A的中空部的氣體導(dǎo)入路21a連接。該氣體導(dǎo)入路 21a與形成于支承梁16的氣體導(dǎo)入路21b連接。本實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置1 的“氣體流路”由作為氣體配管的氣體供給管21、作為“第一氣體導(dǎo)入路”的氣體導(dǎo)入路21a 及氣體導(dǎo)入路21b、以及作為“第二氣體導(dǎo)入路”的氣體導(dǎo)入路101 (后述)構(gòu)成。在執(zhí)行等離子處理時(shí),處理氣體經(jīng)由氣體供給管21、形成于掛鉤8A內(nèi)的氣體導(dǎo)入路21a、形成于支承梁16內(nèi)的氣體導(dǎo)入路21b、電介體罩固定工具18的氣體導(dǎo)入路101而向處理室5內(nèi)供給。 作為處理氣體,例如使用SF6氣體或Cl2氣體等。其中,還可以在氣體流路設(shè)置未圖示的閥或流量控制裝置,但在此處省略說明。電感耦合等離子處理裝置1還具備基座(susc印tor) 22、絕緣體框?qū)?、支?5、波紋管沈和閘門閥27。支柱25與設(shè)置于主體容器2的下方的未圖示的升降裝置連接,通過形成于主體容器2的底部的開口部而向處理室5內(nèi)突出。此外,支柱25具有中空部。絕緣體框M設(shè)置于支柱25的上方。該絕緣體框M呈上部開口的箱狀。在絕緣體框M的底部形成有與支柱25的中空部連續(xù)的開口部。波紋管沈包圍支柱25并以氣密狀態(tài)與絕緣體框M及主體容器2的底部內(nèi)壁連接。由此,維持處理室5的氣密性?;?2收納于絕緣體框M內(nèi)?;?2具有用于載置基板S的載置面22k。載置面22A與電介體罩12相向。作為基座22的材料,例如使用鋁等導(dǎo)電性材料。在作為基座 22的材料而使用鋁的情況下,對基座22的表面實(shí)施氧化鋁膜處理,以防止從表面產(chǎn)生污染物。在主體容器2的外部還設(shè)置有耦合器觀和高頻電源29?;?2經(jīng)由插通于絕緣體框M的開口部及支柱25的中空部的通電棒而與耦合器觀連接,并經(jīng)由該耦合器觀而與高頻電源四連接。在對基板S實(shí)施等離子處理時(shí),從高頻電源四向基座22供給偏壓用的高頻電力(例如,3. 2MHz的高頻電力)。該高頻電力是為了將等離子中的離子有效引向載置于基座22上的基板S而使用的。閘門閥27設(shè)置于主體容器2的側(cè)壁。閘門閥27具有開閉功能,以關(guān)閉狀態(tài)維持處理室5的氣密性,并且以開啟狀態(tài)在處理室5和外部之間移送基板S。在主體容器2的外部還設(shè)置有真空裝置30。真空裝置30經(jīng)由與主體容器2的底部連接的排氣管而與處理室5連接。在對基板S實(shí)施等離子處理時(shí),真空裝置30排出處理室5內(nèi)的空氣,將處理室5維持為真空氛圍。接著,參照圖4至圖7,對本實(shí)施方式的電介體罩固定工具進(jìn)行詳細(xì)說明。圖4表示電介體罩12及電介體罩固定工具18、19A、19B、19C、19D。圖5為表示圖4的5_5線所示位置的截面的截面圖。如上所述,電介體罩12具有第一至第四部分罩12A 12D。在圖4中,第一部分罩 12A配置于電介體罩12整體配置區(qū)域中的左上區(qū)域,第二部分罩12B配置于電介體罩12整體配置區(qū)域中的右上區(qū)域,第三部分罩12C配置于電介體罩12整體區(qū)域中的左下區(qū)域,第四部分罩12D配置于電介體罩12整體配置區(qū)域中的右下區(qū)域。在電介體罩12的中央部,在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D上,形成弧狀的切口部121、122、123、124,這些切口部合起來時(shí)構(gòu)成圓形的開口部。電介體罩固定工具18、19A、19B、19C、19D均具備支承部和基部。支承部為配置于作為電介體罩12的一部分的被支承部的下側(cè),且對該被支承部進(jìn)行支承的部分。從處理室5側(cè)看到的電介體罩固定工具18的形狀為,比在電介體罩12的中央部由切口部121、122、123、124形成的圓形的開口部稍大的圓形。另外,電介體罩固定工具18 是以覆蓋電介體罩12的圓形的開口部的方式配置。此外,在電介體罩固定工具18上形成多個(gè)氣孔101a。在圖4中,示出了 6個(gè)氣孔101a,但氣孔IOla的個(gè)數(shù)是任意的。其中,從處理室5側(cè)看到的電介體罩固定工具18的形狀,不限于圓形,例如還可以為四邊形等多邊形形狀。從處理室5側(cè)看到的電介體罩固定工具19A 19D的形狀均為長方形。其中,本
9發(fā)明的“罩固定工具”為電介體罩固定工具18,對于電介體罩固定工具19A 19D,省略詳細(xì)的說明。接著,對電介體罩固定工具18的結(jié)構(gòu)及作用進(jìn)行詳細(xì)說明。電介體罩固定工具 18具備對第一至第四部分罩12A 12D的一部分進(jìn)行支承的支承部18a和與該支承部18a 連接的基部18b。在本實(shí)施方式的電介體罩固定工具18中,環(huán)狀的支承部18a以包圍基部 18b的周圍的方式與基部18b —體形成。另一方面,如圖5所示,第一部分罩12A具有被支承部12A1。被支承部12A1具有下表面12Ala和與該下表面12Ala連續(xù)的側(cè)端12Alb。側(cè)端12Alb還是切口部121的端緣。 在圖5所示例子中,被支承部12A1的上表面與支承梁16的下表面抵接,但被支承梁12A1的上表面只要與支承梁16和第一部分壁6A中的至少一方的下表面抵接即可。同樣,第二部分罩12B具有被支承部12B1。被支承部12B1具有下表面12Bla和與該下表面12Bla連續(xù)的側(cè)端12Blb。在圖5所示例子中,被支承部12B1的上表面與支承梁16和第二部分壁6B 雙方的下表面抵接,但被支承部12B1的上表面只要與支承梁16和第二部分壁6B的至少一方的下表面抵接即可。第三及第四部分罩12C、12D也分別具有與上述被支承部12A1、12B1 相同的被支承部。電介體罩固定工具18的支承部18a具有對這些被支承部12A1、12B1等下表面12Ala、12Bla等進(jìn)行支承的上表面18al和下表面18a2。支承部18a的下表面18a2 為隨著遠(yuǎn)離基部18b距支承部18a的上表面18al的距離變得越窄的錐面。支承部18a可以通過例如夾設(shè)第三部件來間接支承電介體罩12的被支承部12A1、12B1等。從處理室5側(cè)看到的基部18b的形狀為比電介體罩12的圓形的開口部的形狀稍小的形狀。電介體罩固定工具18的基部18b的上部具有突出成圓筒狀的凸部18bl,在該凸部18bl的周圍形成有螺紋牙1油2?;?8b的凸部18bl被插入于電介體罩12的圓形的開口部內(nèi)。在基部18b的凸部18bl的內(nèi)部,形成有與氣體導(dǎo)入路21b連接的作為“第二氣體導(dǎo)入路”的氣體導(dǎo)入路101。氣體導(dǎo)入路101構(gòu)成氣體流路的一部分,并且是使氣體導(dǎo)入路 21b和處理室5的內(nèi)部連通的部分?;?8b與該氣體導(dǎo)入路21b的終端鄰接而被直接或間接固定于支承梁16。此外,在基部18b上,作為“氣體節(jié)流部”的氣孔IOla形成在多個(gè)部位。氣孔IOla貫穿基部18b的底壁而設(shè)置,構(gòu)成氣體導(dǎo)入路101的一部分,并且作為氣體流路的終端與處理室5面對地開口。電介體罩固定工具18的基部18b被固定成,與作為支承部件的支承梁16的位置關(guān)系不發(fā)生改變。支承梁16具有凹部16a,在該凹部16a的內(nèi)周形成有螺紋槽16b。而且, 電介體罩固定工具18使螺紋牙1油2與螺紋槽16b螺合,將基部18b的凸部18bl擰入支承梁16的凹部16a,由此固定于支承梁16。這樣,電介體罩固定工具18能夠在凸部18bl上不使用螺絲等其他部件的固定機(jī)構(gòu)地固定于支承梁16,所以能夠削減部件數(shù),并且還能消除從露出于等離子的螺絲頭部產(chǎn)生微粒的問題。另外,在圖5中,構(gòu)成將電介體罩固定工具 18的基部18b的螺紋牙1油2直接螺合于支承梁16的螺紋槽16b的結(jié)構(gòu),但電介體罩固定工具18不限于使用例如螺絲等部件來進(jìn)行固定,還可以在基部18b與支承梁16之間夾設(shè)第三部件來進(jìn)行固定。如在圖6中放大表示的那樣,在設(shè)置于電介體罩固定工具18的基部18b的氣體導(dǎo)入路101上,配備有等離子切斷部件201。等離子切斷部件201在圓板狀的主體201a上具有多個(gè)貫通開口 201b。作為等離子切斷部件201的材質(zhì),優(yōu)選絕緣材料。等離子切斷部件 201裝拆自如地嵌入于氣體導(dǎo)入路101。例如,可以將等離子切斷部件201的外徑和基部18b 的氣體導(dǎo)入路101的內(nèi)徑大致相等地加工并進(jìn)行嵌合,還可以在等離子切斷部件201的外周和基部18b的氣體導(dǎo)入路101的內(nèi)周,分別設(shè)置能夠螺合的螺紋牙、螺紋槽來進(jìn)行安裝。 此外,等離子切斷部件201例如可以通過夾設(shè)未圖示的隔離物而配置為與形成氣孔IOla的基部18b的底壁分離。在等離子切斷部件201和基部18b的底壁之間,為氣體導(dǎo)入路101的氣體擴(kuò)散空間103。氣體擴(kuò)散空間103具有使來自氣孔101的氣體的噴出壓均勻的作用。此外,等離子切斷部件201的貫通開口 201b和基部18b的氣孔IOla以在直線上不重合的位置關(guān)系進(jìn)行配置,以從處理室5觀察不到氣體導(dǎo)入路21b的內(nèi)部。通過將氣孔IOla 和貫通開口 201b配置成在直線上不重合,能夠防止處理室5內(nèi)的等離子經(jīng)由氣孔IOla侵入而支承梁16被該等離子損傷或腐蝕。在圖6中,用箭頭表示處理室5內(nèi)產(chǎn)生的等離子, 表示該等離子在從氣孔IOla侵入到氣體導(dǎo)入路101時(shí)被等離子切斷部件201阻擋,防止向作為氣體流路的上游側(cè)的氣體導(dǎo)入路21b (參照圖5)侵入的樣子。此外,在本實(shí)施方式中,設(shè)定貫通開口 201b及氣孔IOla的個(gè)數(shù)和開口面積,使基部18b的氣孔IOla的傳導(dǎo)比等離子切斷部件201的貫通開口 201b的傳導(dǎo)小。通過使基部 18b的氣孔IOla的傳導(dǎo)比等離子切斷部件201的貫通開口 201b的傳導(dǎo)小,能夠促進(jìn)氣體從氣孔IOla向處理室5的均勻的噴出。等離子切斷部件201和電介體罩固定工具18各自獨(dú)立且可更換。其中,圖5及圖6示出了安裝一個(gè)等離子切斷部件201的狀態(tài),但還可以配備多個(gè)等離子切斷部件201。 在圖7中示出了將等離子切斷部件201A和等離子切斷部件201B兩個(gè)上下配備的狀態(tài)。此時(shí),同樣優(yōu)選為,在等離子切斷部件201A和等離子切斷部件201B之間及等離子切斷部件 201B和基部18b的底壁之間通過夾設(shè)例如未圖示的隔離物來分離從而形成氣體擴(kuò)散空間 103。此外,優(yōu)選為將等離子切斷部件201A、201B的各貫通開口 201b和氣孔IOla配置成在直線上不重合,以從處理室5內(nèi)看不到氣體導(dǎo)入路21b內(nèi)。在圖7中,用箭頭表示了在處理室5內(nèi)產(chǎn)生的等離子,表示該等離子在從氣孔IOla侵入到氣體導(dǎo)入路101時(shí)被等離子切斷部件201A、201B阻擋而防止向作為氣體流路的上游側(cè)的氣體導(dǎo)入路21b侵入的樣子。這樣,通過配備多個(gè)等離子切斷部件,能夠可靠地防止向作為氣體流路的上游側(cè)的氣體導(dǎo)入路21b (參照圖5)的侵入。[第二實(shí)施方式]接著,對改變電介體罩固定工具的配設(shè)位置的第二實(shí)施方式所涉及的電感耦合等離子處理裝置進(jìn)行說明。在圖1、圖4等所示的第一實(shí)施方式中,電介體罩固定工具18在電介體壁6的中央被固定于支承梁16。但是,電介體罩固定工具18可以在電介體壁6下方的任意位置支承電介體罩12。圖8為表示第二實(shí)施方式所涉及的電感耦合等離子處理裝置Ia的剖視圖。圖9為表示該電感耦合等離子處理裝置Ia的電介體罩12及電介體罩固定工具18的仰視圖。另外,在以下說明中,對于第二實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置la,將圍繞與第一實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置1(圖1)不同的點(diǎn)進(jìn)行說明,并且對于相同的結(jié)構(gòu),標(biāo)記相同的標(biāo)號并省略說明。在第二實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置Ia中,除呈十字形狀的支承梁16的中央部分之外,從該中央部分向四方延伸的支承梁16的途中,還分別配備了電介體罩固定工具18。從而,在電感耦合等離子處理裝置Ia上配備了合計(jì)五個(gè)電介體罩固定工具18。如圖8所示,在第一變形例的電感耦合等離子處理裝置Ia中,除了在與支承梁16 的中央部連結(jié)的掛鉤8A,在與支承梁16上表面的中央部分和十字的四個(gè)前端部分的中間四個(gè)部位連接的掛鉤8B、8C、8D、8E的內(nèi)部,也設(shè)有氣體導(dǎo)入路。氣體供給管21在途中被分岔為五個(gè)(在圖8中只示出三個(gè)),并與各掛鉤8A、8B、8C、8D、8E內(nèi)部的氣體導(dǎo)入路連接。 其中,標(biāo)號145為設(shè)在供給管21途中的用于控制氣體流量的閥。在中央的掛鉤8A的內(nèi)部設(shè)有氣體導(dǎo)入路21a,該氣體導(dǎo)入路21a與支承梁16的內(nèi)部的氣體導(dǎo)入路21b連接,并且氣體導(dǎo)入路21b與電介體罩固定工具18的氣體導(dǎo)入路101 連接。此外,在掛鉤8B、8C、8D、8E的內(nèi)部,分別設(shè)有從氣體供給管21分岔的氣體導(dǎo)入路(在圖8中,只示出了掛鉤8B、8C的氣體導(dǎo)入路141a、142a,其他進(jìn)行了省略)。這些氣體導(dǎo)入路與形成于支承梁16內(nèi)部的氣體導(dǎo)入路連接(在圖8中,只示出了氣體導(dǎo)入路141b、142b, 其他進(jìn)行了省略),并且與形成于各電介體罩固定工具18的氣體導(dǎo)入路101連接。通過這種結(jié)構(gòu),除電介體壁6的中央部之外,還能在其周圍的四個(gè)部位,利用四個(gè)電介體罩固定工具18來可靠地固定電介體罩112,并且能夠經(jīng)由電介體罩固定工具18將處理氣體導(dǎo)入到處理室5內(nèi)。從而,能夠從配備于五個(gè)部位的電介體罩固定工具18,分別獨(dú)立地向處理室 5內(nèi)進(jìn)行氣體供給。另外,在本實(shí)施方式中,掛鉤8A 8E及支承梁16均為支承部件,掛鉤 8A 8E構(gòu)成“第一部件”,支承梁16構(gòu)成“第二部件”。本實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置Ia的各電介體罩固定工具18的結(jié)構(gòu)及固定方法,與圖1的電感耦合等離子處理裝置1的情況相同。此外,在本實(shí)施方式中,在電介體罩12中配備各電介體罩固定工具18的部位,設(shè)置多個(gè)弧狀的切口部,這些切口部合起來時(shí)變?yōu)閳A形的開口部。具體而言,如圖9所示,在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D上,對應(yīng)安裝于十字形支承梁16的中央部的電介體罩固定工具18而形成有弧狀的切口部121、122、123、124。其中,這點(diǎn)與第一實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置1相同。在本實(shí)施方式中,還對應(yīng)安裝于從中央部向四方延伸的支承梁16的途中的四個(gè)電介體罩固定工具18,而在第一部分罩12A上形成切口部125、126,在第二部分罩12B上形成切口部127、128,在第三部分罩12C上形成切口部129、130,在第四部分罩12D上形成切口部131、132。切口部125 132在與鄰接的部分罩的切口部合起來時(shí)具有圓形的形狀(半圓形)。這樣,在本實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置Ia中,除了掛鉤8A的位置,還在掛鉤8B 8E的位置安裝電介體罩固定工具18,能夠更可靠地固定電介體罩12。此外,除了掛鉤8A的位置,還可以從掛鉤8B 8E的位置經(jīng)由電介體罩固定工具18向處理室5內(nèi)導(dǎo)入氣體,因此通過處理室5內(nèi)的氣體的均勻的擴(kuò)散而能夠穩(wěn)定地生成均勻的等離子。此外,五個(gè)電介體罩固定工具18通過閥145而能夠獨(dú)立地控制氣體流量,所以還可以根據(jù)處理室5內(nèi)的等離子的生成狀況而單獨(dú)地調(diào)節(jié)從各電介體固定工具18供給的氣體流量。其中,在圖8中,構(gòu)成使氣體供給管21從單一的氣體供給裝置20分岔而向掛鉤8A、8B、8C、8D、 8E內(nèi)的氣體導(dǎo)入路導(dǎo)入氣體的結(jié)構(gòu),但還可以是從多個(gè)氣體供給裝置20向掛鉤8A、8B、8C、 8D、8E單獨(dú)地連接氣體供給管的結(jié)構(gòu)。此外,在本實(shí)施方式中,示出了除了掛鉤8A的位置, 還在與十字形的支承梁16的上表面的中央部分和十字的四個(gè)前端部分的中間四個(gè)部位連接的掛鉤8B、8C、8D、8E的位置配備電介體罩固定工具18的形態(tài),但即使是支承梁的形狀或掛鉤的位置及數(shù)量不同的結(jié)構(gòu),也能對應(yīng)掛鉤的位置配備電介體罩固定工具18。[第三實(shí)施方式]接著,參照圖10及圖11,對本發(fā)明的第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置進(jìn)行說明。其中,在以下的說明中,對于第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置,將圍繞與第一及第二實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置不同的點(diǎn)進(jìn)行說明,并且對于相同的結(jié)構(gòu),省略說明。電介體罩固定工具18還可安裝于沒有支承梁16或支承架7等支承部件的部位。 圖10為第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置的電介體罩12及電介體罩固定工具18 的仰視圖。此外,圖11為圖10的11-11線的位置的截面的剖視圖。如圖10所示,在第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置中,除了電介體罩12的中央,還在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的各個(gè)中央部分上具備電介體罩固定工具 18。第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的各中央部分,不存在作為支承部件的支承梁16。 因此,如圖11所示,電介體罩固定工具18被固定于作為支承部件的掛鉤110。其中,在圖 11中,作為代表示出了固定第一部分罩12A的電介體罩固定工具18,但對于固定第二至第四部分罩12B 12D的電介體罩固定工具18也一樣。掛鉤110為支承電介體壁6的支承部件,構(gòu)成“第一部件”。掛鉤110與掛鉤8A 8E、支承梁16、支承梁7等其他支承部件獨(dú)立地配設(shè)。在掛鉤110的內(nèi)部形成有與氣體供給管21連接的氣體導(dǎo)入路151。此外,掛鉤110的下端具有進(jìn)行了擴(kuò)徑的圓筒形的擴(kuò)張部分 110a。該擴(kuò)張部分IlOa為與第一部分壁6A扣合而對其進(jìn)行支承的部分。此外,在擴(kuò)張部分IlOa的下端形成有凹部110b,在該凹部IlOb的內(nèi)周形成有螺紋槽110c。通過在該螺紋槽IlOc上螺紋結(jié)合電介體罩固定工具18的凸部18bl的螺紋牙 18b2,能夠?qū)㈦娊轶w罩固定工具18固定于掛鉤110。掛鉤110相對主體容器2的上壁部加具有機(jī)械性游隙地被支承。更具體而言,在掛鉤110的上部設(shè)有壓板111,掛鉤110在該壓板111和上壁部加之間經(jīng)由緩沖部件112 而連結(jié)。緩沖部件112例如由氟橡膠、硅橡膠等彈性材料或盤簧墊圈等可彈性變形的部件構(gòu)成。通過夾設(shè)緩沖部件112,掛鉤110成為能夠相對主體容器2的上壁部加稍稍變位的連結(jié)狀態(tài),在主體容器2的上壁部加以具有若干機(jī)械性游隙的狀態(tài)被支承。由此,即使在因熱等而電介體壁6膨脹或變形的情況下,電介體壁6或電介體罩12也不會被施加不需要的應(yīng)力,防止了電介體壁6或電介體罩12的破損。電介體罩固定工具18的結(jié)構(gòu)與上述第一及第二實(shí)施方式相同。即,電介體罩固定工具18具備對第一部分罩12A的一部分進(jìn)行支承的支承部18a和基部18b。在基部18b的凸部18bl的內(nèi)部,形成有與氣體導(dǎo)入路151連接的氣體導(dǎo)入路101。氣體導(dǎo)入路151構(gòu)成 “第一氣體導(dǎo)入路”,氣體導(dǎo)入路101構(gòu)成“第二氣體導(dǎo)入路”。氣體導(dǎo)入路101為構(gòu)成氣體流路的一部分且連通氣體導(dǎo)入路151和處理室5的內(nèi)部的部分。此外,在基部18b的底部, 氣孔IOla形成在多個(gè)部位。氣孔IOla是貫穿基部18b的底壁而設(shè)置,構(gòu)成氣體導(dǎo)入路101 的一部分,且作為氣體流路的終端與處理室5面對地開口。電介體罩固定工具18以使其基部18b與氣體導(dǎo)入路151的終端鄰接的方式被安裝在擴(kuò)張部分110a。其中,電介體罩固定工具18還可以經(jīng)由其他部件間接地固定于掛鉤110。
雖然省略了圖示,但安裝于第二至第四部分罩12B、12C、12D的中央部分的電介體罩固定工具18也與上述的同樣地被固定于掛鉤110。此外,在本實(shí)施方式中,在電介體罩12中配備各電介體罩固定工具18的部位設(shè)有切口部。具體而言,如圖10所示,在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D上,對應(yīng)安裝于十字形支承梁16的中央部的電介體罩固定工具18,形成有弧狀的切口部121、122、123、124。 并且,在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的中央部,分別設(shè)有圓形的切口部(S卩,開口部)133、134、135、136。圓形的切口部133、134、135、136形成為電介體罩固定工具18的凸部18b 1能夠插入的大小。這樣,在本實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置中構(gòu)成為,除了電介體壁6的中央位置,還能夠從第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的各中央部,經(jīng)由掛鉤110的氣體導(dǎo)入路151及電介體罩固定工具18向處理室5內(nèi)導(dǎo)入氣體,因此能夠通過處理室5內(nèi)的氣體的均勻擴(kuò)散而穩(wěn)定地生成更均勻的等離子。其中,配設(shè)掛鉤110及電介體罩固定工具18的位置以及數(shù)量,不限于在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的中央部設(shè)置一個(gè),而是可在任意位置配設(shè)任意個(gè)數(shù)。此外,五個(gè)電介體罩固定工具18能夠與第二實(shí)施方式同樣地利用閥來獨(dú)立控制來自氣體供給裝置20的氣體流量,所以能夠根據(jù)處理室5內(nèi)的等離子的生成狀況來單獨(dú)地調(diào)節(jié)從各電介體罩固定工具18供給的氣體流量。其中,在本實(shí)施方式中,還可以從多個(gè)氣體供給裝置20向掛鉤8A及四個(gè)掛鉤110單獨(dú)地連接氣體供給管。在以上的從第一至第三實(shí)施方式中,電介體罩固定工具18裝拆自如地被安裝。因此,能夠與電介體罩12分開地只更換電介體罩固定工具18。此外,作為電介體罩固定工具 18的氣孔101a,可以準(zhǔn)備多種開口直徑或開口面積(開口率)不同的氣孔,根據(jù)所需的氣體的噴出壓而選擇最佳的電介體罩固定工具18并進(jìn)行安裝。在這種情況下,能夠根據(jù)電介體罩固定工具18的安裝部位,配備氣孔IOla開口直徑或開口面積(開口率)不同的電介體罩固定工具18,由此能夠調(diào)整向處理室5內(nèi)供給的氣體的平衡。也就是說,即使不在氣體供給管21的途中控制來自氣體供給裝置20的氣體流量,也能根據(jù)各電介體罩固定工具18 的氣孔IOla的傳導(dǎo)來單獨(dú)地調(diào)節(jié)氣體的噴出壓。并且,通過與電介體罩固定工具18 —起改變等離子切斷部件201的配設(shè)個(gè)數(shù)、貫通開口 201b的個(gè)數(shù)、開口面積等,同樣能夠調(diào)節(jié)來自各電介體罩固定工具18的氣孔IOla的氣體的噴出壓。從而,能夠以簡易的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)向處理室5內(nèi)的氣體供給的平衡的最優(yōu)化。此外,在上述第二實(shí)施方式及第三實(shí)施方式的電感耦合等離子處理裝置中,還可以改變電介體罩固定工具18而使用不具有氣孔的電介體罩固定工具。例如,圖12表示在電感耦合等離子處理裝置中能夠替代電介體罩固定工具18安裝的電介體罩固定工具180 的截面構(gòu)造。電介體罩固定工具180除了不具有氣體導(dǎo)入路101及氣孔IOla及不配備等離子切斷部件的點(diǎn)之外,具有與電介體罩固定工具18相同的結(jié)構(gòu)。即,電介體罩固定工具 180具備對電介體罩12 (從第一至第四部分罩)的一部分進(jìn)行支承的支承部180a和與該支承部180a連接的基部180b。支承部180a以包圍基部180b的方式在其周圍呈環(huán)狀一體形成。電介體罩固定工具180的基部180b的上部具有突出成圓柱狀的凸部180bl,在該凸部 ISObl的周圍形成有螺紋牙180b2?;?80b中的凸部ISObl的內(nèi)部為實(shí)心。這樣,電介體罩固定工具180不具有與電介體罩固定工具18中的第二氣體導(dǎo)入路相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)(氣體
14導(dǎo)入路101及氣孔101a),而具有對第一氣體導(dǎo)入路和處理室內(nèi)部的氣體流動(dòng)進(jìn)行切斷的封閉結(jié)構(gòu)。圖13為表示與電介體罩固定工具18 —起安裝了不具有氣孔的電介體罩固定工具 180的狀態(tài)的電介體罩及電介體罩固定工具的仰視圖。在圖13所示的例子中,在第一至第四部分罩12A、12B、12C、12D的中央部分的四個(gè)部位,均安裝了具有本發(fā)明的氣孔IOla的電介體罩固定工具18。另一方面,在電介體壁6的中央部(支承梁16的中央部分),安裝了不具有氣孔的電介體罩固定工具180。這樣,通過替代任意位置的電介體罩固定工具18而安裝不具有氣孔的電介體罩固定工具180,能夠調(diào)節(jié)向處理室5內(nèi)供給的氣體的分布。其中,電介體罩固定工具18與電介體罩固定工具180的安裝位置,不限于圖13的配置,可進(jìn)行各種配置。如以上舉例說明的幾個(gè)實(shí)施方式,電介體罩固定工具18具備支承部(例如,圖5 中的標(biāo)號18a),其將具有作為電介體罩12的一部分的下表面和與該下表面連續(xù)的側(cè)端的被支承部(例如,圖5中的12A1、12B1)的下表面,以在與支撐部件(支承梁16、掛鉤110)和電介體壁6中的至少一方之間夾持的方式進(jìn)行支承;以及基部(例如,圖5中的標(biāo)號18b), 其與該支承部連接,其一部分配置于被支承部的側(cè)端的側(cè)方,以與支承部件之間的位置關(guān)系不發(fā)生改變的方式被固定。電介體罩固定工具18的支承部、和支承部件與電介體壁6中的至少一方,起到在它們之間夾持對應(yīng)的電介體罩12的被支承部來固定電介體罩12的夾緊功能。從而,按照本實(shí)施方式,在固定電介體罩12上,能夠不形成供螺絲的軸部插通的多個(gè)貫通孔地固定電介體罩12。因此,能夠防止在電介體罩12上形成多個(gè)貫通孔的情況下由于在貫通孔附近部分施加過度的應(yīng)力而產(chǎn)生的電介體罩12的破損。此外,與使用多個(gè)螺絲來將電介體罩12直接固定于支承部件的現(xiàn)有方法不同,由于使用電介體罩固定工具18,所以在更換或清理電介體罩12時(shí)能夠容易裝卸,并且?guī)缀醪粫a(chǎn)生由螺絲引起的微粒。此外,電介體罩固定工具18的支承部18a的下表面,形成隨著遠(yuǎn)離基部18b而距支承部18a的上表面的距離變得越小的錐面。因此,能夠抑制由電介體罩固定工具18的支承部18a引起的微粒。此外,電介體罩固定工具18由于在沒有支承梁16的情況下也能簡單地設(shè)置,所以通過安裝該電介體罩固定工具18能夠更為可靠地固定電介體罩12。此外,可以經(jīng)由電介體罩固定工具18向處理室5內(nèi)供給氣體。因此,無需對支承梁16實(shí)施用于使氣體擴(kuò)散的加工,也無需在電介體罩12上形成多個(gè)微細(xì)的氣孔,從而能夠大幅節(jié)儉加工時(shí)間和成本。此外,還可以從不存在支承梁16的部位經(jīng)由電介體罩固定工具18進(jìn)行氣體供給,所以向處理室5內(nèi)導(dǎo)入氣體的部位的自由度提高,可以在處理室5內(nèi)有效形成均勻的電感耦合等離子。然而,本發(fā)明不限于上述各實(shí)施方式,還可進(jìn)行各種變更。例如,在本發(fā)明中,對罩固定工具進(jìn)行固定的機(jī)構(gòu),不限于各實(shí)施方式所示出的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定工具,該罩固定工具使用于電感耦合等離子處理裝置并對罩進(jìn)行固定,該電感耦合等離子處理裝置具備處理室,其具有構(gòu)成頂壁部分的窗部件,實(shí)施等離子處理;氣體供給裝置,其向上述處理室供給氣體;高頻天線,其配置于上述窗部件的上方,在上述處理室內(nèi)形成感應(yīng)電場;支承部件,其對上述窗部件進(jìn)行支承;以及上述罩,其對上述窗部件的下表面進(jìn)行覆蓋,其特征在于,具備對上述罩進(jìn)行支承的支承部和與上述支承部連接的基部, 在上述基部設(shè)有氣體導(dǎo)入路,該氣體導(dǎo)入路構(gòu)成從上述氣體供給裝置向上述處理室供給氣體的氣體流路的一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的罩固定工具,其特征在于,上述氣體導(dǎo)入路具有傳導(dǎo)比上述氣體流路的其他部分的小的節(jié)流部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的罩固定工具,其特征在于, 上述節(jié)流部為與上述處理室面對的氣孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于,在上述氣體導(dǎo)入路設(shè)有等離子切斷部件,該等離子切斷部件防止從上述處理室內(nèi)向上述氣體流路的上游側(cè)進(jìn)入等離子。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的罩固定工具,其特征在于, 上述等離子切斷部件具備主體;以及形成于該主體并供氣體通過的多個(gè)貫通開口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的罩固定工具,其特征在于,上述貫通開口和上述氣孔被配設(shè)于在直線上不重合的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的罩固定工具,其特征在于, 上述氣孔的傳導(dǎo)比上述貫通開口的傳導(dǎo)小。
8.根據(jù)權(quán)利要求4至7中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于, 一個(gè)或多個(gè)上述等離子切斷部件裝拆自如地配備于上述氣體導(dǎo)入路。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的罩固定工具,其特征在于,上述等離子切斷部件和上述罩固定工具各自獨(dú)立且可更換。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于, 在上述氣體導(dǎo)入路形成有氣體擴(kuò)散空間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于,上述支承部件具有與上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結(jié)的第一部件,上述基部直接或間接固定于上述第一部件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的罩固定工具,其特征在于,上述第一部件具有機(jī)械性游隙地被支承于上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于,上述支承部件具有與上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結(jié)的第一部件和與該第一部件連結(jié)的第二部件,上述基部直接或間接固定于上述第二部件。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的罩固定工具,其特征在于,上述支承部對構(gòu)成上述罩的一部分的被支承部以在與上述支承部件和上述窗部件中的至少一方之間直接或間接夾持的方式進(jìn)行支承。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的罩固定工具,其特征在于,上述支承部具有對上述被支承部的下表面進(jìn)行支承的上表面和隨著遠(yuǎn)離上述基部而距上述上表面的距離變得越小的下表面。
16.一種電感耦合等離子處理裝置,其特征在于,在一個(gè)或多個(gè)部位安裝有權(quán)利要求1 至15中任一項(xiàng)所述的罩固定工具。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電感耦合等離子處理裝置,其特征在于,上述罩具有切口部,該切口部用于安裝上述罩固定工具。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的電感耦合等離子處理裝置,其特征在于,安裝有更換用罩固定工具來替換上述罩固定工具的至少一個(gè),該更換用罩固定工具構(gòu)成為可與上述罩固定工具進(jìn)行更換,具備對上述罩進(jìn)行支承的支承部和與上述支承部連接的基部,并且該基部具有對上述氣體導(dǎo)入路和上述處理室的內(nèi)部的氣體流動(dòng)進(jìn)行切斷的封閉結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供罩固定工具及電感耦合等離子處理裝置。罩固定工具在電感耦合等離子處理裝置中能抑制覆蓋窗部件的下表面的罩的破損和微粒的產(chǎn)生,容易地裝拆罩并提高氣體導(dǎo)入的設(shè)計(jì)自由度。電介體罩固定工具(18)具備對第一部分罩(12A)的一部分及第二部分罩(12B)的一部分分別進(jìn)行支承的支承部(18a)和基部(18b)。基部的上部具有突出成圓筒狀的凸部(18b1),在凸部的周圍形成有螺紋牙(18b2)。在基部中的凸部的內(nèi)部,形成有與氣體導(dǎo)入路(21b)連接的氣體導(dǎo)入路(101)。氣體導(dǎo)入路構(gòu)成氣體流路的一部分,使氣體導(dǎo)入路和處理室(5)的內(nèi)部連通。氣孔(101a)貫穿基部的底壁設(shè)置,構(gòu)成氣體導(dǎo)入路的一部分。
文檔編號H05H1/46GK102196654SQ20111004025
公開日2011年9月21日 申請日期2011年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月19日
發(fā)明者笠原稔大 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社