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殼體及其制備方法

文檔序號:8050890閱讀:166來源:國知局
專利名稱:殼體及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種殼體及其制備方法。
背景技術(shù)
為了使電子裝置的金屬外殼具有吸引力的外觀,目前主要通過鐳射雕刻、化學(xué)蝕刻等方法在金屬殼體上形成圖案。然而,該種方法制作的圖案,視覺效果不強,且不能呈現(xiàn)出獨特的質(zhì)感,難以吸引消費者的眼球。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種有效解決上述問題的殼體。另外,還有必要提供一種上述殼體的制備方法?!N殼體,其包括基材,該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。一種殼體的制備方法,其包括如下步驟:
提供基材;
采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在基材的表面形成基底陶瓷層;
在基底陶瓷層表面形成圖案層,將陶瓷花紙的花膜均勻貼在基底陶瓷層的表面并進行高溫?zé)Y(jié)處理;
采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在基材的表面形成透明陶瓷層。本發(fā)明所述殼體通過在金屬材質(zhì)的基材上依次形成基底陶瓷層、圖案層及透明陶瓷層,能使所述殼體表面呈現(xiàn)具有陶瓷質(zhì)感的圖案,提高了殼體的外觀競爭力;且形成于基材表面的各膜層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,耐磨性,可有效提高殼體的使用壽命。


圖1為本發(fā)明一較佳實施例的殼體的剖視圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種殼體,其包括基材,其特征在于:該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。
2.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基材的材質(zhì)為不銹鋼或鈦合金。
3.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基底陶瓷層由氧化物陶瓷組成,該基底陶瓷層包括質(zhì)量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5_6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化I丐;其中,該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。
4.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該圖案層由氧化物陶瓷組成,該圖案層包括質(zhì)量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5_6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化I丐;其中,該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。
5.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該透明陶瓷層由氧化物陶瓷組成,該透明陶瓷層包括質(zhì)量百分含量分別為75-85%的氧化硅、5-12%的氧化鋁、5-8%的氧化鉀、4_6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的三氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣。
6.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基底陶瓷層的厚度為0.15-0.18mm。
7.按權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該透明陶瓷層的厚度為0.08-0.1mm。
8.一種殼體的制備方法,其包括如下步驟: 提供基材; 采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在基材的表面形成基底陶瓷層; 將陶瓷花紙的花膜貼在基底陶瓷層的表面并進行高溫?zé)Y(jié)處理,使基底陶瓷層表面形成圖案層; 采用靜電噴涂及高溫?zé)Y(jié)工藝在所述基底陶瓷層及圖案層的表面形成透明陶瓷層。
9.按權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法,其特征在于:所述形成基底陶瓷層的步驟中靜電噴涂采用的噴涂原料中含有質(zhì)量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的氧化鈦、5-6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣;高溫?zé)Y(jié)為在800-805°C的溫度下保溫3_5min。
10.按權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法,其特征在于:所述形成圖案層的步驟中燒結(jié)工藝的具體參數(shù)為:在780-785°C的溫度下保溫3-5min ;然后自然降溫冷卻。
11.按權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法,其特征在于:所述形成透明陶瓷層的步驟中靜電噴涂采用的噴涂原料中含有質(zhì)量百分含量分別為75-85%的氧化硅、5-12%的氧化鋁、5-8%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣;高溫?zé)Y(jié)為在730-750°C的溫度下保溫5-8min。
12.按權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法,其特征在于:該基材的材質(zhì)為不銹鋼或鈦合金。
13.按權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法,其特征在于:所述方法還包括在形成基底陶瓷層前對基材進行粗化處理,使基材的表面粗糙度達到1.3-2.0 μ m。
全文摘要
一種殼體,其包括基材,其特征在于該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層;基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設(shè)置有圖案層,且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中,該圖案層由陶瓷組成。所述殼體表面呈現(xiàn)具有陶瓷質(zhì)感的圖案,提高了殼體的外觀競爭力。此外,本發(fā)明還提供一種所述殼體的制備方法。
文檔編號H05K5/00GK103096649SQ20111033158
公開日2013年5月8日 申請日期2011年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月27日
發(fā)明者朱永剛 申請人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司
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