專利名稱：一種屏蔽罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及電子技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種屏蔽罩。
背景技術(shù)：
為了提高手機(jī)、電腦等小型電子器件或大型通訊設(shè)備的抗EMI (電磁干擾)能力，通常會(huì)在其結(jié)構(gòu)中設(shè)置金屬材質(zhì)制成的屏蔽罩，即利用電磁波無法穿透金屬的原理對(duì)電路板上的元器件進(jìn)行電磁屏蔽。屏蔽罩一般采用拉伸件或者折彎件，主要包括平板狀的頂面和自頂面向下彎折的多個(gè)壁面，相鄰壁面之間形成轉(zhuǎn)角。一種現(xiàn)有技術(shù)如申請(qǐng)日為2011年5月5日、申請(qǐng)?zhí)枮?01120139608. 4的中國(guó)實(shí)用新型專利，公開了一種采用拉伸工藝加工的屏蔽罩，這類屏蔽罩的頂面、壁面和轉(zhuǎn)角完全連為一體，因此屏蔽罩的密閉性較好，然而拉伸件的工藝精度通常較低，制成的屏蔽罩難以 滿足小型電子器件或者精密器件對(duì)于SMT(表面組裝技術(shù))和結(jié)構(gòu)精度的要求。折彎件的工藝精度相對(duì)較高，這類屏蔽罩的壁面由自頂面延伸出的折邊向下彎折形成，轉(zhuǎn)角由相鄰的壁面合攏后自然形成?？紤]到金屬板材自身的厚度可能造成彎折工藝中的結(jié)構(gòu)干涉現(xiàn)象，因此頂面與折邊之間的折痕不能與頂面的角部完全平齊，而是將折痕設(shè)計(jì)在折邊上且與頂角之間保持較小的余量，以確保彎折工藝順利進(jìn)行，然而由于該余量的存在，彎折成型的屏蔽罩在頂角處容易形成類似于正方體的缺口，相鄰的壁面之間有時(shí)也無法完全合攏而形成縫隙，導(dǎo)致屏蔽罩難以完全密封，容易產(chǎn)生電磁波泄漏。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的主要技術(shù)問題是，提供一種提高密封性的屏蔽罩。 為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種屏蔽罩，包括嵌套配合的屏蔽蓋和屏蔽架，所述屏蔽蓋包括第一頂面和與所述第一頂面相連的多個(gè)第一壁面，相鄰兩第一壁面之間具有與所述第一頂面的角部相連的屏蔽蓋棱邊，所述屏蔽蓋棱邊一側(cè)的第一壁面端部延伸至所述屏蔽蓋棱邊，另一側(cè)的第一壁面端部與所述屏蔽蓋棱邊之間留有屏蔽蓋缺口 ；所述屏蔽架包括第二頂面和與所述第二頂面相連的多個(gè)第二壁面，相鄰兩第二壁面之間具有與所述第二頂面的角部相連的屏蔽架棱邊，所述屏蔽架棱邊一側(cè)的第二壁面端部延伸至所述屏蔽架棱邊，另一側(cè)的第二壁面端部與屏蔽架棱邊之間留有屏蔽架缺口 ；所述屏蔽蓋棱邊和屏蔽架棱邊相貼合形成屏蔽罩轉(zhuǎn)角，所述屏蔽蓋缺口和屏蔽架缺口分別位于所述屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)。—種實(shí)施方式中，所述屏蔽蓋缺口的上沿延伸至所述第一頂面內(nèi)部形成第一加工空位，且該上沿與所述屏蔽蓋的第一頂面上對(duì)應(yīng)的角部之間形成第一預(yù)留面。進(jìn)一步地，所述屏蔽架缺口的上沿延伸至所述第二頂面內(nèi)部形成第二加工空位，且該上沿與所述屏蔽架的第二頂面上對(duì)應(yīng)的角部之間形成第二預(yù)留面。所述屏蔽蓋的至少一個(gè)第一壁面和屏蔽架的至少一個(gè)第二壁面上分別設(shè)有定位凸點(diǎn)和定位孔，或所述屏蔽蓋的至少一個(gè)第一壁面和屏蔽架的至少一個(gè)第二壁面上分別設(shè)有定位孔和定位凸點(diǎn)，所述定位凸點(diǎn)嵌入所述定位孔。一種實(shí)施方式中，所述屏蔽架嵌置在所述屏蔽蓋內(nèi)部，所述屏蔽架的厚度不小于
屏蔽蓋的厚度。一種實(shí)施方式中，所述屏蔽架的第二頂面包括邊框、加強(qiáng)筋和中心支撐部，所述邊框的外側(cè)與所述第二壁面相連，內(nèi)側(cè)通過加強(qiáng)筋與所述中心支撐部相連。進(jìn)ー步地，所述中心支撐部包括磁性吸盤。進(jìn)ー步地，所述邊框與加強(qiáng)筋的連接處設(shè)有易折凹槽。一種實(shí)施方式中，所述屏蔽蓋的第一頂面的輪廓為矩形，所述第一壁面具有四個(gè)，所述屏蔽架的第二頂面的輪廓也為矩形，所述第二壁面也具有四個(gè)。一種實(shí)施方式中，所述屏蔽蓋上兩個(gè)相對(duì)的第一壁面在兩端都預(yù)留屏蔽蓋缺ロ，另外兩個(gè)相對(duì)的第一壁面兩端都延伸至對(duì)應(yīng)的屏蔽蓋棱邊；所述屏蔽架上兩個(gè)相対的第ニ壁面在兩端都預(yù)留屏蔽架缺ロ，另外兩個(gè)相對(duì)的第二壁面兩端都延伸至對(duì)應(yīng)的屏蔽架棱邊。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型屏蔽罩為采用屏蔽蓋和屏蔽架嵌套配合而形成的層疊結(jié)構(gòu)，由于屏蔽蓋的有些第一壁面和屏蔽架的有些第二壁面分別留有屏蔽蓋缺口和屏蔽架缺ロ，并不需要彎折形成的所有壁面的端部都延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角處，因此不會(huì)由于各壁面對(duì)應(yīng)的折痕與頂面之間預(yù)留余量而在屏蔽罩的頂角處形成類似于正方體的缺ロ ；裝配吋，兩個(gè)缺ロ分別錯(cuò)開設(shè)置在屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)，使屏蔽蓋缺ロ被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第二壁面完全封閉，屏蔽架缺ロ被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面完全封閉，且延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面和第二壁面正好能夠完全合攏，因此不會(huì)形成縫隙，因此本實(shí)用新型屏蔽罩實(shí)現(xiàn)了無縫配合，有效提高了屏蔽罩的密封性能，減少了電磁波泄漏的隱患。本實(shí)用新型屏蔽罩采用彎折件，其エ藝精度通常較高，制成的屏蔽罩能夠滿足小型電子器件或者精密器件對(duì)于SMT和結(jié)構(gòu)精度的要求，便于裝配，且使用范圍十分廣泛。進(jìn)ー步地，在成型屏蔽蓋時(shí)，可通過設(shè)置第一加工空位和第一預(yù)留面，能夠使第一壁面順利彎折成型且在端部形成屏蔽蓋缺ロ，或者延伸至相應(yīng)的屏蔽蓋棱邊。類似地，在成型屏蔽架時(shí)，可通過設(shè)置第二加工空位和第二預(yù)留面，能夠使第二壁面順利彎折成型且在端部形成屏蔽架缺ロ，或者延伸至相應(yīng)的屏蔽架棱邊。進(jìn)ー步地，屏蔽架的第二頂面包括中心支撐部和邊框，邊框外側(cè)與第二壁面相連，內(nèi)側(cè)通過加強(qiáng)筋與中心支撐部相連，一方面能夠減輕重量、提高屏蔽罩的剛度，另ー方面焊接好的屏蔽架上加強(qiáng)筋與中心支撐部可折斷拆下，留出更大的空間，方便對(duì)電子元件的維修。

圖I為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的屏蔽罩立體圖；圖2為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的屏蔽罩結(jié)構(gòu)分解圖；圖3為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的屏蔽蓋立體圖；圖4為圖3中A位置的局部示意圖；圖5為本實(shí)用新型一種實(shí)施例的屏蔽架立體圖；圖6為圖5中B位置的局部示意圖；[0026]圖7為本實(shí)用新型另一種實(shí)施方式的屏蔽罩結(jié)構(gòu)分解圖。
具體實(shí)施方式
下面通過具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。請(qǐng)參考圖I和圖2，本實(shí)施例的屏蔽罩包括相互嵌套配合形成層疊結(jié)構(gòu)的屏蔽蓋和屏蔽架，屏蔽蓋和屏蔽架都采用彎折成型。本實(shí)施例的屏蔽蓋包括輪廓為矩形的第一頂面11和四個(gè)第一壁面，第一頂面11為平板結(jié)構(gòu)，各第一壁面都與第一頂面11相連自第一頂面11垂直向下彎折形成。當(dāng)然第一頂面11也可根據(jù)需要設(shè)計(jì)成其他形狀，第一壁面的數(shù)量也可根據(jù)第一頂面11的形狀而定。結(jié)合圖3和圖4，相鄰的兩個(gè)第一壁面12、13之間具有與第一頂面11的角部相連的屏蔽蓋棱邊15,該屏蔽蓋棱邊15 —側(cè)的第一壁面13端部一直延伸至屏蔽蓋棱邊15,另一側(cè) 的第一壁面12的端部與屏蔽蓋棱邊15之間留有屏蔽蓋缺口 14。本實(shí)施例的屏蔽架也包括輪廓為矩形的第二頂面和四個(gè)第二壁面，各第二壁面都與第二頂面相連自第二頂面垂直向下彎折形成。結(jié)合圖5和圖6所示，本實(shí)施例中，屏蔽架的第二頂面包括邊框213和中心支撐部211，邊框213的外側(cè)與第二壁面相連，內(nèi)側(cè)通過四條加強(qiáng)筋212與中心支撐部211相連，該屏蔽架結(jié)構(gòu)一方面能夠減輕重量、提高屏蔽罩的剛度，另一方面焊接好的屏蔽架上加強(qiáng)筋與中心支撐部可折斷拆下，留出更大的空間，方便對(duì)電子元件的維修。例如，中心支撐部211可包括磁性吸盤，在裝配過程中能夠被裝配臂吸住，方便裝配到電路板上；進(jìn)一步地，加強(qiáng)筋212與邊框的連接處有易折凹槽，裝配完成后可折斷加強(qiáng)筋212，能夠留出更大的空間，方便維修屏蔽罩內(nèi)的電子元件。當(dāng)然，第二頂面的輪廓和具體結(jié)構(gòu)以及第二壁面的數(shù)量都可根據(jù)需要靈活設(shè)置。相鄰兩個(gè)第二壁面22、23之間也具有與第二頂面的角部相連的屏蔽架棱邊25，該屏蔽架棱邊25 —側(cè)的第二壁面22端部延伸至屏蔽架棱邊25，另一側(cè)的第二壁面23的端部與屏蔽架棱邊25之間留有屏蔽架缺口 24。屏蔽蓋缺口 14和屏蔽架缺口 24的大小和形狀可靈活設(shè)置，如圖I和圖2所示，裝配形成的屏蔽罩中，屏蔽蓋棱邊15和屏蔽架棱邊25相貼合形成屏蔽罩轉(zhuǎn)角，屏蔽蓋缺口 14和屏蔽架缺口 24分別錯(cuò)位設(shè)置于屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)，同時(shí)，屏蔽蓋缺口 14被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第二壁面22完全封閉，屏蔽架缺口 24被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面13完全封閉，且延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面13和第二壁面22能夠完全合攏，不會(huì)形成縫隙。本實(shí)施方式的屏蔽罩在裝配過程中，可通過控制結(jié)構(gòu)尺寸和精度，將屏蔽蓋緊套在屏蔽架外部，使屏蔽罩整體具有良好的外觀，且便于與其他零部件配合安裝。為了方便拆裝，屏蔽蓋的第一頂面11還與屏蔽罩的第二頂面之間留有較小空隙。例如一種裝配方式中，先將屏蔽架焊接在電路板上，其后將屏蔽蓋蓋在屏蔽架上，當(dāng)屏蔽罩內(nèi)的電子元件出現(xiàn)破損時(shí)，只需取下屏蔽蓋即可進(jìn)行維修，操作十分方便。為了使屏蔽架與屏蔽蓋之間形成緊配合并達(dá)到良好的密封及剛度效果，屏蔽架的厚度應(yīng)不小于屏蔽蓋的厚度，例如可選用O. Imm O. 3mm的金屬板材，且尺寸符合裝配要求，屏蔽蓋材料一般為不銹鋼等金屬材料，而屏蔽架采用能焊接于電路板的材料，如馬口鐵
坐寸ο屏蔽罩在設(shè)計(jì)過程中，每個(gè)屏蔽蓋的第一壁面或屏蔽架的第二壁面可能在一端留有屏蔽蓋缺ロ 14或屏蔽架24缺ロ，另一端延伸至屏蔽蓋棱邊15或屏蔽架棱邊25，為了避免屏蔽蓋缺ロ 14或屏蔽架缺ロ 24的寬度過大而無法被對(duì)應(yīng)的第二壁面或第一壁面封閉，可設(shè)置屏蔽蓋缺ロ 14的寬度小于該屏蔽蓋缺ロ 14所在的第一壁面的寬度的一半，且屏蔽架缺ロ 24的寬度小于該屏蔽架缺ロ 24所在的第二壁面的寬度的一半。還有ー種實(shí)施方式如圖2所示，屏蔽蓋上兩個(gè)相対的第一壁面在兩端都預(yù)留屏蔽蓋缺ロ 14，另外兩個(gè)相對(duì)的第一壁面兩端都延伸至屏蔽蓋棱邊15，屏蔽架上兩個(gè)相対的第二壁面在兩端都預(yù)留屏蔽架缺ロ 24，另外兩個(gè)相對(duì)的第二壁面兩端都延伸至屏蔽架棱邊25。請(qǐng)參考圖4，由于屏蔽蓋采用彎折成型，其第一頂面11與各第一壁面之間形成圓角過渡的側(cè)棱121，一種實(shí)施例中，考慮到屏蔽蓋具有一定的厚度，為了對(duì)第一壁面12進(jìn)行順利彎折成型且在端部形成屏蔽蓋缺ロ 14，通過設(shè)計(jì)合理設(shè)計(jì)折痕位置使彎折后屏蔽蓋缺ロ 14的上沿141延伸至第一頂面11內(nèi)部形成第一加工空位，同時(shí)為了使第二壁面13能夠順利彎折成型且延伸至相應(yīng)的屏蔽蓋棱邊15，屏蔽蓋缺ロ 14的上沿141還與屏蔽蓋上第一頂面11對(duì)應(yīng)的角部之間形成第一預(yù)留面142。第一加工空位和第一預(yù)留面142的大小可根據(jù)具體的板材厚度和材料性能等因素進(jìn)行設(shè)定，例如當(dāng)屏蔽蓋的厚度為O. 2mm時(shí)，第一 加工空位的寬度(即屏蔽蓋缺ロ 14的上沿141到第一頂面11與第一側(cè)面12形成的側(cè)棱121之間的距離)可取O. 2mm，第一預(yù)留面的寬度(即屏蔽蓋缺ロ 14的上沿141到第一頂面11與第一側(cè)面13形成的側(cè)棱之間的距離)可取O. 3mm。類似地，請(qǐng)參考圖6，在屏蔽架上，屏蔽架缺ロ 24的上沿241延伸至第二頂面內(nèi)部形成第二加工空位，且該上沿241與屏蔽架上第二頂面對(duì)應(yīng)的角部之間形成第二預(yù)留面242。第二加工空位和第二預(yù)留面242的大小可參考第一加工空位和第一預(yù)留面。例如當(dāng)屏蔽架的厚度為O. 2mm時(shí)，第二加工空位的寬度(即屏蔽架缺ロ 24的上沿241到第二頂面與第二側(cè)面23形成的側(cè)棱231之間的距離)可取O. 2mm，第二預(yù)留面242的寬度(即屏蔽架缺ロ 24的上沿241到第二頂面與第二側(cè)面22形成的側(cè)棱之間的距離)可取O. 3mm。如圖7所示，為了方便屏蔽蓋裝配在屏蔽架上時(shí)形成良好的緊配效果并方便必要時(shí)取下屏蔽蓋，在屏蔽蓋的ー個(gè)第一壁面13內(nèi)側(cè)設(shè)有定位凸點(diǎn)16,相應(yīng)地,在屏蔽架的一個(gè)第二壁面23外側(cè)設(shè)有定位孔26，裝配過程中，屏蔽蓋上的定位凸點(diǎn)16嵌入屏蔽架上的定位孔26。當(dāng)然，也可將定位凸點(diǎn)16設(shè)置在屏蔽架的第二壁面23外側(cè)，將定位孔26設(shè)置在屏蔽蓋的第一壁面13內(nèi)側(cè)。定位凸點(diǎn)16的形狀可為半圓球狀,定位孔26為與定位凸點(diǎn)16的形狀和位置配合的通孔或盲孔。根據(jù)具體需要，還可在屏蔽蓋的多個(gè)第一壁面13上和屏蔽架的多個(gè)第二壁面23上對(duì)應(yīng)設(shè)置定位凸點(diǎn)16或定位孔26，且在屏蔽蓋的每個(gè)第一壁面13上和屏蔽架的每個(gè)第二壁面23上設(shè)置多個(gè)定位凸點(diǎn)16或定位孔26，使裝配更加牢固、可靠。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)ー步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.ー種屏蔽罩，其特征在于，包括嵌套配合的屏蔽蓋和屏蔽架，所述屏蔽蓋包括第一頂面和與所述第一頂面相連的多個(gè)第一壁面，相鄰兩第一壁面之間具有與所述第一頂面的角部相連的屏蔽蓋棱邊，所述屏蔽蓋棱邊ー側(cè)的第一壁面端部延伸至所述屏蔽蓋棱邊，另ー側(cè)的第一壁面端部與所述屏蔽蓋棱邊之間留有屏蔽蓋缺ロ ；所述屏蔽架包括第二頂面和與所述第二頂面相連的多個(gè)第二壁面，相鄰兩第二壁面之間具有與所述第二頂面的角部相連的屏蔽架棱邊，所述屏蔽架棱邊ー側(cè)的第二壁面端部延伸至所述屏蔽架棱邊，另ー側(cè)的第ニ壁面端部與屏蔽架棱邊之間留有屏蔽架缺ロ ；所述屏蔽蓋棱邊和屏蔽架棱邊相貼合形成屏蔽罩轉(zhuǎn)角，所述屏蔽蓋缺ロ和屏蔽架缺ロ分別位于所述屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)。
2.如權(quán)利要求I所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽蓋缺ロ的上沿延伸至所述第一頂面內(nèi)部形成第一加工空位，且該上沿與所述屏蔽蓋的第一頂面上對(duì)應(yīng)的角部之間形成第ー預(yù)留面。
3.如權(quán)利要求2所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽架缺ロ的上沿延伸至所述第二頂面內(nèi)部形成第二加工空位，且該上沿與所述屏蔽架的第二頂面上對(duì)應(yīng)的角部之間形成第ニ預(yù)留面。
4.如權(quán)利要求I所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽蓋的至少ー個(gè)第一壁面和屏蔽架的至少ー個(gè)第二壁面上分別設(shè)有定位凸點(diǎn)和定位孔，或所述屏蔽蓋的至少ー個(gè)第一壁面和屏蔽架的至少ー個(gè)第二壁面上分別設(shè)有定位孔和定位凸點(diǎn)，所述定位凸點(diǎn)嵌入所述定位孔。
5.如權(quán)利要求I至4中任一項(xiàng)所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽架嵌置在所述屏蔽蓋內(nèi)部，所述屏蔽架的厚度不小于屏蔽蓋的厚度。
6.如權(quán)利要求I至4中任一項(xiàng)所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽架的第二頂面包括邊框、加強(qiáng)筋和中心支撐部，所述邊框的外側(cè)與所述第二壁面相連，內(nèi)側(cè)通過加強(qiáng)筋與所述中心支撐部相連。
7.如權(quán)利要求6所述的屏蔽罩，其特征在于，所述中心支撐部包括磁性吸盤。
8.如權(quán)利要求6所述的屏蔽罩，其特征在干，所述邊框與加強(qiáng)筋的連接處設(shè)有易折凹槽。
9.如權(quán)利要求I至4中任一項(xiàng)所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽蓋的第一頂面的輪廓為矩形，所述第一壁面具有四個(gè)，所述屏蔽架的第二頂面的輪廓也為矩形，所述第二壁面也具有四個(gè)。
10.如權(quán)利要求9所述的屏蔽罩，其特征在于，所述屏蔽蓋上兩個(gè)相對(duì)的第一壁面在兩端都預(yù)留屏蔽蓋缺ロ，另外兩個(gè)相對(duì)的第一壁面兩端都延伸至對(duì)應(yīng)的屏蔽蓋棱邊；所述屏蔽架上兩個(gè)相対的第二壁面在兩端都預(yù)留屏蔽架缺ロ，另外兩個(gè)相對(duì)的第二壁面兩端都延伸至對(duì)應(yīng)的屏蔽架棱邊。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種屏蔽罩，包括嵌套配合的屏蔽蓋和屏蔽架，屏蔽蓋包括第一頂面和多個(gè)第一壁面，相鄰兩第一壁面之間具有屏蔽蓋棱邊，屏蔽蓋棱邊一側(cè)的第一壁面端部延伸至所述屏蔽蓋棱邊，另一側(cè)的第一壁面端部與所述屏蔽蓋棱邊之間留有屏蔽蓋缺口；所述屏蔽架包括第二頂面和多個(gè)第二壁面，相鄰兩第二壁面之間具有屏蔽架棱邊，所述屏蔽架棱邊一側(cè)的第二壁面端部延伸至所述屏蔽架棱邊，另一側(cè)的第二壁面端部與屏蔽架棱邊之間留有屏蔽架缺口；所述屏蔽蓋棱邊和屏蔽架棱邊相貼合形成屏蔽罩轉(zhuǎn)角，所述屏蔽蓋缺口和屏蔽架缺口分別位于所述屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)。本實(shí)用新型屏蔽罩實(shí)現(xiàn)了無縫配合，有效提高了屏蔽罩的密封性能，減少了電磁波泄漏的隱患。
文檔編號(hào)H05K9/00GK202587743SQ20122010964
公開日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月21日
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