專利名稱：磁片作多環(huán)狀設(shè)置的大線盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及家用電磁灶內(nèi)部的加熱線盤(pán)，特別是磁片作多環(huán)狀設(shè)置的大線盤(pán)。
背景技術(shù)：
通過(guò)各種線盤(pán)與電子電路配合進(jìn)行中、高頻加熱的裝置有廣泛用途，目前家用電磁灶就是典型的應(yīng)用，其線盤(pán)一般采用6至8條長(zhǎng)度約60mm的磁條，從盤(pán)中向外呈放射狀嵌入支架的槽內(nèi)，盤(pán)面上方繞制單層線圈，此結(jié)構(gòu)的線盤(pán)工作時(shí)只能在鍋底產(chǎn)生一個(gè)直徑約70mm、寬度約30mm的環(huán)狀加熱圈，直接加熱面積僅幾十平方厘米，電功率都集中在這一小環(huán)內(nèi)，因此鍋底加熱極不均勻，尤其在使用薄底鍋具進(jìn)行煎炒時(shí)，環(huán)狀加熱帶內(nèi)食物極易燒焦，鍋具也易變形或開(kāi)裂。 線盤(pán)也有將線圈繞成3環(huán)的，但其磁條的鋪設(shè)方式未改進(jìn)，因此仍然只形成一個(gè)環(huán)狀加熱圈，僅由于3環(huán)的線盤(pán)直徑較大，加熱面積有少許增加，但鍋底大面積加熱及均勻性沒(méi)有根本改善。專利號(hào)ZL200920270013. 5 “高頻扁排線多圈間隔式線盤(pán)”其加熱面積及均勻性十分優(yōu)秀，但其線盤(pán)進(jìn)行工業(yè)化生產(chǎn)時(shí)成本較高，機(jī)械化生產(chǎn)較困難，手工繞制成的質(zhì)量不穩(wěn)
定，需要進(jìn)一步改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型在于解決上述存在的技術(shù)問(wèn)題，提供一種磁片作多環(huán)狀設(shè)置的線盤(pán)，包括鐵氧體磁片和加熱線圈及線盤(pán)支架。該方案的技術(shù)特征是根據(jù)電磁灶不同功率設(shè)計(jì)的圓形線盤(pán)直徑可從170mm至280mm,由數(shù)十只磁片設(shè)置成3環(huán)狀至5環(huán)狀，同軸心布置，環(huán)與環(huán)之間設(shè)有間距，盤(pán)面上可選用多種型式漆包線繞制各種線圈。該線盤(pán)由于磁片的環(huán)狀設(shè)置與線圈渦流對(duì)應(yīng)，可根據(jù)需要設(shè)置環(huán)數(shù)，使密繞的單層線圈也能形成大面積加熱，此類線盤(pán)加工易于機(jī)械化生產(chǎn)，部分規(guī)格現(xiàn)有電磁灶不改變結(jié)構(gòu)可直接換用。按此目的設(shè)計(jì)的磁片作多環(huán)狀設(shè)置的大線盤(pán)，其磁片的幾何形狀可為圓形、長(zhǎng)方形、正方形、橢圓形、半弧形或多邊形。磁片間隔布置成圓環(huán)狀，同軸心設(shè)置3至5環(huán)，環(huán)與環(huán)之間磁片有間距，其距離為3mm至30mm，使各環(huán)互不影響，從而形成各自的渦流圈。所述線盤(pán)的磁片各環(huán)使用數(shù)量可相同，也可不相同，當(dāng)采用3環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至8只、內(nèi)2環(huán)為5至10只、外環(huán)為6至15只；當(dāng)采用4環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至7只、內(nèi)2環(huán)為4至9只、內(nèi)3環(huán)為5至12只、外環(huán)為6至16只；當(dāng)采用5環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至6只、內(nèi)2環(huán)為4至8只、內(nèi)3環(huán)為5至10只、內(nèi)4環(huán)為6至13只、外環(huán)為7至18只。2KW左右的電磁灶宜采用3環(huán)，2. 8KW左右的電磁灶宜采用4環(huán)，3. 5KW左右的電磁灶宜采用5環(huán)。所述線盤(pán)盤(pán)體支架上設(shè)計(jì)安放多環(huán)磁片的凹形槽，槽的形狀與采用的磁片形狀對(duì)應(yīng)。磁片嵌入槽內(nèi)與盤(pán)面有Imm至2mm的距離,線圈與磁片未接觸,此結(jié)構(gòu)磁片與線圈之間可省去膠帶隔離，減少工藝及耗材，支架盤(pán)上設(shè)有通風(fēng)孔便于線盤(pán)散熱。所述線盤(pán)根據(jù)電磁灶功率不同，盤(pán)體直徑不同、技術(shù)規(guī)格要求不同時(shí)，可選用幾十支O. 31mm或至幾百支O. Imm漆包線卷成單束,密繞或疏繞單層線圈，直徑大的線盤(pán)可采用密繞幾匝后間隔一定間距再密繞幾匝的單層多環(huán)線圈，也可采用多束粘成扁線或直接聚積成扁線、還可米用編織而成的扁線繞制多環(huán)線圈。所述線盤(pán)的盤(pán)體當(dāng)磁片設(shè)置成3環(huán)時(shí),其盤(pán)體直徑為170mm至210mm,線圈繞成后電感量為80uH至120uH ;當(dāng)設(shè)置成4環(huán)時(shí)為200mm至250mm，電感量為65uH至IOOuH ;當(dāng)設(shè)置成5環(huán)時(shí)為230mm至280mm，電感量為50uH至80uH。所述線盤(pán)可制成凹形，適用于凹底圓弧形鍋具，也可制成平面形，適用于平底鍋具，由磁片4環(huán)或5環(huán)繞成的線盤(pán)，由于盤(pán)體直徑較大更適于制成凹形線盤(pán)，配合圓弧形鍋具使用。該線盤(pán)根據(jù)不同的直徑大小、不同的磁片環(huán)數(shù)，其加熱面積從約220平方厘米至550平方厘米，鍋底加熱均勻，鍋具不易損壞，線盤(pán)工藝制作簡(jiǎn)單，適用于機(jī)械化生產(chǎn)，以此為核心組成的較大功率電磁灶，使用效果有明顯改進(jìn)。

圖I為圓形磁片3環(huán)狀設(shè)置單層線圈線盤(pán)正視圖圖2為圖I的剖面示意圖(單束密繞式)圖3為圖I的剖面示意圖(凹形單束密繞式)圖4為圖I的剖面示意圖(單束疏繞式)圖5為圓形磁片3環(huán)狀設(shè)置、3環(huán)線圈間隔繞法線盤(pán)正視圖圖6為圖5的剖面示意圖(單束3環(huán)線圈間隔式)圖7為圖5的剖面示意圖(凹形單束3環(huán)線圈間隔式)圖8為圖5的剖面示意圖(扁線3環(huán)線圈間隔式)圖9為圓形磁片4環(huán)狀設(shè)置單層線圈線盤(pán)正視圖圖10為圖9的剖面示意圖(凹形單束疏繞式)圖11為圓形磁片4環(huán)狀設(shè)置、4環(huán)線圈間隔繞法線盤(pán)正視圖圖12為圖11的剖面示意圖(凹形單束4環(huán)線圈間隔式)圖13為圖11的劑面不意圖(扁線4環(huán)線圈間隔式)圖14為圓形磁片5環(huán)狀設(shè)置單層線圈正視圖圖15為圖14的剖面示意圖(單束疏繞式)圖16為長(zhǎng)方形磁片3環(huán)設(shè)置單層線圈線盤(pán)正視圖
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)圖I、圖2、圖3、圖4，在本第一實(shí)施例中，磁片呈3環(huán)狀分布，共用24只圓形磁片I、數(shù)十支O. 27mm至O. 31mm漆包線卷成的單束線2、6個(gè)通風(fēng)孔3、支架盤(pán)4組成。該線盤(pán)直徑為185mm至195mm，內(nèi)I環(huán)設(shè)6只圓形磁片等間距環(huán)狀布置，內(nèi)2環(huán)與內(nèi)I環(huán)相同，外環(huán)為12只圓形磁片、等間距環(huán)狀布置；各環(huán)之間設(shè)5mm左右間距、支架盤(pán)設(shè)計(jì)時(shí)使磁片嵌入時(shí)沉下Imm至2mm,磁片與線圈不接觸。單束漆包線直接在支架盤(pán)上密繞29至31膽，成品電感量為95uH左右，繞成后線圈大電流通電數(shù)秒鐘使線圈加熱粘固在支架盤(pán)上。此線盤(pán)現(xiàn)有2KW左右的電磁灶一般可直接換用。參見(jiàn)圖5、圖6、圖7、圖8，在本第二實(shí)施例中，磁片數(shù)量及分布與圖I相同，不同之處為盤(pán)體直徑為195mm至205mm,線圈采用密繞幾阻后間隔5mm至IOmm再密繞幾阻間隔繞法的線盤(pán)，可提供給要求加熱面積較大的電磁灶使用。參見(jiàn)圖9、圖10，在本第三實(shí)施例中，圓形磁片呈4環(huán)狀分布，共用30只，線圈采用單層疏繞法，該線盤(pán)適合功率較大，加熱面積要求較大的電磁灶，其成品電感量一般為SOuH左右。參見(jiàn)圖11、圖12、圖13，在本第四實(shí)施例中，圓形磁片數(shù)量及分布與圖9相同，線圈則采用單層密繞幾匝后再間距7_至15_再密繞幾匝的間隔繞法，也可采用扁線繞制該線
圈。 參見(jiàn)圖14、圖15，在本第五實(shí)施例中，圓形磁片呈5環(huán)狀分布，共用40只，線圈采用單層疏繞法，該線盤(pán)適合功率大、加熱面積大的電磁灶，其成品電感量一般為60uH左右。參見(jiàn)圖16，在本第六實(shí)施例中，采用長(zhǎng)方形磁片，其作用與圓形磁片一樣，也可采用正方形，橢圓形、半弧形或多邊形來(lái)設(shè)計(jì)該線盤(pán)。
權(quán)利要求1.磁片作多環(huán)狀設(shè)置的大線盤(pán)，包括鐵氧體磁片和加熱線圈及線盤(pán)支架；其特征是圓形線盤(pán)直徑可從170mm至280mm，由數(shù)十片磁片設(shè)置成3環(huán)至5環(huán)，同軸心布置，環(huán)與環(huán)之間設(shè)有間距，盤(pán)面上可選用多種型式漆包線繞制各種線圈。
2.如權(quán)利要求I所述的線盤(pán)，其特征是磁片的幾何形狀可為圓形、長(zhǎng)方形、正方形、橢圓形、半弧形或多邊形。磁片間隔布置成圓環(huán)狀，同軸心設(shè)置3至5環(huán)，環(huán)與環(huán)之間磁片有間距，其距離為3謹(jǐn)至3Ctam。
3.如權(quán)利要求I所述的線盤(pán)，其特征是磁片各環(huán)使用數(shù)量可相同，也可不相同；當(dāng)采用3環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至8只、內(nèi)2環(huán)為5至10只、外環(huán)為6至15只；當(dāng)采用4環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至7只、內(nèi)2環(huán)為4至9只、內(nèi)3環(huán)為5至12只、外環(huán)為6至16只；當(dāng)采用5環(huán)時(shí)內(nèi)I環(huán)為3至6只、內(nèi)2環(huán)為4至8只、內(nèi)3環(huán)為5至10只、內(nèi)4環(huán)為6至13只、外環(huán)為7至18只。
4.如權(quán)利要求I所述的線盤(pán)，其特征是盤(pán)體支架上設(shè)置安放多環(huán)磁片的凹形槽，槽的形狀與采用的磁片形狀對(duì)應(yīng)，磁片嵌入槽內(nèi)與盤(pán)面有Imm至2mm的距離，線圈與磁片未接觸。
5.如權(quán)利要求I所述的線盤(pán)，其特征是線盤(pán)根據(jù)電磁灶功率不同，盤(pán)體直徑不同、技術(shù)規(guī)格要求不同時(shí)，可選用幾十支O. 31mm或至幾百支O. Imm漆包線卷成單束，密繞或疏繞單層線圈，直徑大的線盤(pán)可采用密繞幾匝后間隔一定間距再密繞幾匝的單層多環(huán)線圈；也可米用多束粘成扁線或直接聚積成扁線，還可米用編織而成的扁線繞制多環(huán)線圈。
6.如權(quán)利要求I所述的線盤(pán)，其特征是當(dāng)磁片設(shè)置成3環(huán)時(shí)，其盤(pán)體直徑為170_至210mm，線圈繞成后電感量為80uH至120uH ;當(dāng)設(shè)置成4環(huán)時(shí)為200mm至250mm，電感量為65uH至IOOuH ;當(dāng)設(shè)置成5環(huán)時(shí)為230_至280mm，電感量為50uH至80uH。
專利摘要磁片作多環(huán)狀設(shè)置的大線盤(pán)，涉及一種家用電磁灶中的加熱線盤(pán)，其特征包括由數(shù)十片磁片作多環(huán)狀設(shè)置，盤(pán)面上用漆包線可進(jìn)行多種線圈的繞制，均可獲得大面積均勻加熱的效果。通過(guò)磁片的多環(huán)狀設(shè)置，改變以往電磁灶鍋底渦流圈只有一兩環(huán)的特性，獲得多個(gè)渦流圈，加熱面積擴(kuò)大3至5倍，鍋底加熱均勻，解決了一般電磁灶加熱過(guò)于集中的問(wèn)題。該線盤(pán)成本較低，便于工業(yè)機(jī)械化生產(chǎn)，更利于用來(lái)開(kāi)發(fā)較大功率家用電磁灶，用于煎炒效果十分優(yōu)秀。
文檔編號(hào)H05B6/36GK202713674SQ201220341119
公開(kāi)日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2012年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月10日
發(fā)明者阮道坤, 邱成藩 申請(qǐng)人:阮道坤, 邱成藩