專利名稱:晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種槽底構(gòu)造,尤其是晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造。
背景技術(shù):
很多材料,晶體材料,陶瓷材料等,再生產(chǎn)加工過程中,都會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力,它會(huì)影響材料本省的材質(zhì)和用途。如果應(yīng)力過大,會(huì)產(chǎn)生斷裂,工作不出激光或能量輸出低。一般在加工過程中都要做退火,去除應(yīng)力工作。晶體棒,在加工成型后,通常選擇在氧化鋁退火槽中進(jìn)行退火工序,重復(fù)使用或使用時(shí)間長后,退火槽槽底就會(huì)發(fā)生變形,開裂,雖然在退火過程中,有粉狀材料保護(hù),如果退火槽變形過大,底部不平整,晶體受力不均勻,會(huì)產(chǎn)生新的應(yīng)力,也會(huì)影響產(chǎn)品質(zhì)量。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,能夠增加使用壽命,提高生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。一種晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,包括底層,上述底層的頂面固定有保護(hù)層。進(jìn)一步地,上述底層由若干基層疊加固定而成。進(jìn)一步地,上·述保護(hù)層的厚度與上述基層的厚度之比為1.6:1 2.0:1。進(jìn)一步地,上述基層的厚度有30 60mm。本實(shí)用新型的有益效果在于,在槽底底層上增加保護(hù)層,可以起到減少由于退火工作對底層的損傷,增加了退火槽的使用壽命,提高了生產(chǎn)效率;同時(shí)在保護(hù)層損傷較大后可以進(jìn)行替換而不用對退火槽進(jìn)行整體替換,間接的減少了生產(chǎn)成本。
圖1為本實(shí)用新型晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。圖1為本實(shí)用新型晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造的結(jié)構(gòu)示意圖,參照圖1,本實(shí)用新型,晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,包括保護(hù)層I和底層2,上述保護(hù)層I固定于上述底層2頂面。進(jìn)一步地,上述底層2由若干基層20疊加固定而成。進(jìn)一步地,上述保護(hù)層I的厚度與上述基層20的厚度之比為1.6:1 2.0:1。進(jìn)一步地,上述基層20的厚度有30 60mm。在本實(shí)施案例中,基層20和保護(hù)層I均采用莫來石輕體泡沫磚,耐溫高達(dá)1200°以上,經(jīng)反復(fù)使用,使用退火次數(shù)可達(dá)100次以上而不用更換。[0017]本實(shí)用新型,晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,在槽底底層上增加保護(hù)層,可以起到減少由于退火工作對底層的損傷,增加了退火槽的使用壽命,提高了生產(chǎn)效率;同時(shí)在保護(hù)層損傷較大后可以進(jìn)行替換而不用對退火槽進(jìn)行整體替換,間接的減少了生產(chǎn)成本。上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此領(lǐng)域技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型內(nèi)容并加以實(shí)施,并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。`
權(quán)利要求1.一種晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,包括底層,其特征在于,所述底層的頂面固定有保護(hù)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,其特征在于,所述底層由若干基層疊加固定而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,其特征在于,所述保護(hù)層的厚度與所述基層的厚度之比為1.6:1 2.0:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,其特征在于,所述基層的厚度有30 60mm?!?br>
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種晶體高溫退火槽的槽底構(gòu)造,包括保護(hù)層,上述保護(hù)層的頂面固定有保護(hù)層,低層由若干基層疊加固定而成。本實(shí)用新型的有益效果在于,在槽底低層上增加保護(hù)層,可以起到減少由于退火工作對低層的損傷,增加了退火槽的使用壽命,提高了生產(chǎn)效率;同時(shí)在保護(hù)層損傷較大后可以進(jìn)行替換而不用對退火槽進(jìn)行整體替換,間接的減少了生產(chǎn)成本。
文檔編號C30B33/02GK203144558SQ20122042181
公開日2013年8月21日 申請日期2012年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月23日
發(fā)明者萬文, 萬黎明 申請人:巢湖市環(huán)宇光學(xué)技術(shù)有限公司