輻射源和光刻設(shè)備的制作方法
【專利摘要】提供用于促進(jìn)通過(guò)用于光刻設(shè)備中的輻射源液滴束流生成裝置生成的束流中的燃料液滴的聚結(jié)的方法和設(shè)備。描述了多個(gè)示例，其中調(diào)制電壓源被應(yīng)用于發(fā)射器，使得液滴的電特性可以被控制。這導(dǎo)致束流中的液滴的加速和減速，引起它們合并和促進(jìn)聚結(jié)。
【專利說(shuō)明】輻射源和光刻設(shè)備
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2011年9月2日遞交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)61/530，766的優(yōu)先權(quán)，其在此通過(guò)引用全文并入。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及輻射源和光刻設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0004]光刻設(shè)備是一種將期望的圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成將要在所述IC的單層上形成的電路圖案。這種圖案可以被轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，圖案轉(zhuǎn)移是通過(guò)將圖案成像到設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)的層上來(lái)實(shí)現(xiàn)。通常，單個(gè)襯底將包含被連續(xù)圖案化的相鄰的目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。
[0005]光刻術(shù)被廣泛地看作制造IC和其他器件和/或結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟之一。然而，隨著通過(guò)使用光刻術(shù)制造的特征的尺寸變得越來(lái)越小，光刻術(shù)正變成允許制造微型IC或其他器件和/或結(jié)構(gòu)的更加關(guān)鍵的因素。
[0006]圖案印刷極限的理論估計(jì)可以由用于分辨率的瑞利法則給出，如等式(I)所示:
[0007]
【權(quán)利要求】
1.一種輻射源的燃料液滴束流生成裝置，包括: 燃料液滴發(fā)射器，連接至調(diào)制電壓源，所述調(diào)制電壓源配置成施加第一電壓至燃料液滴束流的第一部分并施加第二電壓至燃料液滴束流的第二部分， 第一電極，位置靠近燃料液滴發(fā)射器， 第二電極，位置遠(yuǎn)離燃料液滴發(fā)射器，和 電壓源，配置成在第一和第二電極之間施加電勢(shì)差并由此在第一和第二電極之間生成電場(chǎng)，該電場(chǎng)施加減速作用力至燃料液滴束流的第一和第二部分中的一個(gè)部分并施加加速作用力至燃料液滴束流的第一和第二部分中的另一個(gè)部分。
2.如權(quán)利要求1所述輻射源，其中第一和第二電壓相對(duì)于第一電極所保持的電壓分別是正的和負(fù)的。
3.如權(quán)利要求1或2所述的輻射源，其中第一電極被保持在零電勢(shì)。
4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的輻射源，其中第一和第二電極之間的電勢(shì)差是基本恒定的。
5.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的輻射源，其中在施加第一電壓和第二電壓之間的時(shí)間段，不對(duì)液滴束流施加電壓。
6.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的輻射源，其中第一電壓相對(duì)于被施加至第一電極的電壓的幅值與第二電壓相對(duì)于被施加至第一電極的電壓的幅值相同。
7.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的輻射源，其中第一電壓相對(duì)于被施加至第一電極的電壓的幅值與第二電壓相對(duì)于被施加至第一電極的電壓的幅值不同。
8.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的輻射源，其中第一電壓和第二電壓被施加相同的時(shí)間段。
9.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的輻射源，其中第一電壓和第二電壓被施加不同的時(shí)間段。
10.一種輻射源的燃料液滴束流生成裝置，包括: 燃料液滴發(fā)射器； 電極，位置靠近通過(guò)發(fā)射器形成的液滴的形成點(diǎn)，和 電壓源，配置成在發(fā)射器和電極之間施加交變的電壓， 由此在束流中的交替的液滴被給予交變的符號(hào)的電荷。
11.如權(quán)利要求10所述的輻射源，其中在液滴的序列中，每隔一個(gè)液滴上的電荷的幅值增加。
12.如權(quán)利要求11所述的輻射源，其中在液滴的序列之后，在下一個(gè)序列之前存在不施加電壓的時(shí)間段。
13.如權(quán)利要求10至12中任一項(xiàng)所述的輻射源，其中交變的電壓的施加與液滴的形成同步。
14.一種輻射源的燃料液滴束流生成裝置，包括: 燃料液滴發(fā)射器， 電極，和 電壓源，所述電壓源配置成在發(fā)射器和電極之間施加交變的電壓， 由此形成具有相反的電符號(hào)或相同符號(hào)且不同幅值的液滴束流，并且它們被朝向電極加速或減速，由此促進(jìn)液滴的聚結(jié)。
15.如權(quán)利要求14所述的輻射源，其中恒定電壓被附加地施加至發(fā)射器。
16.一種輻射源的燃料液滴束流生成裝置，包括: 燃料液滴發(fā)射器， 電極，和 調(diào)制電壓源，所述調(diào)制電壓源連接至發(fā)射器，用于控制發(fā)射器和電極之間的液滴的相對(duì)速度， 由此，促進(jìn)較小的液滴聚結(jié)為較大的液滴。
17.如權(quán)利要求16所述的輻射源，其中通過(guò)在電場(chǎng)中提供具有相反電荷的不同的液滴來(lái)控制液滴的相對(duì)速度。
18.如權(quán)利要求16或17所述的輻射源，其中液滴的相對(duì)速度還通過(guò)為不同液滴提供不同幅值的電荷來(lái)控制。
19.如權(quán)利要求16所述的輻射源，其中液滴的相對(duì)速度通過(guò)調(diào)制電場(chǎng)來(lái)控制。
20.—種光刻設(shè)備,包括: 如權(quán)利要求1至19中任一項(xiàng)所述的輻射源， 照射系統(tǒng)，配置成調(diào)節(jié)輻射束， 支撐結(jié)構(gòu)，構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束， 襯底臺(tái)，構(gòu)造成保持襯底，和 投影系統(tǒng)，配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。
21.一種促進(jìn)從燃料液滴發(fā)射器發(fā)射的輻射源的燃料液滴的聚結(jié)的方法，包括通過(guò)對(duì)發(fā)射器施加調(diào)制電壓來(lái)控制束流中液滴的相對(duì)速度的步驟。
【文檔編號(hào)】H05G2/00GK103765998SQ201280042339
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2012年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月2日
【發(fā)明者】H·斯希梅爾, J·迪吉克斯曼, D·蘭貝特斯基 申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司