電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置。在電感耦合等離子處理裝置中抑制覆蓋窗構件的下表面的罩的破損和微粒的產生，而且能夠容易地裝卸罩。電感耦合等離子處理裝置的電介體罩包括具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端的被支承部。電介體罩固定器具包括：支承部，其與電介體罩的被支承部的下表面抵接，以被支承部夾在其與作為支承電介體壁的支承構件的支承梁和電介體壁中的至少一個之間的方式支承被支承部；被固定部，其與該支承部相連接，其一部分被配置在被支承部的側端的側方，以其與支承梁的位置關系不發(fā)生變化的方式被固定。
【專利說明】電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置
[0001]本申請是申請日為2010年3月25日、申請?zhí)枮?010101411510、發(fā)明名稱為“電
感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置”的申請的分案申請。
【技術領域】
[0002]本發(fā)明涉及在電感耦合等離子處理裝置中用于對將構成處理室頂板部分的窗構件的下表面覆蓋的罩進行固定的罩固定器具和罩固定裝置。
【背景技術】
[0003]在FPD (平板顯示器)的制造工序中，對FH)用的玻璃基板進行等離子蝕刻、等離子灰化、等離子成膜等各種等離子處理。作為進行這樣的等離子處理的裝置，公知有能夠產生高密度等離子體的電感耦合等離子(ICP)處理裝置。
[0004]電感耦合等離子處理裝置包括:處理室，其被氣密地保持，且能對作為被處理體的基板進行等離子處理；配置在處理室外部的高頻天線。處理室具有構成處理室的頂板部分的、由電介體等材質構成的窗構件，高頻天線被配置在窗構件的上方。在該電感耦合等離子處理裝置中，通過對高頻天線施加高頻電力，隔著窗構件在處理室內形成感應電場，利用該感應電場將被導入到處理室內的處理氣體轉化為等離子體，使用該等離子體來對基板進行規(guī)定的等離子處理。
[0005]在電感耦合等離子處理裝置中，在窗構件的下表面露出到處理室中時，該窗構件的下表面受到等離子體造成的損傷。由于窗構件無法容易地裝卸，因此，即使受到損傷，也無法容易地更換或者清洗。因此，如專利文獻I所述，利用能夠容易地裝卸的罩覆蓋窗構件的下表面。由此，能夠保護窗構件的下表面，而且，能夠容易地更換或者清洗受到損傷的罩。
[0006]專利文獻1:日本特開2001 - 28299號公報
[0007]如專利文獻I所述，以往，罩被多個螺釘固定在窗構件的支承構件上。更詳細地說明，在以往的罩固定方法中，在罩的周緣部附近部分分別形成有供螺釘的桿部貫穿的多個通孔，從罩的下表面?zhèn)葘⒙葆數臈U部插入到各通孔中，將該桿部擰入到窗構件的支承構件中而對罩進行固定。但是，在該以往的罩固定方法中產生了如下的問題。
[0008]在處理室中進行等離子處理時，罩的下表面被連續(xù)地暴露于等離子體中，因此，罩的下表面的溫度上升。在罩的下表面溫度上升的過程中，在罩的下表面產生不均勻的溫度分布，結果，在罩中產生拉伸、彎曲等微小的變形。此時，由于罩的材料(例如陶瓷)與支承構件的材料(例如鋁)之間的熱膨脹系數的不同，因此罩的變形量和支承構件的變形量產生差異。因此，在為了使罩的通孔附近部分完全不進行移動而利用螺釘將罩固定于支承構件的情況下，對罩的通孔附近部分施加過度的應力，罩有可能從該部分破損。
[0009]因此，也考慮通過使罩的通孔直徑充分大于螺釘的桿部直徑，并且，設置罩和螺釘能夠相對地移動的機構，不會對罩的通孔附近部分施加過度的應力。但盡管如此，在罩變形時，對罩施加的應力也易于集中在通孔附近部分，因此，易于因以通孔為起點產生的裂紋而導致罩的破損。[0010]另外，在以往的罩固定方法中，在處理室的頂面形成有由多個螺釘的頭部形成的多個凸部。等離子處理時產生的副生成物易于附著在該凸部上。因此，在等離子處理過程中，一旦附著在螺釘頭部的副生成物從螺釘的頭部剝落而產生微粒(浮游粒子)，該微粒就有可能導致蝕刻不良。另外，螺釘頭部被等離子體消耗而產生微粒，該微粒也有可能導致蝕刻不良。
[0011]并且，在以往的罩固定方法中，使用多個螺釘來固定罩，因此存在罩的裝卸作業(yè)性較差這樣的問題點。另外，應對FPD的大型化，電感耦合等離子處理裝置的處理室也被大型化。在具有大型的處理室的電感耦合等離子處理裝置中，有時窗構件和罩分別由被分割成的多個部分構成。在這種情況下，為了固定罩而使用更多的螺釘，因此，罩的裝卸作業(yè)性進一步降低。

【發(fā)明內容】

[0012]本發(fā)明是鑒于該問題點而做成的，其目的在于提供一種在電感耦合等離子處理裝置中能夠抑制用于對窗構件的下表面進行覆蓋的罩的破損和微粒的產生、而且能夠容易地裝卸罩的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置。
[0013]本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具被用于電感耦合等離子處理裝置。該電感耦合等離子處理裝置包括:處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，其用于支承上述窗構件；罩，其用于對上述窗構件的下表面進行覆蓋。本發(fā)明的罩固定器具用于固定上述罩。
[0014]本發(fā)明的罩固定器具包括:支承部，其用于對具有作為上述罩的一部分的下表面的被支承部進行支承；被固定部，其被固定于上述支承構件。
[0015]本發(fā)明的罩固定器具也可以還具有將上述被固定部固定于上述支承構件的螺釘。在這種情況下，上述螺釘的頭部也可以被配置在上述支承構件的上方，上述螺釘的桿部貫穿上述支承構件而與上述被固定部結合。
[0016]另外，在本發(fā)明的罩固定器具中，上述支承部也可以包括:上表面，其與上述被支承部的下表面抵接；下表面，其隨著遠離上述被固定部而與上述上表面的距離變小。
[0017]另外，在本發(fā)明的罩固定器具中，上述被支承部的下表面也可以是上述罩的下表面的一部分，在上述罩的下表面，以上述被支承部的下表面位于除上述被支承部之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部，上述支承部被配置在上述罩的下表面上的上述臺階部。在這種情況下，上述支承部也可以具有與上述臺階部的臺階相等的厚度。
[0018]另外，本發(fā)明的罩固定器具也可以還包括在2個罩固定器具沿水平方向相鄰地配置時、2個罩固定器具的側部彼此嚙合的形狀的側部。
[0019]另外，在本發(fā)明的罩固定器具中，上述罩也可以包括具有下表面和上表面的、構成罩的主要部分的罩主體，上述被支承部被配置在上述罩主體的上表面的上方，上述支承部被配置在上述被支承部的下表面與上述罩主體的上表面之間。
[0020]本發(fā)明的電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置用于固定上述罩，包括:本發(fā)明的罩固定器具；以及將該罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承構件的固定機構。
[0021]在本發(fā)明的罩固定裝置中，上述固定機構也可以是提起上述被固定部的機構?；蛘?，上述固定機構也可以是對上述被固定部的上下方向的移動進行限制的機構。
[0022]采用本發(fā)明，能夠使用包括用于支承罩的被支承部的支承部以及固定于支承構件的被固定部的罩固定器具來固定罩。由此，采用本發(fā)明，不在罩上形成用于供螺釘的桿部插入的多個通孔就能夠固定罩。結果，采用本發(fā)明，起到能夠抑制罩的破損和微粒的產生、而且能夠容易地裝卸罩這樣的效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1是表示包括本發(fā)明的第I實施方式的罩固定器具的電感耦合等離子處理裝置的剖視圖。
[0024]圖2是表示圖1中的電介體壁和懸掛器的立體圖。
[0025]圖3是表示圖1中的電介體壁和高頻天線的立體圖。
[0026]圖4是表示圖1中的罩和罩固定器具的仰視圖。
[0027]圖5是表示圖4中的5 — 5所示的位置的截面的剖視圖。
[0028]圖6是說明罩固定器具固定方法的一個例子的、圖4中的6 — 6所示的剖視圖。
[0029]圖7是表示罩固定器具的固定方法的另一例子的剖視圖。
[0030]圖8是表示比較例的罩的仰視圖。
[0031]圖9是表示本發(fā)明的第I實施方式的第I變形例的罩和罩固定器具的剖視圖。
[0032]圖10是表不本發(fā)明的第I實施方式的第2變形例的罩和罩固定器具的仰視圖。
[0033]圖11是表示本發(fā)明的第I實施方式的第3變形例的罩和罩固定器具的仰視圖。
[0034]圖12是表示第3變形例的罩固定器具的側部的形狀的一個例子的剖視圖。
[0035]圖13是表示第3變形例的罩固定器具的側部的形狀的另一例子的立體圖。
[0036]圖14是表不本發(fā)明的第I實施方式的第4變形例的罩和罩固定器具的仰視圖。
[0037]圖15是表示本發(fā)明的第I實施方式的第5變形例的罩和罩固定器具的剖視圖。
[0038]圖16是表不本發(fā)明的第I實施方式的第6變形例的罩和罩固定器具的仰視圖。
[0039]圖17是說明第6變形例的罩和罩固定器具的、圖16中的17 — 17所示的剖視圖。
[0040]圖18是表示罩固定器具的固定方法的另一例子的剖視圖。
[0041]圖19是表不罩固定器具的固定方法的又一例子的剖視圖。
[0042]圖20是表示罩固定器具的固定方法的再一例子的剖視圖。
[0043]圖21是表示本發(fā)明的第2實施方式的罩固定裝置的剖視圖。
[0044]圖22是表示圖21所示的罩固定裝置的另一狀態(tài)的剖視圖。
[0045]圖23是表示本發(fā)明的第3實施方式的罩固定裝置的剖視圖。
[0046]圖24是表示本發(fā)明的第3實施方式的變形例的罩固定裝置的剖視圖。
[0047]圖25是表示本發(fā)明的第4實施方式的罩固定裝置的剖視圖。
[0048]圖26是表示本發(fā)明的第4實施方式的變形例的罩固定裝置的剖視圖。
[0049]圖27是表示本發(fā)明的第5實施方式的罩固定裝置的剖視圖。
[0050]圖28是表示圖27中的罩固定裝置的一部分的立體圖。
[0051]圖29是表示本發(fā)明的第6實施方式的罩固定裝置的剖視圖。
[0052]圖30是表示本發(fā)明的第7實施方式的罩固定裝置的剖視圖?！揪唧w實施方式】
[0053]第I實施方式
[0054]下面，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細地說明。首先，參照圖1?圖4對包括本發(fā)明的第I實施方式的罩固定器具的電感耦合等離子處理裝置的構造進行說明。圖1是表示電感耦合等離子處理裝置的剖視圖。圖2是表示圖1中的作為“窗構件”的電介體壁和懸掛器的立體圖。圖3是表示圖1中的電介體壁和高頻天線的立體圖。圖4是表示圖1中的作為“罩”的電介體罩和作為“罩固定器具”的電介體罩固定器具的仰視圖。
[0055]圖1所示的電感耦合等離子處理裝置I例如用于對FPD用的玻璃基板(以下僅記作“基板”)S進行等離子處理。作為FPD，能夠列舉出液晶顯示器(IXD)、電致發(fā)光(ElectroLuminescence ；EL)顯示器、等離子顯示面板(PDP)等。
[0056]電感耦合等離子處理裝置I包括天線室4和處理室5，該天線室4和處理室5是由主體容器2以及配置在該主體容器2內且將主體容器2內的空間劃分為上下2個空間的作為“窗構件”電介體壁6構成的。天線室4劃分出主體容器2內的電介體壁6的上側空間，處理室5劃分出主體容器2內的電介體壁6的下側空間。因而，電介體壁6構成天線室4的底部，并構成處理室5的頂板部分。處理室5被氣密地保持，在處理室5中對基板進行等離子處理。
[0057]主體容器2是具有上部、底部和4個側部的方筒形狀的容器。另外，主體容器2也可以是具有上部、底部和筒狀部的圓筒形狀的容器。作為主體容器2的材料，可采用鋁、鋁合金等導電性材料。在將鋁用作主體容器2的材料的情況下，為了不從主體容器2的內壁面產生污染物，對主體容器2的內壁面實施鋁陽極化處理。另外，主體容器2接地。
[0058]電介體壁6形成具有大致正方形形狀的上表面、底面和4個側面的大致長方體形狀。電介體壁6的厚度例如為30mm。電介體壁6由電介體材料形成。作為電介體壁6的材料，例如可采用Al2O3等陶瓷、石英。作為一個例子，電介體壁6被分割成4個部分。S卩，電介體壁6具有第I部分壁6A、第2部分壁6B、第3部分壁6C及第4部分壁6D。另外，電介體壁6也可以不被分割成4個部分。
[0059]電感耦合等離子處理裝置I還包括作為支承電介體壁6的支承構件的支承架7和支承梁16。支承架7被安裝在主體容器2的側壁上。如圖2所示，支承梁16呈十字形狀。電介體壁6的4個部分壁6A、6B、6C、6D被支承架7和支承梁16支承。
[0060]電感耦合等離子處理裝置I還包括圓筒形狀的懸掛器8A和圓柱形狀的懸掛器SB、8C、8D、8E，該懸掛器8A、8B、8C、8D、8E分別具有與主體容器2的頂板部分連接的上端部。支承梁16在其上表面的中央部分(十字交叉部分)連接于懸掛器8A的下端部。另外，支承梁16在其上表面的中央部分和十字的4個頂端部分的中間的4處連接于懸掛器8B、8C、8D、8E的下端部。這樣，支承梁16被配置成利用5個懸掛器8A?SE自主體容器2的頂板部分垂下，在主體容器2內部的上下方向的大致中央位置維持水平狀態(tài)。
[0061]雖未圖示，但在支承梁16中形成有用于供給后述的處理氣體的氣體流路、以及用于放出被供給到該氣體流路中的處理氣體的多個開口部。作為支承梁16的材料，可采用導電性材料。作為該導電性材料，優(yōu)選采用鋁等金屬材料。在將鋁用作支承梁16的材料的情況下，為了不從表面產生污染物，對支承梁16的內外表面實施鋁陽極化處理。
[0062]電感耦合等離子處理裝置I還包括高頻天線(以下簡記作天線)13，該高頻天線13被配置在天線室4的內部、即處理室5的外部且被配置在電介體壁6的上方。如圖3所示，天線13形成大致正方形的俯視呈方形螺旋形狀。天線13被配置在電介體壁6的上表面上。在主體容器2的外部設置有匹配器14和高頻電源15。天線13的一端通過匹配器14連接于高頻電源15。天線13的另一端連接于主體容器2的內壁，通過主體容器2接地。
[0063]電感耦合等離子處理裝置I還包括對電介體壁6的下表面進行覆蓋的作為“罩”的電介體罩12。電介體罩12形成具有大致正方形形狀的上表面和底面、4個側面的板狀。電介體罩12由電介體材料形成。作為電介體罩12的材料，例如可采用Al2O3等陶瓷、石英。
[0064]作為一個例子，電介體罩12與電介體壁6同樣地被分割成4個部分。[!卩，如圖4所不，電介體罩12具有第I部分罩12A、第2部分罩12B、第3部分罩12C及第4部分罩12D。第I~第4部分罩12A、12B、12C、12D分別對電介體壁6的第I~第4部分壁6A、6B、6C、6D的下表面進行覆蓋。另外，電介體罩12也可以不被分割成4個部分。
[0065]如圖4所示，電感耦合等離子處理裝置I還包括用于固定電介體罩12的、作為本實施方式的“罩固定器具”的電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。之后詳細說明，電介體罩12被電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4固定。另外，雖未圖示，但在電介體罩12上形成有與支承梁16的開口部相對應的多個開口部。
[0066]在對基板S進行等 離子處理時，自高頻電源15向天線13供給感應電場形成用的高頻電力(例如13.56MHz的高頻電力)。由此，能夠利用天線13在處理室5內形成感應電場。該感應電場將后述的處理氣體轉化為等離子體。
[0067]在主體容器2的外部還設置有氣體供給裝置20。氣體供給裝置20通過插入到懸掛器8A的中空部中的氣體供給管21連接于支承梁16的氣體流路。氣體供給裝置20用于供給等離子處理所采用的處理氣體。在進行等離子處理時，處理氣體通過氣體供給管21、支承梁16內的氣體流路、開口部以及電介體罩12的開口部被供給到處理室5內。作為處理氣體，例如可采用SF6氣體。
[0068]電感耦合等離子處理裝置I還包括基座22、絕緣體框24、支柱25、波紋管26和閘閥27。支柱25與設置在主體容器2下方的未圖示的升降裝置相連接，通過形成在主體容器2底部的開口部而突出到處理室5內。另外，支柱25具有中空部。絕緣體框24設置在支柱25上。該絕緣體框24形成上部開口的箱狀。在絕緣體框24的底部形成有與支柱25的中空部連續(xù)的開口部。波紋管26圍著支柱25，氣密地連接于絕緣體框24和主體容器2的底部內壁。由此，能夠維持處理室5的氣密性。
[0069]基座22收容在絕緣體框24內?；?2具有用于載置基板S的載置面22A。載置面22A與電介體罩12相對。作為基座22的材料，例如可采用鋁等導電性材料。在將鋁用作基座22的材料的情況下，為了不從表面產生污染物，對基座22的表面實施鋁陽極化處理。
[0070]在主體容器2的外部還設置有匹配器28和高頻電源29?；?2通過貫穿于絕緣體框24的開口部和支柱25的中空部的通電棒連接于匹配器28，并且，通過該匹配器28連接于高頻電源29。在對基板S進行等離子處理時，自高頻電源29向基座22供給偏壓用的高頻電力(例如380kHz的高頻電力)。該高頻電力用于將等離子體中的離子有效地引入到載置在基座22上的基板S。
[0071]閘閥27設置于主體容器2的側壁。閘閥27具有開閉功能，在關閉狀態(tài)下維持處理室5的氣密性，并且，在打開狀態(tài)下能夠在處理室5與外部之間輸送基板S。
[0072]在主體容器2的外部還設置有真空裝置30。真空裝置30經由與主體容器2的底部連接的排氣管31連接于處理室5。在對基板S進行等離子處理時，真空裝置30排出處理室5內的空氣，將處理室5內維持在真空氣氛。
[0073]接著，參照圖4?圖6詳細說明本實施方式的電介體罩固定器具。圖4表示電介體罩12和電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。圖5是表示圖4中的5 — 5所示的位置的截面的剖視圖。圖6是表示圖4中的6 — 6所示的位置的截面的剖視圖。在圖4中，圓標記表示螺釘。
[0074]如上所述，電介體罩12具有第I?第4部分罩12A?12D。在圖4中,第I部分罩12A被配置在整個電介體罩12的配置區(qū)域中的左上區(qū)域，第2部分罩12B被配置在整個電介體罩12的配置區(qū)域中的右上區(qū)域，第3部分罩12C被配置在整個電介體罩12的配置區(qū)域中的左下區(qū)域，第4部分罩12D被配置在整個電介體罩12的配置區(qū)域中的右下區(qū)域。
[0075]在電介體罩12的中央部，在第I?第4部分罩12A、12B、12C、12D中分別形成有在將它們合在一起時成為十字形狀的開口部的L字形的缺口部12Aa、12Ba、12Ca、12Da。
[0076]從處理室5側看到的電介體罩固定器具18A的形狀是比在電介體罩12的中央部由缺口部12Aa、12Ba、12Ca、12Da形成的十字形狀的開口部稍大的十字形狀。而且，電介體罩固定器具18A被配置成覆蓋電介體罩12的十字形狀的開口部。另外，在電介體罩固定器具18A上也可以形成有與支承梁16的開口部相對應的開口部。
[0077]從處理室5側看到的電介體罩固定器具18B1?18B4的形狀均為長方形。電介體罩固定器具18B1在其與支承架7之間夾著第I和第3部分罩12A、12C的各自一邊來支承第I和第3部分罩12A、12C。另外，電介體罩固定器具18B2在其與支承架7之間夾著第2和第4部分罩12B、12D的各自一邊來支承第2及第4部分罩12B、12D。另外，電介體罩固定器具18B3在其與支承架7之間夾著第I和第2部分罩12A、12B的各自一邊來支承第I和第2部分罩12A、12B。另外，電介體罩固定器具18B4在其與支承架7之間夾著第3和第4部分罩12C、12D的各自一邊地將其支承。
[0078]之后詳細說明，電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4均包括I個以上支承部和I個被固定部。支承部是被配置在作為電介體罩12的一部分的被支承部的下側來支承該被支承部的部分。電介體罩12具有與電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4所包括的所有支承部相同數量的被支承部。
[0079]以下，以電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4為代表而詳細說明圖6所示的電介體罩固定器具18A的構造和作用。如圖6所示，電介體罩固定器具18A包括支承第I部分罩12A的一部分的第I支承部18A1、支承第2部分罩12B的一部分的第2支承部18A2以及被固定部18A3。雖未圖示，但電介體罩固定器具18A還包括支承第3部分罩12C的一部分的第3支承部以及支承第4部分罩12D的一部分的第4支承部。第I和第2支承部18A1U8A2被配置成連接于被固定部18A3，并且自被固定部18A3向側方延伸。第3和第4支承部也與第I和第2支承部18A1、18A2相同。
[0080]另一方面，第I部分罩12A具有被支承部12A1。被支承部12A1具有下表面12Ala以及與該下表面12Ala連續(xù)的側端12Alb。側端12Alb也是缺口部12Aa的端緣。被支承部12A1的上表面與支承梁16和第I部分壁6A中的至少一個的下表面抵接。在圖6所示的例子中，被支承部12A1的上表面與支承梁16和第I部分壁6A這兩者的下表面抵接，但被支承部12A1的上表面也可以抵接于支承梁16和第I部分壁6A中的僅一個的下表面。
[0081]同樣，第2部分罩12B具有被支承部12B1。被支承部12B1具有下表面12Bla以及與該下表面12Bla連續(xù)的側端12Blb。被支承部12B1的上表面與支承梁16和第2部分壁6B中的至少一個的下表面抵接。在圖6所示的例子中，被支承部12B1的上表面與支承梁16和第2部分壁6B這兩者的下表面抵接，但被支承部12B1的上表面也可以抵接于支承梁16和第2部分壁6B中的僅一個的下表面。
[0082]第3和第4部分罩12C、12D也分別具有與上述被支承部12A1、12B1同樣的被支承部。
[0083]第I支承部18A1具有下表面以及與被支承部12A1的下表面12Ala抵接的上表面。第2支承部18A2具有下表面以及與被支承部12B1的下表面12Bla抵接的上表面。同樣，第3支承部具有下表面以及與第3部分罩12C的被支承部的下表面抵接的上表面，第4支承部具有下表面以及與第4部分罩12D的被支承部的下表面抵接的上表面。第I?第4支承部的各下表面成為隨著遠離被固定部18A3而與各支承部的上表面的距離變小的錐形面。
[0084]從處理室5側看到的被固定部18A3的形狀是與電介體罩12的十字形狀開口部的形狀相等、或者比其稍小一些的形狀。被固定部18A3的一部分被插入到電介體罩12的十字形狀開口部內。該被固定部18A3的一部分被配置在被支承部12A1的側端12Alb、被支承部12B1的側端12Blb、第3支承部的側端及第4支承部的側端的側方。
[0085]被固定部18A3以其與作為支承構件的支承梁16之間的位置關系不發(fā)生變化的方式被固定。具體地講，被固定部18A3如下這樣固定于支承梁16。首先，被固定部18A3的上表面抵接于支承梁16的下表面。電介體罩固定器具18A還包括用于將被固定部18A3固定于支承梁16的多個螺釘。該螺釘的數量例如圖4所示地為8個。圖6表示其中2個螺釘19A1、19A2。在圖6所示的例子中，螺釘19A1、19A2的頭部被配置在被固定部18A3的下方，螺釘19A1、19A2的桿部貫穿被固定部18A3而與支承梁16相結合。除螺釘19A1、19A2之外的螺釘也與螺釘19A1、19A2相同。
[0086]圖7是表示電介體罩固定器具18A的固定方法的另一例子的剖視圖。在該例子中，螺釘19A1、19A2的頭部被配置在支承梁16的上方，螺釘19A1、19A2的桿部貫穿支承梁16而與被固定部18A3相結合。除螺釘19A1、19A2之外的螺釘也與螺釘19A1、19A2相同。
[0087]通過將被固定部18A3固定于支承梁16，第I支承部18A1在其與支承梁16和第I部分壁6A中的至少一個之間夾著被支承部12A1來支承被支承部12A1，第2支承部18A2在其與支承梁16和第2部分壁6B中的至少一個之間夾著被支承部12B1來支承被支承部12B1。同樣，第3支承部在其與支承梁16和第3部分壁6C中的至少一個之間夾著第3部分罩12C的被支承部來支承第3部分罩12C的被支承部，第4支承部在其與支承梁16和第4部分壁6D中的至少一個之間夾著第4部分罩12D的被支承部來支承第4部分罩12D的被支承部。
[0088]電介體罩固定器具18B1?18B4分別包括I個支承部和I個被固定部。電介體罩固定器具18B1?18B4的各支承部的形狀與電介體罩固定器具18A的各支承部的形狀相同。電介體罩固定器具18B1?18B4分別被配置在處于與支承部相對應的位置的電介體罩12的被支承部的下側。電介體罩固定器具18B1?18B4的各被固定部使用多個螺釘(例如圖4所示那樣為2個螺釘)固定于作為支承構件的支承架7。由此，電介體罩固定器具18B1?18B4的各支承部分別在其與支承架7和電介體壁6中的至少一個之間夾著處于與支承部相對應的位置的電介體罩12的被支承部來支承電介體罩12的被支承部。
[0089]如圖4所示，第I部分罩12A被電介體罩固定器具18A、18B1、18B3固定。第2部分罩12B被電介體罩固定器具18A、18B2、18B3固定。第3部分罩12C被電介體罩固定器具18A、18B1、18B4固定。第4部分罩12D被電介體罩固定器具18A、18B2、18B4固定。
[0090]像以上說明的那樣，本實施方式的電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4均包括支承部(例如圖6中的18A1、18A2)和被固定部(例如圖6中的18A3);上述支承部與后述的被支承部(例如圖6中的12A1U2B1)的下表面抵接，在上述支承部與支承構件(支承梁16、支承架7)和電介體壁6中的至少一個之間夾著被支承部地支承被支承部，上述被支承部是電介體罩12的一部分，具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端；上述被固定部連接于該支承部，其一部分被配置在被支承部的側端的側方，以其與支承構件的位置關系不發(fā)生變化的方式被固定。
[0091]電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4的各支承部與支承構件和電介體壁6中的至少一個起到在它們之間夾著對應的電介體罩12的被支承部而固定電介體罩12的夾具的作用。
[0092]采用本實施方式，不在電介體罩12上形成用于供螺釘的桿部貫穿的多個通孔就能夠固定電介體罩12。因此，采用本實施方式，能夠防止在電介體罩12上形成了多個通孔的情況下、因對通孔附近部分施加過度的應力而導致電介體罩12破損。
[0093]另外，在本實施方式中，通過電介體罩固定器具的支承部的上表面抵接于電介體罩12的被支承部的下表面，能夠支承并固定電介體罩12。因此，采用本實施方式，在電介體罩12中難以產生局部的應力集中。從這方面來看，采用本實施方式，也可防止電介體罩12的破損。
[0094]在本實施方式中，不是使用多個螺釘而將電介體罩12直接固定于支承構件，而是使用多個螺釘將電介體罩固定器具的被固定部固定于支承構件。采用本實施方式，與使用多個螺釘將電介體罩12直接固定于支承構件的情況相比，能夠減少使用的螺釘根數。與圖8所示的比較例進行比較并進行說明。
[0095]圖8是表示比較例的電介體罩的仰視圖。在圖8中，圓標記表示螺釘。在比較例中，電介體罩222與本實施方式的電介體罩12同樣地具有被分割而成的4個部分罩222A、222B、222C、222D。這4個部分罩222k?222D分別被12個螺釘直接固定于支承構件。因而，整個電介體罩222被48個螺釘固定于支承構件。這樣，在比較例中，由于電介體罩222被許多個螺釘固定，因此，更換或者清洗電介體罩222時電介體罩222的裝卸作業(yè)性較差。
[0096]相對于此，在本實施方式中，如圖4所示，電介體罩12利用被總計16個螺釘固定的5個電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4間接地固定于支承構件。因此，采用本實施方式，與圖8所示的比較例相比，能夠大幅度減少使用的螺釘根數，結果，能夠容易地裝卸電介體罩12。
[0097]另外，采用本實施方式，如圖6所示，即使在以螺釘的頭部露出到處理室5內的方式固定電介體罩固定器具的被固定部的情況下，與圖8所示的比較例相比，螺釘根數也大幅度減少，因此，露出到處理室5內的螺釘頭部的數量也大幅度減少。因此，采用本實施方式，能夠抑制附著于螺釘頭部的副生成物從螺釘的頭部剝落而產生微粒、或者螺釘頭部被等離子體消耗而產生微粒。另外，在本實施方式中，如圖7所示，在以螺釘的頭部不露出到處理室5內的方式固定電介體罩固定器具的被固定部的情況下，完全不會因螺釘的頭部而產生微粒。
[0098]但是，在電介體罩固定器具的支承部的厚度在任意部位都恒定的情況下，在支承部的下表面與側面之間形成有露出到處理室5內的直角的角部。副生成物易于附著在該角部上。因此，在這種情況下，易于因角部而產生微粒。相對于此，在本實施方式中，電介體罩固定器具的支承部的下表面成為隨著遠離被支承部而與支承部上表面的距離變小的錐形面。在這種情況下，與支承部的厚度在任意部位都恒定的情況相比，露出到處理室5內的支承部的面接近平滑的面。因此，采用本實施方式，能夠抑制因電介體罩固定器具的支承部而產生微粒。
[0099]奪形例
[0100]下面，對本實施方式的電介體罩和電介體罩固定器具的第I?第6變形例進行說明。圖9是表示第I變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的剖視圖。圖9表示與圖7相對應的截面。第I變形例的電介體罩12替代圖7中的第I部分罩12A、第2部分罩12B而具有圖9所示的第I部分罩32A、第2部分罩32B。
[0101]第I部分罩32A具有被支承部32A1。被支承部32A1具有下表面32Ala以及與該下表面32Ala連續(xù)的側端32Alb。被支承部32A1的下表面是第I部分罩32A的下表面的一部分，在第I部分罩32A的下表面，以被支承部32A1的下表面位于除被支承部32A1之外的部分的下表面上方的方式形成有臺階部。
[0102]同樣，第2部分罩32B具有被支承部32B1。被支承部32B1具有下表面32Bla以及與該下表面32Bla連續(xù)的側端32Blb。
[0103]第I變形例的電介體罩固定器具38A用于替代圖7所示的電介體罩固定器具18A。電介體罩固定器具38A具有第I支承部38A1、第2支承部38A2、被固定部38A3、未圖示的第3和第4支承部。
[0104]第I支承部38A1被配置在第I部分罩32A的下表面上的上述臺階部，第I支承部38A1的上表面抵接于被支承部32A1的下表面32Ala。第I支承部38A1具有與上述臺階部的臺階相等的厚度。因此，在第I支承部38A1的下表面與第I部分罩32A上的除被支承部32A1之外的部分的下表面之間沒有臺階。
[0105]同樣，第2支承部38A2被配置在第2部分罩32B的下表面上的上述臺階部，第2支承部38A2的上表面抵接于被支承部32B1的下表面32Bla。
[0106]被固定部38A3與圖7中的被固定部18A3同樣地被包括螺釘19A1、19A2在內的8個螺釘固定于支承梁16。
[0107]雖未圖示，但在第I變形例中，電介體罩固定器具38A的第3和第4支承部與它們所對應的被支承部之間的關系以及其他電介體罩固定器具的支承部與它們所對應的被支承部之間的關系，同上述支承部38A1和被支承部32A1之間的關系相同。
[0108]采用第I變形例，在電介體罩固定器具的支承部的下表面與電介體罩12的除被支承部之外的部分的下表面之間不產生臺階。因此，能夠抑制因電介體罩固定器具的支承部而產生微粒。第I變形例中的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0109]圖10是與圖4對應的圖，是表不第2變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的仰視圖。第2變形例的電介體罩固定器具48B1、48B2、48B3、48B4、48B5、48B6、48B7、48B8、48C1、48C2、48C3、48C4用于替代圖4所示的電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。
[0110]電介體罩固定器具48B1、48B5在其與支承架7之間夾著第I部分罩12A的2邊來支承第I部分罩12A。電介體罩固定器具48B2、48B7在其與支承架7之間夾著第3部分罩12C的2邊來支承第3部分罩12C。電介體罩固定器具48B3、48B6在其與支承架7之間夾著第2部分罩12B的2邊來支承第2部分罩12B。電介體罩固定器具48B4、48B8在其與支承架7之間夾著第4部分罩12D的2邊來支承第4部分罩12D。
[0111]電介體罩固定器具48C1沿著第I部分罩12A與第3部分罩12C之間的邊界配置，用于支承部分罩12A、12C的一邊。電介體罩固定器具48C2沿著第2部分罩12B與第4部分罩12D之間的邊界配置，用于支承部分罩12B、12D的一邊。電介體罩固定器具48C3沿著第I部分罩12A與第2部分罩12B之間的邊界配置,用于支承部分罩12A、12B的一邊。電介體罩固定器具48C4沿著第3部分罩12C與第4部分罩12D之間的邊界配置，用于支承部分罩12C、12D的一邊。
[0112]雖未圖不，但電介體罩固定器具48B1?48B8固定于支承架7,電介體罩固定器具48C1?48C4固定于支承梁16。也可以在電介體罩固定器具48C1?48C4上形成有與支承梁16的開口部相對應的開口部。
[0113]第I部分罩12A被電介體罩固定器具48B1、48B5、48C1、48C3固定。第2部分罩12B被電介體罩固定器具48B3、48B6、48C2、48C3固定。第3部分罩12C被電介體罩固定器具48B2、48B7、48C1、48C4固定。第4部分罩12D被電介體罩固定器具48B4、48B8、48C2、48C4固定。
[0114]第2變形例的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0115]圖11是與圖4對應的圖，是表不第3變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的仰視圖。第 3 變形例的電介體罩固定器具 58A、58B1、58B2、58B3、58B4、58B5、58B6、58B7、58B8、58C1、58C2、58C3、58C4、58D1、58D2、58D3、58D4、58E1、58E2、58E3、58E4 用于替代圖 4 所示的電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。
[0116]從處理室5側看到的電介體罩固定器具58A的形狀為十字形狀。從處理室5側看到的電介體罩固定器具58B1?58B8、58C1?58C4的形狀均為長方形。從處理室5側看到的電介體罩固定器具58D1?58D4的形狀均為L字形狀。從處理室5側看到的電介體罩固定器具58E1?58E4的形狀均為T字形狀。
[0117]電介體罩固定器具58A以覆蓋電介體罩12的中央部的十字形狀開口部的方式配置。另外，也可以在電介體罩固定器具58A上形成與支承梁16的開口部相對應的開口部。
[0118]電介體罩固定器具58B1?58B8、58C1?58C4分別配置在與圖10所示的電介體罩固定器具48B1?48B8、48C1?48C4相同的位置，對電介體罩12的下表面的一部分進行支承。
[0119]電介體罩固定器具58D1以將電介體罩固定器具58B1、58B5連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58D2以將電介體罩固定器具58B3、58B6連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58D3以將電介體罩固定器具58B2、58B7連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58D4以將電介體罩固定器具58B4、58B8連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58D1?58D4分別對電介體罩12的下表面的一部分進行支承。
[0120]電介體罩固定器具58E1以將電介體罩固定器具58B1、58B2、58C1連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58E2以將電介體罩固定器具58B3、58B4、58C2連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58E3以將電介體罩固定器具58B5、58B6、58C3連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58E4以將電介體罩固定器具58B7、58B8、58C4連結起來的方式配置。電介體罩固定器具58E1?58E4分別對電介體罩12的下表面的一部分進行支承。
[0121]雖未圖不，但電介體罩固定器具58A、58C1?58C4被固定于支承梁16,電介體罩固定器具58B1?58B8、58D1?58D4被固定于支承架7、電介體罩固定器具58E1?58E4被固定于支承架7和支承梁16。也可以在電介體罩固定器具58C1?58C4上形成有與支承梁16的開口部相對應的開口部。
[0122]在第3變形例中，在水平方向上相鄰地配置的2個電介體罩固定器具相連接。各電介體罩固定器具包括在2個電介體罩固定器具在水平方向上相鄰地配置時、2個電介體罩固定器具的側部相互嚙合的形狀的側部。
[0123]圖12表示電介體罩固定器具58A、58C2的互相嚙合的側部的形狀的一個例子。圖12表示圖11中的12 — 12所示的位置上的2個電介體罩固定器具的截面。在該例子中，電介體罩固定器具58A、58C2的各自側部分別具有上下相鄰的凸部和凹部。在電介體罩固定器具58A和電介體罩固定器具58C2中，凸部與凹部的位置關系互相相反。于是，電介體罩固定器具58A的凸部進入到電介體罩固定器具58C2的凹部，電介體罩固定器具58C2的凸部進入到電介體罩固定器具58A的凹部,從而電介體罩固定器具58A、58C2的側部相互哨
入
口 ο
[0124]圖13表不電介體罩固定器具58A、58C2的互相卩齒合的側部形狀的另一例子。在該例子中，與圖12所示的例子同樣，電介體罩固定器具58A、58C2的各自側部分別具有上下相鄰的凸部和凹部。在該例子中，電介體罩固定器具58C2的凸部包括在水平方向上相鄰的凸部分和凹部分，電介體罩固定器具58A的凹部包括與電介體罩固定器具58C2的凸部中的凸部分和凹部分相嚙合的凹部分和凸部分。
[0125]在第3變形例中，其他相鄰的2個電介體罩固定器具的連接部分的構造也與圖12或圖13相同。
[0126]在第3變形例中，從處理室5側來看，電介體罩12的下表面的整個外緣和相鄰的2個部分罩的下表面相互間的整個邊界被多個電介體罩固定器具覆蓋。因此，采用該第3變形例，從處理室5側來看，能夠完全覆蓋在電介體罩12的外周部與支承架7之間產生的間隙、在相鄰的2個部分罩之間產生的間隙。由此，能夠抑制等離子體進入到上述間隙。結果，能夠抑制由于等離子體進入到上述間隙而支承梁16、支承架7產生損傷、異常放電。特別是，各電介體罩固定器具包括在2個電介體罩固定器具在水平方向上相鄰地配置時、2個電介體罩固定器具的側部相互嚙合的形狀的側部，因此，能夠顯著地發(fā)揮該效果。
[0127]第3變形例的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。[0128]圖14是與圖4對應的圖,是表不第4變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的仰視圖。第4變形例的電介體罩72替代圖4所的電介體罩12。電介體罩72未被分割成4個。
[0129]第4變形例的電介體罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4用于替代圖4所示的電介體罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。電介體罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4分別沿著電介體罩72下表面的各邊的中央部分配置，用于支承電介體罩72的各邊。從處理室5側看到的電介體罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4的形狀均為長方形。
[0130]第4變形例的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0131]圖15是表第5變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的剖視圖。圖15表與圖6或圖7相對應的截面(其中，螺釘19A1U9A2省略圖示)。在第5變形例中，支承梁16A的形狀與圖6或圖7中的支承梁16不同。具體地講，支承梁16A在其下端具有凸部16A1。
[0132]電介體罩固定器具79A用于替代圖6或圖7所不的電介體罩固定器具18A。電介體罩固定器具79A具有支承第I部分罩12A的一部分的第I支承部79A1、支承第2部分罩12B的一部分的第2支承部79A2、被固定部79A3、未圖示的第3和第4支承部。第I和第2支承部79A1、79A2連接于被固定部79A3，并且，被配置成自被固定部79A3向側方延伸。第3和第4支承部也與第I和第2支承部79A1、79A2相同。在第5變形例中，按照支承梁16A的凸部16A1的形狀而使被固定部79A3的厚度(高度)形成得小于圖6或圖7所示的電介體罩固定器具的厚度(高度)。
[0133]電介體罩12的第I部分罩12A和第2部分罩12B是與圖6或圖7相同的構造，具有被支承部12A1U2B1。未圖示的第3和第4部分罩12C、12D也分別具有與上述相同的被支承部。
[0134]第I支承部79A1具有下表面以及與被支承部12A1的下表面12Ala抵接的上表面。第2支承部79A2具有下表面以及與被支承部12B1的下表面12Bla抵接的上表面。同樣，第3支承部具有下表面以及與第3部分罩12C的被支承部的下表面抵接的上表面，第4支承部具有下表面以及與第4部分罩12D的被支承部的下表面抵接的上表面。第I?第4支承部的各下表面成為隨著遠離被固定部79A3而與各支承部的上表面的距離變小的錐形面。
[0135]如第5變形例所示，本發(fā)明的電介體罩固定器具能夠根據作為支承構件的支承梁16、支承架7的形狀而形成為各種形狀。
[0136]第5變形例的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0137]圖16是與圖4對應的圖,是表不第6變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的仰視圖。圖17是表示第6變形例的電介體罩和電介體罩固定器具的剖視圖。第6變形例的電介體罩80用于替代圖4所的電介體罩12。電介體罩80與電介體壁6同樣地被分割成4個部分。即，如圖16所75,電介體罩80具有第I部分罩80A、第2部分罩80B、第3部分罩80C及第I部分罩80D。第I?第4部分罩80A、80B、80C、80D分別對電介體壁6的第I?第4部分壁6A、6B、6C、6D的下表面進行覆蓋。另外，電介體罩80也可以不被分割成4個部分。[0138]在圖16中，第I部分罩80A被配置在整個電介體罩80的配置區(qū)域中的左上區(qū)域，第2部分罩80B被配置在整個電介體罩80的配置區(qū)域中的右上區(qū)域，第3部分罩80C被配置在整個電介體罩80的配置區(qū)域中的左下區(qū)域，第4部分罩80D被配置在整個電介體罩80的配置區(qū)域中的右下區(qū)域。
[0139]在電介體罩80的中央部，在第I?第4部分罩80A、80B、80C、80D上分別形成有在將它們合在一起時成為圓形的開口部的弧形的缺口部80Aa、80Ba、80Ca、80Da。
[0140]從處理室5側看到的電介體罩固定器具81A的形狀是比在電介體罩80的中央部由缺口部80Aa、80Ba、80Ca、80Da形成的圓形的開口部稍大的圓形形狀。而且，電介體罩固定器具8IA被配置成覆蓋電介體罩80的圓形的開口部。
[0141]從處理室5側看到的電介體罩固定器具81B1?81B4電介體罩固定器具81B1在其與支承架7之間夾著第I和第3部分罩80A、80C的各自一邊來支承第I和第3部分罩80A、80C。另外，電介體罩固定器具81B2在其與支承架7之間夾著第2和第4部分罩80B、80D的各自一邊來支承第2和第4部分罩80B、80D。另外，電介體罩固定器具81B3在其與支承架7之間夾著第I和第2部分罩80A、80B的各自一邊來支承第I和第2部分罩80A、80B。另夕卜，電介體罩固定器具81B4在其與支承架7之間夾著第3和第4部分罩80C、80D的各自一邊來支承第3和第4部分罩80C、80D。
[0142]電介體罩固定器具81A、81B1、81B2、81B3、81B4均包括I個以上支承部和I個被固定部。支承部是被配置在作為電介體罩80的一部分的被支承部的下側并用于支承該被支承部的部分。電介體罩80具有與電介體罩固定器具81A、81B1、81B2、81B3、81B4所包括的所有支承部相對應的被支承部。
[0143]接著，詳細說明電介體罩固定器具81A的構造和作用。如圖17所示，電介體罩固定器具81A包括被固定部81A3以及對第I部分罩80A和第2部分罩80B的一部分進行支承的支承部81A1。雖未圖示，但電介體罩固定器具81A的支承部81A1呈環(huán)狀，也對第3部分罩80C的一部分和第4部分罩80D的一部分進行支承。支承部81A1連接于被固定部81A3，并且，被配置成圍著被固定部81A3并向被固定部81A3的側方延伸。
[0144]另一方面，第I部分罩80A具有被支承部80A1。被支承部80A1具有下表面80Ala以及與該下表面80Ala連續(xù)的側端80Alb。側端80Alb也是缺口部80Aa的端緣。被支承部80A1的上表面與支承梁16B和第I部分壁6A中的至少一個的下表面抵接。在圖17所示的例子中，被支承部80A1的上表面與支承梁16B和第I部分壁6A這兩者的下表面抵接，但被支承部80A1的上表面也可以抵接于支承梁16B和第I部分壁6A中的僅一個的下表面。同樣，第2部分罩80B具有被支承部80B1。被支承部80B1具有下表面80Bla以及與該下表面80Bla連續(xù)的側端80Blb。被支承部80B1的上表面與支承梁16B和第2部分壁6B中的至少一個的下表面抵接。在圖17所示的例子中，被支承部80B1的上表面與支承梁16B和第2部分壁6B這兩者的下表面抵接，但被支承部80B1的上表面也可以抵接于支承梁16B和第2部分壁6B中的僅一個的下表面。
[0145]第3和第4部分罩80C、80D也分別具有與上述第I部分罩80A和第2部分罩80B的被支承部80A1、80B1同樣的被支承部。
[0146]電介體罩固定器具81A的支承部81A1具有下表面以及與被支承部80A1的下表面80Ala抵接的上表面。支承部81A1的下表面成為隨著遠離被固定部81A3 (即，隨著朝向支承部81A1的周緣部)而與支承部81A1的上表面的距離變小的錐形面。從處理室5看到的被固定部81A3的形狀是比電介體罩80的圓形開口部的形狀稍小的圓形形狀。被固定部81A3的一部分被插入到電介體罩80的圓形開口部內。該被固定部81A3的一部分被配置在被支承部80A1的側端80Alb、被支承部80B1的側端80Blb、第3支承部的側端及第4支承部的側端的側方。
[0147]電介體罩固定器具81A的被固定部81A3以其與作為支承構件的支承梁16B的位置關系不發(fā)生變化的方式被固定。具體地講，被固定部81A3如下所述那樣固定于支承梁16B。首先，支承梁16B具有凹部16B1，在該凹部16B1的內周形成有螺紋槽(或者螺紋牙)16B2。另外，被固定部81A3的上部具有突出成圓柱狀的凸部81A3a，在該凸部81A3a的外周形成有螺紋牙(或者螺紋槽)81A3b。于是，電介體罩固定器具81A通過將被固定部81A3的凸部81A3a抒入支承梁16B的凹部16B1中而固定于支承梁16B。這樣,第6變形例的電介體罩固定器具81A不采用螺釘等另外構件的固定部件就能夠固定于支承梁16B，因此，能夠削減零件件數，并且也能夠解決自露出到等離子體的螺釘的頭部產生微粒這樣的問題。
[0148]第6變形例的電介體罩固定器具81A的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0149]接著，參照圖18?20說明本實施方式的電介體罩固定器具的固定方法的又一例子。在此，以圖6或圖7所示的電介體罩固定器具18A為例進行說明，但以下說明的固定方法也能夠適用于上述變形例中列舉的其他電介體罩固定器具。
[0150]圖18表不電介體罩固定器具18A的固定方法的一個例子。在該例子中，中間構件201a、201b分別介于電介體罩固定器具18A的第I支承部18A1與第I部分罩12A的被支承部12A1之間、以及電介體罩固定器具18A的第2支承部18A2與第2部分罩12B的被支承部12B1之間。S卩，電介體罩固定器具18A夾著中間構件201a、201b而間接地對電介體罩12 (第I部分罩12A、第2部分罩12B)進行固定。電介體罩固定器具18A例如與圖6或圖7同樣地采用螺釘19A1、19A2 (在此省略圖示)來固定。中間構件201a被第I支承部18A1和被支承部12A1夾持，中間構件201b被夾持在第2支承部18A2與被支承部12B1之間。在未圖示的第3部分罩12C與第3支承部之間、第4部分罩12D與第4支承部之間也分別具有與上述相同的中間構件，但這些中間構件也可以是一體件。
[0151]圖19表不電介體罩固定器具18A的固定方法的又一例子。在該例子中，中間構件202介于電介體罩固定器具18A的被固定部18A3與支承梁16之間。S卩，支承梁16夾著中間構件202而間接地將電介體罩12 (第I部分罩12A、第2部分罩12B)夾在支承梁16與電介體罩固定器具18A之間。電介體罩固定器具18A例如與圖6或圖7同樣地米用螺釘19A1U9A2 (在此省略圖示)來固定。中間構件202的上表面與支承梁16的下端接觸。中間構件202的下表面與第I部分罩12A的被支承部12A1的上表面、第2部分罩12B的被支承部12B1的上表面及電介體罩固定器具18A的被固定部18A3的上表面接觸。
[0152]圖20表示電介體罩固定器具18A的固定方法的再一例子。在該例子中，中間構件203a、203b分別介于電介體罩固定器具18A (被固定部18A3和第I支承部18A1)與第I部分罩32A的被支承部32A1之間、以及電介體罩固定器具18A(被固定部18A3和第2支承部18A2)與第2部分罩32B的被支承部32B1之間。S卩，電介體罩固定器具18A夾著中間構件203a、203b而間接地對電介體罩12 (第I部分罩32A、第2部分罩32B)進行固定。[0153]第I部分罩32A和第2部分罩32B具有與上述第I變形例(圖9)相同的形狀。SP，第I部分罩32A具有被支承部32A1，該被支承部32A1具有下表面32Ala以及與該下表面32Ala連續(xù)的側端32Alb。被支承部32A1的下表面是第I部分罩32A的下表面的一部分，在第I部分罩32A的下表面，以被支承部32A1的下表面位于除被支承部32A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部。中間構件203a形成與該臺階部嚙合的形狀。
[0154]同樣，第2部分罩32B具有被支承部32B1，被支承部32B1具有下表面32Bla以及與該下表面32Bla連續(xù)的側端32Blb。被支承部32B1的下表面是第2部分罩32B的下表面的一部分，在第2部分罩32B的下表面，以被支承部32B1的下表面位于除被支承部32B1之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部。中間構件203b形成與該臺階部嚙合的形狀。
[0155]電介體罩固定器具18A例如與圖6或圖7同樣地采用螺釘19A1、19A2 (在此省略圖示)來固定。中間構件203a被第I支承部18A1和被支承部32A1夾持，中間構件203b被夾持在第2支承部18A2和被支承部32B1之間。
[0156]在未圖示的第3部分罩與第3支承部之間、第4部分罩與第4支承部之間也分別具有與上述相同的中間構件，但這些中間構件也可以是一體件。
[0157]圖18、19、20所示的中間構件201a、201b、202、203a、203b例如能夠由具有抗等離子性的陶瓷等材質構成。通過插入中間構件201a、201b、202、203a、203b，即使電介體罩12的尺寸變化，也不會改變電介體罩固定器具18A自身的尺寸、形狀，能夠利用電介體罩固定器具18A可靠地固定。例如，即使在作為第I部分罩(12A、32A)和第2部分罩(12B、32B)而采用其厚度較薄、面方向上的長度比圖6、圖7短的材料的情況下，通過插入中間構件201a、201b、202、203a、203b，也能夠不在第I部分罩(12A、32A)、第2部分罩(12B、32B)與電介體罩固定器具18A之間產生間隙、游隙地進行固定。
[0158]另外，中間構件201a、201b、202、203a、203b例如也可以由氟樹脂、硅膠等彈性材
料構成。在這種情況下，即使電介體罩12因熱量而產生伸縮、應變等變形，也能夠吸收該變形，因此，能夠防止電介體罩12的破損，并且，不會產生間隙、游隙，能夠可靠地維持由電介體罩固定器具18A固定電介體罩12的狀態(tài)。
[0159]如上所述，通過插入中間構件，能夠利用電介體罩固定器具18A可靠地固定電介體罩12，因此，也能夠防止在處理室5中產生的等離子體自電介體罩12的固定部位進入而對支承梁16造成損傷、或者發(fā)生異常放電。圖18、19、20所示的電介體罩固定器具的其他構造、作用及效果與圖6或圖7所示的電介體罩固定器具相同。
[0160]第2實施方式
[0161]接著，參照圖21和圖22說明作為本發(fā)明的第2實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖21是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。圖22是表示圖21所示的電介體罩固定裝置的另一狀態(tài)的剖視圖。
[0162]本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第I實施方式的支承梁16而具有支承梁86，替代第I實施方式的電介體罩12而具有電介體罩82，替代第I實施方式的電介體罩固定器具18A而具有作為“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置87A。另外，以下詳細說明電介體罩固定裝置87A，但在本實施方式中，替代第I實施方式中的除電介體罩固定器具18A之外的電介體罩固定器具，而設有與電介體罩固定裝置87A相同的電介體罩固定裝置。[0163]在支承梁86上形成有從上表面貫穿到下表面的I個通孔。通孔包括從支承梁86的上表面到下表面按順序配置的內周部86a、86b、86c、86d。內周部86a、86c的內徑大致相等。內周部86b、86d的內徑大致相等且大于內周部86a、86c的內徑。在相鄰的2個內周部的邊界位置形成有將2個內周部連結起來的環(huán)狀的臺階形成面。
[0164]電介體罩82與第I實施方式的電介體罩12同樣地被分割成4個部分。即，電介體罩82具有第I部分罩82A、第2部分罩82B、未圖不的第3和第4部分罩。
[0165]第I部分罩82A具有被支承部82A1。被支承部82A1具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端。被支承部82A1的下表面是第I部分罩82A的下表面的一部分，在第I部分罩82A的下表面，以被支承部82A1的下表面位于除被支承部82A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部。同樣，第2部分罩82B具有被支承部82B1。
[0166]電介體罩固定裝置87A包括電介體罩固定器具88A和固定機構90。電介體罩固定器具88A與圖9所示的電介體罩固定器具38A同樣地具有第I支承部88A1、第2支承部88A2、被固定部88A3、未圖示的第3和第4支承部。
[0167]第I支承部88A1被配置在第I部分罩82A的下表面上的上述臺階部，第I支承部88A1的上表面抵接于被支承部82A1的下表面。第I支承部88A1具有與上述臺階部的臺階相等的厚度。因此，在第I支承部88A1的下表面與第I部分罩82A中的除被支承部82A1之外的部分的下表面之間沒有臺階。同樣，第2支承部88A2的上表面抵接于被支承部82B1的下表面。
[0168]第3支承部與第3部分罩的被支承部之間的關系以及第4支承部與第4部分罩的被支承部之間的關系同上述第I支承部88A1與第I部分罩82A的被支承部82A1之間的關系相同。被固定部88A3的一部分被配置在第I?第4部分罩的被支承部的側端的側方。
[0169]電介體罩固定器具88A的各支承部分別在其與支承梁86和電介體壁6中的至少一個之間夾著位于與支承部相對應的位置的電介體罩82的被支承部來支承電介體罩82的被支承部。另外，圖21和圖22表示電介體罩固定器具88A的支承部88A1、88A2分別在其與支承梁86之間夾著被支承部82A1、82B1來支承被支承部82A1、82B1的例子。但是，支承部88A1、88A2也可以分別在其與電介體壁6之間或者與支承梁86和電介體壁6這兩者之間夾著被支承部82A1、82B1來支承被支承部82A1、82B1。
[0170]另外，被固定部88A3具有配置在電介體罩82的上表面的上方的鉤89。鉤89被收容在內周部86d內。鉤89形成其上端附近的一部分的內徑小于其他部分的內徑的大致圓筒形狀。鉤89的上端附近的一部分成為后述的卡合構件94的一部分所卡合的卡合部。
[0171]固定機構90是以使電介體罩固定器具88A的被固定部88A3與支承梁86的位置關系不發(fā)生變化的方式將電介體罩固定器具88A的被固定部88A3固定的機構。在本實施方式中，特別是，固定機構90是使用氣缸提起被固定部88A3的機構。
[0172]固定機構90具有構成氣缸的桿91和缸體92。缸體92直接或借助其他構件固定于主體容器2。固定機構90還具有彈簧93和卡合構件94。固定機構90的一部分被插入到支承梁86的通孔內。
[0173]桿91包括收容在缸體92內的第I部分91a、自該第I部分91a朝向下方依次連接的第2部分91b、第3部分91c、第4部分91d、第5部分91e及第6部分91f。第I?第5部分91a?91e均具有圓柱形狀。第6部分91f具有圓錐形狀。[0174]第2部分91b貫穿缸體92的底部，被插入到內周部86a。第2部分91b的外徑小于第I部分91a的外徑。第3部分91c被配置在內周部86c內。第3部分91c的外徑大于第2部分91b的外徑，且小于內周部86a、86c的內徑。
[0175]第4部分91d被配置在內周部86b內。第4部分91d的外徑小于第3部分91c的外徑。第5部分9Ie被插入到內周部86c與鉤89的卡合部內，其下端部位于卡合部的下方。第5部分9Ie的外徑小于第4部分9Id的外徑。
[0176]第6部分91f被收容在鉤89內。第6部分91f的底面直徑大于第5部分91e的外徑，且小于鉤89的卡合部的內徑。
[0177]在缸體92的內部，由缸體92的內壁和第I部分91a的上表面形成空間。在缸體92上連接有用于向上述空間供給空氣、且自該空間排出空氣的配管95。
[0178]彈簧93在內周部86d內被配置在桿91的第3部分91c與內周部86b、86c的邊界中的臺階形成面之間。第4部分91d在彈簧93的內側能夠上下移動地配置。桿91被彈簧向上方施加作用力。
[0179]卡合構件94具有凸緣94a、連接于該凸緣94a下端的多個(例如3個)平板部94b、以及分別從各平板部94b的下端部突出到外側的多個卡合部94c。在凸緣94a中形成有從上表面貫穿到下表面的I個通孔。在該通孔中插入有第5部分91e。凸緣94a的外徑與內周部86c的內徑大致相等。凸緣94a的向上方的移動被彈簧93或者支承梁86限制。平板部94b具有撓性。平板部94b的下端部與第6部分91f接觸。
[0180]接著，說明本實施方式的電介體罩固定裝置87A的作用。圖21表示固定機構90未將電介體罩固定器具88A的被固定部88A3固定的狀態(tài)，圖22表不固定機構90對電介體罩固定器具88A的被固定部88A3進行固定的狀態(tài)。
[0181]圖21所示的狀態(tài)是通過自配管95向缸體92的內部空間供給空氣來實現的。在該狀態(tài)下，桿91位于可動范圍的下端。在該狀態(tài)下，卡合構件94的多個平板部94b的下端部未展開，多個卡合部94c未卡合于鉤89的卡合部。因而，在該狀態(tài)下，電介體罩固定器具88A未固定于支承梁86,能夠拆卸電介體罩固定器具88A和電介體罩82。
[0182]停止自配管95向缸體92的內部空間供給空氣，自缸體92的內部空間排出空氣時，轉移到圖22所示的狀態(tài)。此時，桿91被彈簧93的作用力推向上方，卡合構件94的多個平板部94b的下端部利用第6部分91f向外側展開。結果，多個卡合部94c卡合于鉤89的卡合部，通過提起被固定部88A3，電介體罩固定器具88A以其與支承梁86的位置關系不發(fā)生變化的方式固定于支承梁86。由此，電介體罩82被電介體罩固定器具88A固定。
[0183]像以上說明的那樣，在本實施方式中，通過由固定機構90提起電介體罩固定器具88A的被固定部88A3，將被固定部88A3以其與支承構件(支承梁86)的位置關系不發(fā)生變化的方式固定。因此，采用本實施方式，電介體罩固定器具88A和電介體罩82的裝卸作業(yè)變得容易。
[0184]另外，在本實施方式中，固定機構90的桿91被彈簧93向上方施加作用力。因此，采用本實施方式，即使在電介體罩82的裝卸作業(yè)中發(fā)生自缸體92漏氣的故障的情況下，電介體罩固定器具88A和電介體罩82也不會落下。
[0185]本實施方式的其他構造、作用及效果與第I實施方式相同。
[0186]第3實施方式[0187]接著，說明作為本發(fā)明的第3實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖23是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第2實施方式的支承梁86而具有支承梁96，替代第2實施方式的電介體罩82而具有電介體罩112，替代第2實施方式的電介體罩固定裝置87A而具有電介體罩固定裝置120。另外，以下詳細說明電介體罩固定裝置120，但在本實施方式中，替代第2實施方式中的除電介體罩固定裝置87A之外的電介體罩固定裝置，而設有與電介體罩固定裝置120相同的電介體罩固定裝置。
[0188]在支承梁96中形成有從上表面貫穿到下表面的I個通孔96a。電介體罩112與第I實施方式的電介體罩12同樣地被分割成4個部分。即，電介體罩112具有第I部分罩112A、第2部分罩112B、未圖不的第3及第4部分罩。
[0189]第I部分罩112A具有被支承部112A1。被支承部112A1具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端。被支承部112A1的下表面是第I部分罩112A的下表面的一部分，在第I部分罩112A的下表面，以被支承部112A1的下表面位于除被支承部112A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部。同樣，第2部分罩112B具有被支承部112B1。
[0190]電介體罩固定裝置120包括作為電介體罩固定器具的桿121以及作為固定機構的缸體122。桿121和缸體122構成氣缸。缸體122被配置在支承梁96的上方，直接或借助其他構件固定于主體容器2。桿121被插入到通孔96a中。
[0191]桿121具有上端部被收容在缸體122內的軸狀的被固定部121a、分別自被固定部121a的下端部向側方延伸的第I支承部121bl、第2支承部121b2、未圖示的第3及第4支承部。
[0192]第I支承部121bl被配置在第I部分罩112A的下表面上的上述臺階部，第I支承部121bl的上表面抵接于被支承部112A1的下表面。第I支承部121bl具有與上述臺階部的臺階相等的厚度。因此，在第I支承部121bl的下表面與第I部分罩112A中的除被支承部112A1之外的部分的下表面之間沒有臺階。同樣，第2支承部121b2的上表面抵接于被支承部112B1的下表面。
[0193]第3支承部與第3部分罩的被支承部之間的關系以及第4支承部與第4部分罩的被支承部之間的關系同上述第I支承部121bl與第I部分罩112A的被支承部112A1之間的關系相同。被固定部121a的一部分被配置在第I?第4部分罩的被支承部的側端的側方。
[0194]上述各支承部分別在其與支承梁96和電介體壁6中的至少一個之間夾著位于與支承部相對應的位置的電介體罩112的被支承部來支承電介體罩112。另外，圖23表示支承部121bl、121b2分別在其與支承梁96之間夾著被支承部112A1U12B1來支承被支承部112A1U12B1的例子。但是，支承部121bl、121b2也可以分別在其與電介體壁6之間或者與支承梁96和電介體壁6這兩者之間夾著被支承部112A1、112B1來支承被支承部112A1、112B1。
[0195]在缸體122上連接有配管123、124。在自配管124向缸體122內供給空氣、自配管123排氣時，桿121移動到可動范圍的上端。相反，在自配管123向缸體122內供給空氣、自配管124排氣時，桿121移動到可動范圍的下端。
[0196]在本實施方式的電介體罩固定裝置120中，使桿121移動到可動范圍的上端時，通過提起被固定部121a，支承部121bl、121b2的上表面分別抵接于被支承部112A1U12B1的下表面。由此，作為電介體罩固定器具的桿121以其與支承梁96的位置關系不發(fā)生變化的方式固定于支承梁96。由此，電介體罩112被桿121固定。
[0197]另外，在使桿121移動到可動范圍的下端時，支承部121bl、121b2的上表面分別遠離被支承部112A1、112B1的下表面，解除電介體罩112的固定。
[0198]圖24是表示本實施方式的變形例的電介體罩固定裝置130的剖視圖。該變形例的電介體罩固定裝置130替代圖23中的桿121和缸體122而包括作為電介體罩固定器具的齒條131以及作為固定機構的小齒輪132。齒條131包括:被插入到通孔96a中的軸狀的被固定部131a ;分別自被固定部131a的下端部向側方延伸的第I支承部131bl、第2支承部131b2、未圖示的第3及第4支承部。第I?第4支承部的形狀和作用與圖23所示的桿121的第I?第4支承部相同。小齒輪132被配置在支承梁96的上方，其直接或者借助其他構件能夠相對于主體容器2旋轉地安裝在主體容器2上。被固定部131a的一部分被配置在支承梁96的上方，在該一部分的側面形成有供小齒輪132嚙合的齒131c。
[0199]在圖24所示的變形例的電介體罩固定裝置130中，通過使小齒輪132旋轉而齒條131沿上下方向移動，由此，能夠與圖23所示的電介體罩固定裝置120同樣地解除電介體罩112的固定。
[0200]本實施方式的其他構造、作用及效果與第2實施方式相同。
[0201]第4實施方式
[0202]接著，說明作為本發(fā)明的第4實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖25是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第3實施方式的電介體罩固定裝置120而具有電介體罩固定裝置135。
[0203]電介體罩固定裝置135包括電介體罩固定器具148以及固定機構140。電介體罩固定器具148具有軸狀的被固定部148a、分別自被固定部148a的下端部向側方延伸的第I支承部148bl、第2支承部148b2、未圖示的第3及第4支承部。第I?第4支承部的形狀和作用與圖23所示的桿121的第I?第4支承部相同。被固定部148a被插入到通孔96a中。被固定部148a的一部分被配置在支承梁96的上方，在該一部分形成有沿水平方向貫穿的孔148c。電介體罩固定裝置135還包括罩149，該罩149被安裝在支承梁96上，用于對配置在支承梁96上方的被固定部148a的一部分進行覆蓋。
[0204]固定機構140是對被固定部148a的上下方向的移動進行限制的機構。該固定機構140具有桿141和缸體142。桿141和缸體142構成氣缸。缸體142例如被固定于電介體壁6。桿141沿水平方向配置，能夠貫穿罩149而插入到孔148c中。
[0205]在缸體142上連接有配管143、144。在自配管144向缸體142內供給空氣、自配管143排氣時，桿141突出而插入到孔148c中。由此，被固定部148a的上下方向的移動被限制，電介體罩112被電介體罩固定器具148固定。相反,在自配管143向缸體142內供給空氣、自配管144排氣時,桿141自孔148c退出。由此,被固定部148a能夠沿上下方向移動，解除電介體罩112的固定。
[0206]圖26是表示本實施方式的變形例的電介體罩固定裝置136的剖視圖。該變形例的電介體罩固定裝置136替代圖25中固定機構140而具有固定機構150。固定機構150具有替代桿141的齒條151以及使該齒條151沿水平方向移動的小齒輪152。齒條151沿水平方向配置，能夠貫穿罩149而插入到孔148c中。
[0207]在該變形例中，通過使小齒輪152旋轉而齒條151沿水平方向移動，由此，能夠與圖25所示的電介體罩固定裝置135同樣地解除電介體罩112的固定。
[0208]本實施方式的其他構造、作用及效果與第3實施方式相同。
[0209]第5實施方式
[0210]接著，說明作為本發(fā)明的第5實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖27是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。圖28是表示圖27中的電介體罩固定裝置的一部分的立體圖。
[0211]本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第2實施方式的支承梁86而具有支承梁186，替代第2實施方式的電介體罩82而具有電介體罩182，替代第2實施方式的電介體罩固定裝置87A而具有電介體罩固定裝置187A。
[0212]在支承梁186中形成有從上表面貫穿到下表面的I個通孔。通孔包括從支承梁86的上表面到下表面按順序配置的內周部186a、186b。內周部186b的內徑大于內周部186a的內徑。
[0213]電介體罩182與第2實施方式的電介體罩82同樣地被分割成4個部分。即，電介體罩182具有第I部分罩182A、第2部分罩182B、未圖示的第3及第4部分罩。
[0214]第I部分罩182A具有被支承部182A1。被支承部182A1具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端。被支承部182A1的下表面是第I部分罩182A的下表面的一部分，在第I部分罩182A的下表面，以被支承部182A1的下表面位于除被支承部182A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部。同樣，第2部分罩182B具有被支承部182B1。
[0215]電介體罩固定裝置187A包括電介體罩固定器具188A和固定機構190。電介體罩固定器具188A與第2實施方式的電介體罩固定器具88A同樣地具有第I支承部188A1、第2支承部188A2、被固定部188A3、未圖示的第3及第4支承部。第I?第4支承部的形狀和作用與第2實施方式相同。
[0216]被固定部188A3具有配置在罩182上表面的上方的鉤189。鉤189被收容在內周部186b內。在鉤189上，從其上表面到內部形成有俯視的形狀為長方形的狹縫189a。在鉤189的內部，在上述狹縫189a的下方還形成有與狹縫189a連續(xù)的空洞部189b。俯視的空洞部18%的形狀是具有與狹縫189a的長度尺寸相等的直徑的圓形。在狹縫189a與空洞部189b的邊界位置形成有將狹縫189a和空洞部189b連結起來的臺階形成面。
[0217]固定機構190具有保持架191、電動機192、將電動機192的旋轉軸與保持架191連結起來的連接器193。如圖28所示，保持架191具有桿部191b、與該桿部191b的上端連接的圓板部191a、與桿部191b的下端連接的鍵部191c。圓板部191a被配置在支承梁186上表面的上方，連接于連接器193。桿部191b被插入到內周部186a和狹縫189a中。鍵部191c具有能夠通過狹縫189a的尺寸的長方體形狀。鍵部191c能夠旋轉地收容在空洞部189b內。另外，鍵部191c的上下方向尺寸與空洞部189b的上下方向尺寸大致相等。
[0218]在本實施方式的電介體罩固定裝置187A中，使電動機192的旋轉軸旋轉時，保持架191的鍵部191c在空洞部189b內旋轉。在使鍵部191c停止在除能夠通過狹縫189a的位置之外的位置時，鍵部191c的上表面抵接于將狹縫189a和空洞部189b連結起來的臺階形成面而使電介體罩固定器具188A固定，由此，電介體罩182被電介體罩固定器具188A固定。
[0219]在使鍵部191c停止在能夠通過狹縫189a的位置時，鍵部191c通過狹縫189a，從而，電介體罩固定器具188A能夠移動到下方。由此，電介體罩182的固定被解除。
[0220]本實施方式的其他構造、作用及效果與第2實施方式相同。
[0221]第6實施方式
[0222]接著，說明作為本發(fā)明的第6實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖29是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第2實施方式的電介體罩82而具有電介體罩162，替代第2實施方式的電介體罩固定裝置87A而具有電介體罩固定裝置290。電介體罩162既可以被分割成多個部分，也可以不被分割。電介體罩固定裝置290的構造與第2實施方式的固定機構90相同。因此，對電介體罩固定裝置290的構成要件標注與固定機構90的構成要件相同的附圖標記。
[0223]電介體罩162包括罩主體162A和鉤162B,該罩主體162A具有上表面和下表面，用于構成電介體罩162的主要部分，該鉤162B被安裝在該罩主體162A的上表面。鉤162B被收容在支承梁86的內周部86d內。鉤162B形成其上端附近的一部分的內徑小于其他部分的內徑的大致圓筒形狀。鉤162B的上端附近的一部分成為供卡合構件94的多個卡合部94c卡合的卡合部162B1?？ê喜?62B1與本發(fā)明的電介體罩的被支承部相對應。因而，在本實施方式中，作為被支承部的卡合部162B1被配置在罩主體162A的上表面的上方?？ê喜?62B1具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端(卡合部162B1的內周側的端部)。
[0224]在電介體罩固定裝置290中，桿91的第6部分91f和卡合構件94的卡合部94c被收容在鉤162B內?？ê蠘嫾?4與本發(fā)明的電介體罩固定器具相對應，除卡合構件94之外的電介體罩固定裝置290的構成要件與提起作為電介體罩固定器具的卡合構件94的、本發(fā)明的固定機構相對應。另外，卡合部94c與本發(fā)明的支承部相對應，卡合構件94中的除卡合部94c之外的部分與本發(fā)明的被固定部相對應。作為支承部的卡合部94c被配置在作為被支承部的卡合部162B1的下表面與罩主體162A的上表面之間。構成被固定部的平板部94b的一部分被配置在卡合部162B1的側端的側方。
[0225]在本實施方式中，在自配管95向缸體92的內部空間供給空氣時，桿91位于可動范圍的下端。在該狀態(tài)下，卡合構件94的多個平板部94b的下端部未展開，多個卡合部94c未卡合于鉤162B的卡合部162B1。因而,在該狀態(tài)下,作為電介體罩固定器具的卡合構件94未固定于支承梁86,能夠拆卸電介體罩162。
[0226]停止自配管95向缸體92的內部空間供給空氣、自缸體92的內部空間排出空氣時，桿91被彈簧93的作用力推向上方，卡合構件94的多個平板部94b的下端部被第6部分91f向外側展開。結果，多個卡合部94c卡合于鉤162B的卡合部162B1，作為電介體罩固定器具的卡合構件94以其與支承梁86的位置關系不發(fā)生變化的方式固定于支承梁86。由此，電介體罩162以其與支承梁86的位置關系不發(fā)生變化的方式被固定。
[0227]本實施方式的其他構造、作用及效果與第2實施方式相同。
[0228]第7實施方式
[0229]接著，說明作為本發(fā)明的第7實施方式的“罩固定裝置”的電介體罩固定裝置。圖30是表示本實施方式的電介體罩固定裝置的剖視圖。本實施方式的電感耦合等離子處理裝置替代第5實施方式的電介體罩182而具有電介體罩382，替代第5實施方式的電介體罩固定裝置187A而具有電介體罩固定裝置390。電介體罩382既可以被分割成多個部分，也可以不被分割。電介體罩固定裝置390的構造與第5實施方式的固定機構190相同。因此，對電介體罩固定裝置390的構成要件標注與固定機構190的構成要件相同的附圖標記。
[0230]電介體罩382包括罩主體382A和鉤382B，該罩主體382A具有上表面和下表面，用于構成電介體罩382的主要部分，該鉤382B被安裝在該罩主體382A的上表面。鉤382B被收容在支承梁186的內周部186b內。鉤382B形成其上端附近的一部分的內徑小于其他部分的內徑的大致圓筒形狀。
[0231]鉤382B的構造與第5實施方式的鉤189相同。S卩，在鉤382B中，從其上表面到內部形成有俯視的形狀為長方形的狹縫382Ba。在鉤382B的內部，在上述狹縫382Ba的下方還形成有與狹縫382Ba連續(xù)的空洞部382Bb。俯視的空洞部382Bb的形狀是具有與狹縫382Ba的長度尺寸相等的直徑的圓形。在狹縫382Ba與空洞部382Bb的邊界位置形成有將狹縫382Ba和空洞部382Bb連結起來的臺階形成面。
[0232]另外，鉤382B具有形成在狹縫382Ba的周邊的被支承部382B1。因而，在本實施方式中，被支承部382B1被配置在罩主體382A的上表面的上方。被支承部382B1具有下表面以及與該下表面連續(xù)的側端(狹縫382Ba的端部)。
[0233]在電介體罩固定裝置390的保持架191中，桿部191b被插入到內周部186a和狹縫382Ba中。鍵部191c具有能夠通過狹縫382Ba那樣的尺寸的長方體形狀。鍵部191c能夠旋轉地收容在空洞部382Bb內。另外，鍵部191c的上下方向尺寸與空洞部382Bb的上下方向尺寸大致相等。
[0234]保持架191與本發(fā)明的電介體罩固定器具相對應，除保持架191之外的電介體罩固定裝置390的構成要件與本發(fā)明的固定機構相對應。保持架191的鍵部191c包括能夠抵接于被支承部382B1的下表面的2個支承部191cl、191c2。保持架191中的、除支承部191cl、191c2之外的部分與本發(fā)明的被固定部相對應。支承部191cl、191c2被配置在被支承部382B1的下表面與罩主體382A的上表面之間。構成被固定部的桿部191b的一部分被配置在被支承部382B1的側端的側方。
[0235]在本實施方式的電介體罩固定裝置390中，使電動機192的旋轉軸旋轉時，保持架191的鍵部191c在空洞部382Bb內旋轉。在使鍵部191c停止在除能夠通過狹縫382Ba的位置之外的位置時，支承部191cl、191c2的上表面抵接于被支承部382B1的下表面而電介體罩382被固定。
[0236]在使鍵部191c停止在能夠通過狹縫382Ba的位置時，鍵部191c通過狹縫382Ba，從而，電介體罩382能夠移動到下方。由此,解除電介體罩382的固定。
[0237]本實施方式的其他構造、作用及效果與第5實施方式相同。
[0238]另外，本發(fā)明并不限于上述各實施方式，能夠進行各種變更。例如，在本發(fā)明中，對罩固定器具進行固定的部件并不限于各實施方式所示的部件。
【權利要求】
1.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，該電感耦合等離子處理裝置包括:處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，其用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定器具用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于， 包括: 支承部，其用于對具有作為上述罩的一部分的下表面的被支承部進行支承； 被固定部，其被固定于上述支承構件， 上述罩包括罩主體，該罩主體具有下表面和上表面，構成罩的主要部分，上述被支承部被配置在上述罩主體的上表面的上方； 上述支承部被配置在上述被支承部的下表面與上述罩主體的上表面之間。
2.—種電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，該電感耦合等離子處理裝置包括:處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定裝置用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于， 上述電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置包括:權利要求1所述的罩固定器具；將上述罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承構件的固定機構。
3.根據權利要求2所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，其特征在于， 上述固定機構是提起上述被固定部的機構。
【文檔編號】H05H1/46GK103533739SQ201310390661
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2010年3月25日 優(yōu)先權日:2009年3月25日
【發(fā)明者】佐藤亮, 齊藤均, 天野健次 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社