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高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái)的制作方法

文檔序號(hào):8076086閱讀:192來源:國知局
高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),解決了現(xiàn)有裝置存在的加熱平臺(tái)散熱嚴(yán)重和石墨平臺(tái)的溫度均勻性差的問題。包括在平臺(tái)包覆底殼(1)上設(shè)置有真空陶瓷絕熱板(2),在真空陶瓷絕熱板(2)上設(shè)置有碳?xì)郑?)和矩形反射板(4),在矩形反射板(4)上設(shè)置有兩個(gè)前燈架支柱和兩個(gè)后燈架支柱,在石英燈前支架(9)與石英燈后支架(11)之間間隔地設(shè)置有16支600瓦的石英燈(10),在石英燈前支架(9)與石英燈后支架(11)之間間隔地設(shè)置的600瓦的石英燈(10)是以石墨平臺(tái)(12)的中軸線為對(duì)稱軸左右對(duì)稱設(shè)置的。本發(fā)明的石墨平臺(tái)的溫度均勻性好,使被加熱的一組工件的溫度均勻,能達(dá)到后續(xù)工藝的要求。
【專利說明】高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種共晶爐加熱平臺(tái),特別涉及一種可同時(shí)均勻加熱多組工件的共晶爐加熱平臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的共晶爐加熱平臺(tái)是用于共晶爐完成加熱焊接工藝的平臺(tái),設(shè)備加熱采用電壓220V,紅外加熱管加熱,紅外加熱管通過石英管密封真空,石英管的支架設(shè)置在加熱平臺(tái)的外側(cè),存在散熱嚴(yán)重;石墨平臺(tái)下的加熱石英管排列不合理,造成石墨平臺(tái)的溫度均勻性差,焊接的零件一致性差,合格率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供了一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),解決了現(xiàn)有裝置存在的加熱平臺(tái)散熱嚴(yán)重和石墨平臺(tái)的溫度均勻性差的技術(shù)問題。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案解決以上技術(shù)問題的:
一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),包括平臺(tái)包覆底殼,在平臺(tái)包覆底殼上設(shè)置有真空陶瓷絕熱板,在真空陶瓷絕熱板上設(shè)置有碳?xì)郑谔細(xì)稚显O(shè)置有矩形反射板,在矩形反射板上設(shè)置有四個(gè)燈架支柱,兩個(gè)前燈架支柱和兩個(gè)后燈架支柱,在每個(gè)燈架支柱上均設(shè)置有L形支撐支架,石英燈前支架設(shè)置在兩個(gè)前燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,石英燈后支架設(shè)置在兩個(gè)后燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,在石英燈前支架與石英燈后支架之間間隔地設(shè)置有16支600瓦的石英燈,在石英燈前支架和石英燈后支架上設(shè)置有石墨平臺(tái),石墨平臺(tái)的長為310毫米,石墨平臺(tái)的寬為240毫米,在石英燈前支架與石英燈后支架之間間隔地設(shè)置的600瓦的石英燈是以石墨平臺(tái)的中軸線為對(duì)稱軸左右對(duì)稱設(shè)置的,中軸線兩邊的石英燈的間距為32毫米,右側(cè)第一石英燈與右側(cè)第二石英燈的間距為26毫米,右側(cè)第二石英燈與右側(cè)第三石英燈的間距為24毫米,右側(cè)第三石英燈與右側(cè)第四石英燈的間距為21毫米,右側(cè)第四石英燈與右側(cè)第五石英燈的間距為19毫米,右側(cè)第五石英燈與右側(cè)第六石英燈的間距為17毫米,右側(cè)第六石英燈與右側(cè)第七石英燈的間距為15毫米,右側(cè)第七石英燈與右側(cè)第八石英燈的間距為14毫米。
[0005]燈架支柱上分別設(shè)置有下絕緣陶瓷座和上絕緣陶瓷座,L形支撐支架的底端設(shè)置在下絕緣陶瓷座與上絕緣陶瓷座之間。
[0006]本發(fā)明的石墨平臺(tái)的溫度均勻性好,使被加熱的多組工件的溫度均勻,焊接后工件一致性好,能達(dá)到后續(xù)工藝的要求。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明的石墨平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明的石英燈排列的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖4是本發(fā)明的燈架的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0008]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明:
一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),包括平臺(tái)包覆底殼I,在平臺(tái)包覆底殼I上設(shè)置有真空陶瓷絕熱板2,在真空陶瓷絕熱板2上設(shè)置有碳?xì)?,在碳?xì)?上設(shè)置有矩形反射板4,在矩形反射板4上設(shè)置有四個(gè)燈架支柱5,兩個(gè)前燈架支柱和兩個(gè)后燈架支柱,在每個(gè)燈架支柱5上均設(shè)置有L形支撐支架8,石英燈前支架9設(shè)置在兩個(gè)前燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,石英燈后支架11設(shè)置在兩個(gè)后燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,在石英燈前支架9與石英燈后支架11之間間隔地設(shè)置有16支600瓦的石英燈10,在石英燈前支架9和石英燈后支架11上設(shè)置有石墨平臺(tái)12,石墨平臺(tái)12的長m為310毫米,石墨平臺(tái)12的寬η為240毫米,在石英燈前支架9與石英燈后支架11之間間隔地設(shè)置的600瓦的石英燈10是以石墨平臺(tái)12的中軸線為對(duì)稱軸左右對(duì)稱設(shè)置的,中軸線兩邊的石英燈的間距a為32毫米,右側(cè)第一石英燈與右側(cè)第二石英燈的間距b為26毫米,右側(cè)第二石英燈與右側(cè)第三石英燈的間距c為24毫米,右側(cè)第三石英燈與右側(cè)第四石英燈的間距d為21毫米,右側(cè)第四石英燈與右側(cè)第五石英燈的間距e為19毫米,右側(cè)第五石英燈與右側(cè)第六石英燈的間距f為17毫米,右側(cè)第六石英燈與右側(cè)第七石英燈的間距g為15毫米,右側(cè)第七石英燈與右側(cè)第八石英燈的間距h為14毫米。
[0009]燈架支柱5上分別設(shè)置有下絕緣陶瓷座6和上絕緣陶瓷座7,L形支撐支架8的底端設(shè)置在下絕緣陶瓷座6與上絕緣陶瓷座7之間。
[0010]本發(fā)明采用70伏的電源加熱,由石英燈實(shí)現(xiàn)對(duì)石墨平臺(tái)12的加熱,石英燈的功率經(jīng)過建立模型,采用熱學(xué)分析軟件分析,同時(shí)對(duì)分析結(jié)果不斷的與實(shí)際測量值反復(fù)比對(duì),反復(fù)分析,得到了理想的結(jié)果,實(shí)現(xiàn)功率優(yōu)化布置,提高石墨平臺(tái)12的溫度均勻性,高反射率的矩形反射板4實(shí)現(xiàn)對(duì)石英燈發(fā)出的紅外短波的反射,在矩形反射板4下面設(shè)有碳?xì)?,碳?xì)?下方設(shè)有真空陶瓷絕熱板2,碳?xì)?和真空陶瓷絕熱板2起到很好的隔熱作用。
【權(quán)利要求】
1.一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),包括平臺(tái)包覆底殼(1),在平臺(tái)包覆底殼(I)上設(shè)置有真空陶瓷絕熱板(2),在真空陶瓷絕熱板(2)上設(shè)置有碳?xì)?3),在碳?xì)?3)上設(shè)置有矩形反射板(4),在矩形反射板(4)上設(shè)置有四個(gè)燈架支柱(5),兩個(gè)前燈架支柱和兩個(gè)后燈架支柱,在每個(gè)燈架支柱(5 )上均設(shè)置有L形支撐支架(8 ),石英燈前支架(9 )設(shè)置在兩個(gè)前燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,石英燈后支架(11)設(shè)置在兩個(gè)后燈架支柱上設(shè)置的L形支撐支架上,在石英燈前支架(9)與石英燈后支架(11)之間間隔地設(shè)置有16支600瓦的石英燈(10),在石英燈前支架(9)和石英燈后支架(11)上設(shè)置有石墨平臺(tái)(12),石墨平臺(tái)(12)的長(m)為310毫米,石墨平臺(tái)(12)的寬(η)為240毫米,其特征在于,在石英燈前支架(9)與石英燈后支架(11)之間間隔地設(shè)置的600瓦的石英燈(10)是以石墨平臺(tái)(12)的中軸線為對(duì)稱軸左右對(duì)稱設(shè)置的,中軸線兩邊的石英燈的間距(a)為32毫米,右側(cè)第一石英燈與右側(cè)第二石英燈的間距(b)為26毫米,右側(cè)第二石英燈與右側(cè)第三石英燈的間距(c)為24毫米,右側(cè)第三石英燈與右側(cè)第四石英燈的間距(d)為21毫米,右側(cè)第四石英燈與右側(cè)第五石英燈的間距(e)為19毫米,右側(cè)第五石英燈與右側(cè)第六石英燈的間距Cf)為17毫米,右側(cè)第六石英燈與右側(cè)第七石英燈的間距(g)為15毫米,右側(cè)第七石英燈與右側(cè)第八石英燈的間距(h)為14毫米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高均勻性多組工件共晶爐加熱平臺(tái),其特征在于,燈架支柱(5)上分別設(shè)置有下絕緣陶瓷座(6)和上絕緣陶瓷座(7),L形支撐支架(8)的底端設(shè)置在下絕緣陶瓷座(6)與上絕緣陶瓷座(7)之間。
【文檔編號(hào)】H05B3/62GK103648197SQ201310668587
【公開日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月11日
【發(fā)明者】王成君, 王宏杰, 程建平, 解永強(qiáng) 申請(qǐng)人:中國電子科技集團(tuán)公司第二研究所
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