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一種去靜電的真空吸盤的制作方法

文檔序號:8084222閱讀:886來源:國知局
一種去靜電的真空吸盤的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種去靜電的真空吸盤,包括:自一金屬支架的外緣徑向向上延伸并提供內(nèi)部空間的吸盤壁,以及通過金屬支架固定于吸盤壁的相對側(cè)的金屬螺頭,還包括嵌入所述吸盤壁內(nèi)部或粘附于所述吸盤壁上的至少一根金屬條或金屬箔,該金屬條或金屬箔的第一末端與所述金屬支架連接,第二末端延伸到所述吸盤壁之外并與產(chǎn)品接觸。本實用新型通過在吸盤壁上增設(shè)導(dǎo)電的金屬條或金屬箔,在保證真空度的前提條件下,有效釋放了吸盤取件時所聚集的靜電,解決了產(chǎn)品在取件后易留下吸盤印的問題,并且取件效果良好,制造工藝簡單,控制了生產(chǎn)成本;同時由于在第一個方案中金屬條或金屬箔的絕大部分均嵌入吸盤壁內(nèi)部,因此提高了導(dǎo)電有效性并延長了使用壽命。
【專利說明】一種去靜電的真空吸盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及注塑加工成型自動化生產(chǎn)領(lǐng)域,更具體地涉及一種去靜電的真空吸盤。
【背景技術(shù)】
[0002]在汽車內(nèi)外飾制造行業(yè)以及其他塑料成型行業(yè)中,通常會涉及到注塑加工成型工藝。為了提高生產(chǎn)效率,一般都會采用機械手取件的方式。在機械手取件的抓手設(shè)計中,通常會采用吸盤取件的設(shè)計,此方式由于具有設(shè)計成本低、取件穩(wěn)定、對設(shè)備開合模要求精度低等優(yōu)點,而得到廣泛的應(yīng)用。但同時,吸盤取件自身也存在明顯的缺陷一會在工件表面產(chǎn)生吸盤印。當(dāng)硅膠制品的吸盤與熱的注塑件接觸時,在接觸區(qū)域會有大量的靜電聚集在產(chǎn)品表面上。而在后期產(chǎn)品庫存周期中,殘余的靜電則會吸附空氣中的水分和灰塵,形成明顯的吸盤印,影響產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和后續(xù)的加工工序。若采用人工擦拭吸盤印,則會產(chǎn)生額外的工時成本。
[0003]現(xiàn)有的一種防靜電真空吸盤,是在普通吸盤表面包覆一層防靜電薄膜,但由于薄膜的存在會影響吸盤使用時的真空度,進而影響取件。此外,有專利公開在普通吸盤上安裝PEEK (聚醚醚酮)配件也可以起到防靜電的效果,但是由于PEEK為工程塑料,硬度較大,彈性差,影響吸盤的真空度,同時也增加了吸盤的制造難度,另外,PEEK價格較高,增加了使用成本。
[0004]因此,有必要提供一種新的去靜電的真空吸盤。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型的目的是提供一種去靜電的真空吸盤,從而解決現(xiàn)有技術(shù)中防靜電真空吸盤真空度不高,取件效果不好,制造難度大,生產(chǎn)成本高的缺陷。
[0006]為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用以下技術(shù)方案:
[0007]提供一種去靜電的真空吸盤,所述真空吸盤包括:自一金屬支架的外緣徑向向上延伸并提供內(nèi)部空間的吸盤壁,以及通過所述金屬支架固定于所述吸盤壁的相對側(cè)的金屬螺頭,所述真空吸盤還包括嵌入所述吸盤壁內(nèi)部或粘附于所述吸盤壁上的至少一根金屬條或金屬箔,所述金屬條或金屬箔的第一末端與所述金屬支架連接,所述金屬條或金屬箔的第二末端延伸到所述吸盤壁之外并與產(chǎn)品接觸。
[0008]所述金屬條或金屬箔的延伸到所述吸盤壁之外的第二末端貼合于所述吸盤壁的內(nèi)側(cè)壁上。
[0009]所述第二末端與所述吸盤壁通過膠水連接。
[0010]所述金屬條或金屬箔的第一末端與所述金屬支架或所述金屬螺頭通過焊接相連。
[0011]所述金屬支架與所述金屬螺頭通過所述金屬螺頭上的內(nèi)螺紋連接。
[0012]所述真空吸盤包括沿周向均勻分布的四根金屬箔。
[0013]所述吸盤壁具有波紋狀外形。[0014]所述金屬條的直徑為0.05?0.1mm。
[0015]所述金屬箔的寬度為2?IOmm,厚度為0.05?0.1mm。
[0016]所述金屬箔優(yōu)選為為鋁箔、鋁合金箔或銅箔。
[0017]本實用新型提供的一種去靜電的真空吸盤相對現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點:通過在吸盤壁上設(shè)計導(dǎo)電的金屬條或金屬箔,在不影響真空度的前提條件下,有效地釋放了吸盤取件時所聚集的靜電,解決了產(chǎn)品在取件后易留下吸盤印的問題,并且取件效果良好,制造工藝簡單,控制了生產(chǎn)成本;同時由于第一種方案中金屬條或金屬箔的絕大部分均嵌入了吸盤壁內(nèi)部,因此提高了該真空吸盤的導(dǎo)電有效性并延長了使用壽命。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的真空吸盤的側(cè)視圖;
[0019]圖2是圖1中所示真空吸盤的剖面圖;
[0020]圖3是根據(jù)本實用新型的另一優(yōu)選實施例的真空吸盤的剖面圖。
【具體實施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖,給出本實用新型的較佳實施例,并予以詳細描述,使能更好地理解本實用新型的功能、特點。
[0022]如圖1?2所示,是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一種去靜電的真空吸盤,所述真空吸盤包括:通過金屬支架I連接的吸盤壁2與金屬螺頭3,吸盤壁2自金屬支架I的外緣呈放射狀地徑向向外并向上延伸,提供一內(nèi)部空間,該吸盤壁2具有波紋狀外形,金屬螺頭3上具有內(nèi)螺紋和外螺紋,通過該內(nèi)螺紋與所述金屬支架I連接,固定于所述吸盤壁2的頂部,通過外螺紋與機械手底座連接,所述金屬螺頭3和金屬支架I還具有依次貫穿的氣道5,所述氣道5與所述吸盤壁2提供的內(nèi)部空間相通。該吸盤壁2由硅膠制成,在成型時嵌入沿周向均勻分布的四根金屬箔4,該金屬箔4的一個末端與金屬支架I連接,另一個末端從吸盤壁2的底端延伸出,并貼合于吸盤壁2的內(nèi)側(cè)壁。
[0023]如圖3所示,是根據(jù)本實用新型的另一優(yōu)選實施例的一種去靜電的真空吸盤,與前一種真空吸盤的唯一不同之處即在于,金屬箔4’并非嵌入吸盤壁的內(nèi)部,而是粘附于吸盤壁2的表面,其他結(jié)構(gòu)特征均類似,因此不再贅述,這種實施方式使得該靜電吸盤的制造工藝得到大大簡化。
[0024]由于金屬箔4,4’具有良好的導(dǎo)電性能,因此,在吸盤壁上產(chǎn)生的靜電電荷能夠順利地通過金屬支架I傳導(dǎo)到機械手底座上,從而消除產(chǎn)品表面的靜電聚集。
[0025]根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例,所述金屬條或金屬箔4,4’的貼合于吸盤壁2內(nèi)側(cè)壁上的末端通過膠水粘貼在所述吸盤壁2上,防止吸盤取件時漏氣。
[0026]優(yōu)選地,所述金屬條或金屬箔4,4’與所述金屬支架I通過焊接相連,或者與金屬螺頭3通過焊接相連。
[0027]優(yōu)選地,所述金屬條的直徑為0.05?0.1mm。
[0028]優(yōu)選地,所述金屬箔4,4’的寬度為2?IOmm,厚度為0.05?0.1mm。
[0029]采用上述尺寸的金屬條和金屬箔更好地保證了該真空吸盤在取件時的真空度,使得取件效果不受影響,順利完成取件。[0030]所述金屬箔4優(yōu)選為鋁箔、鋁合金箔或銅箔中的一種,從而提供良好的韌性,便于該真空吸盤的制造。
[0031]以上所述的,僅為本實用新型的較佳實施例,并非用以限定本實用新型的范圍,本實用新型的上述實施例還可以做出各種變化。即凡是依據(jù)本實用新型申請的權(quán)利要求書及說明書內(nèi)容所作的簡單、等效變化與修飾,皆落入本實用新型專利的權(quán)利要求保護范圍。本實用新型未詳盡描述的均為常規(guī)技術(shù)內(nèi)容。
【權(quán)利要求】
1.一種去靜電的真空吸盤,所述真空吸盤包括:自一金屬支架(I)的外緣徑向向上延伸并提供內(nèi)部空間的吸盤壁(2),以及通過所述金屬支架(I)固定于所述吸盤壁(2)的相對側(cè)的金屬螺頭(3),其特征在于,所述真空吸盤還包括嵌入所述吸盤壁(2)內(nèi)部或粘附于所述吸盤壁(2)上的至少一根金屬條或金屬箔(4,4’),所述金屬條或金屬箔(4,4’)的第一末端與所述金屬支架(I)連接,所述金屬條或金屬箔(4,4’)的第二末端延伸到所述吸盤壁(2)之外并與產(chǎn)品接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬條或金屬箔(4,4’)的延伸到所述吸盤壁(2 )之外的第二末端貼合于所述吸盤壁(2 )的內(nèi)側(cè)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空吸盤,其特征在于,所述第二末端與所述吸盤壁(2)通過膠水連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬條或金屬箔(4,4’)的第一末端與所述金屬支架(I)或所述金屬螺頭(3)通過焊接相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬支架(I)與所述金屬螺頭(3 )通過所述金屬螺頭(3 )上的內(nèi)螺紋連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述真空吸盤包括沿所述吸盤壁(2)的周向均勻分布的四根金屬箔(4,4’)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述吸盤壁(2)具有波紋狀外形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬條的直徑為0.05?0.1mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬箔(4,4’)的寬度為2?IOmm,厚度為 0.05 ?0.1mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤,其特征在于,所述金屬箔(4,4’)為鋁箔、鋁合金箔或銅箔。
【文檔編號】H05F3/00GK203622854SQ201320665181
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2013年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月25日
【發(fā)明者】宋敬海, 王偉國 申請人:延鋒汽車飾件系統(tǒng)有限公司
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