制備用于有機(jī)電子器件的基板的方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及制造用于有機(jī)電子器件的基板的方法以及制造有機(jī)電子器件的方法。本發(fā)明可提供用于形成器件的基板或該器件的制造方法，該器件在用于形成有機(jī)電子器件如有機(jī)發(fā)光器件時(shí)，確保優(yōu)異的光萃取效率，防止?jié)駳饣蚩諝鉂B透至裝置中，而改善可靠性。
【專(zhuān)利說(shuō)明】制備用于有機(jī)電子器件的基板的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種制備用于有機(jī)電子器件的基板或制造有機(jī)電子器件的方法，以及一種有機(jī)電子器件。

【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電子器件(0ED ；Organic Electronic Device)是一種通過(guò)電極層與有機(jī)材料之間的電子交換而顯示各種功能的器件，其包括有機(jī)發(fā)光器件(OLED)、有機(jī)太陽(yáng)能電池、有機(jī)光導(dǎo)體(OPC)和有機(jī)晶體管。
[0003]有機(jī)發(fā)光器件是代表性的有機(jī)電子器件，通常依序包括基板、第一電極層、包括發(fā)光層的有機(jī)層和第二電極層。
[0004]在被稱(chēng)為底部發(fā)光裝置(bottom emitting device)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可以為透明電極層，第二電極層可以為反射電極層。此外，在被稱(chēng)為頂部發(fā)光裝置(top emittingdevice)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可以為反射電極層，第二電極層可以為透明電極層。
[0005]借助這兩個(gè)電極層分別注入電子(electron)和空穴(hole)，并在發(fā)光層中將注入的電子和空穴重組(recombinat1n)從而產(chǎn)生光。在底部發(fā)光裝置中，光可發(fā)射至基板，在頂部發(fā)光裝置中，光可發(fā)射至第二電極層。
[0006]在有機(jī)發(fā)光器件結(jié)構(gòu)中，通常使用作為透明電極層的銦錫氧化物(ITO)，有機(jī)層和通常由玻璃形成的基板，分別具有約2.0、1.8和1.5的折射率。在這樣的折射率關(guān)系中，例如，由于全內(nèi)反射現(xiàn)象(total internal reflect1n phenomenon),在底部發(fā)光裝置的有機(jī)發(fā)光層中所產(chǎn)生的光會(huì)被有機(jī)層和第一電極層之間的界面或基板所捕獲，僅有極少量光被射出。
[0007]為了解決此問(wèn)題，已知的方法有使用能夠?qū)⒐馍⑸浠蚵渲令A(yù)定部位，例如基板和電極層之間的結(jié)構(gòu)。然而，該結(jié)構(gòu)會(huì)提供從外部環(huán)境滲透濕氣或氧氣的路徑，從而成為大幅降低二極體可靠性的原因。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]技術(shù)問(wèn)題
[0009]本發(fā)明提供一種制造用于有機(jī)電子器件的基板或制造有機(jī)電子器件的方法，以及一種有機(jī)電子器件。
[0010]技術(shù)方案
[0011]本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種制造用于有機(jī)電子器件的基板的方法，其可包括處理在基底層上形成的光學(xué)功能層。該光學(xué)功能層可通過(guò)，例如，激光來(lái)處理。通過(guò)激光處理光學(xué)功能層，使其具有比基底層小的投射面積。在此使用的術(shù)語(yǔ)“投射面積”意指當(dāng)從所述基板表面的法線方向的上方觀察該基板時(shí)，可辨識(shí)的目標(biāo)物如基底層、光學(xué)功能層或電極層的投射面積。因此，例如，由于光學(xué)功能層的表面以凹凸形狀形成等原因，在該光學(xué)功能層的實(shí)際表面積大于電極層的情況下，如果從上方辨識(shí)的所述光學(xué)功能層的面積小于從上方辨識(shí)的所述電極層的面積，則應(yīng)被理解為該光學(xué)功能層具有小于該電極層的投射面積。通過(guò)激光可移除至少一部分的光學(xué)功能層，使該光學(xué)功能層具有比該基底層小的投射面積。在一個(gè)實(shí)例中，光學(xué)功能層實(shí)質(zhì)上可在基底層的全部表面上形成。在基底層上形成的光學(xué)功能層例如可通過(guò)上述處理被圖案化(patterning)。
[0012]例如，可使用激光進(jìn)行上述處理。當(dāng)使用激光進(jìn)行處理時(shí)，已處理的光學(xué)功能層的切斷部分并未出現(xiàn)翹起等現(xiàn)象，因此可將之后所形成的電極層的表面電阻維持在一個(gè)合適的水平。此外，當(dāng)提供高度變化被最小化的表面時(shí)，可解決例如該裝置的短路或不良的電氣性連接。
[0013]用于形成光學(xué)功能層的基底層的種類(lèi)并沒(méi)有特別的限制，因此可使用合適的已知的材料。舉例而言，當(dāng)制造底部發(fā)光有機(jī)電子器件時(shí)，例如，可使用針對(duì)可見(jiàn)光線具有50%以上透光率的基底層作為透明基底層?？墒褂貌ＡЩ讓踊蛲该骶酆衔锘讓幼鳛橥该骰讓印？墒褂冒ㄢ}鈉玻璃、含鋇/鍶玻璃、鉛玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、鋇硼娃酸鹽玻璃或石英的基底層作為玻璃基底層，并且可使用包括聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、丙烯酸樹(shù)脂、聚(對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)(poly (ethylene terephthatle), PET)、聚(醚硫醚)(poly(ether sulfide),PES)或聚砜(polysulfone,PS)的基底層作為聚合物基底層，但本發(fā)明不限于此。此外，視需要，該基底層可以是一種具有驅(qū)動(dòng)薄膜電晶體(TFT)的TFT基板。此外，例如，當(dāng)制造頂部發(fā)光裝置時(shí)，該基底層可以不是透明基底層，且視需要可使用反射基底層，該反射基底層在其表面形成有使用鋁等的反射層。
[0014]光學(xué)功能層形成于基底層的頂部，例如，基底層頂部的整個(gè)表面。光學(xué)功能層的一個(gè)實(shí)例可為光散射層。此處使用的術(shù)語(yǔ)“光散射層”意指所形成的任何種類(lèi)的層，使得通過(guò)散射、折射或衍射入射至光散射層的光，可以消除或減少在之后所描述的從電極層的方向入射的光在基底層、光散射層和電極層中的兩層之間的界面中的捕獲。光散射層的具體類(lèi)型沒(méi)有特別限制，只要其具體地具有上述功能即可。
[0015]舉例而言，散射層可為包含散射顆粒的層。圖1示出了包含散射顆粒1021的散射層102形成于基底層101上的方案。圖1所示的散射層102可包含散射顆粒1021和粘合劑 1022。
[0016]術(shù)語(yǔ)“散射顆?！笨芍?，例如，能夠散射入射光的顆粒，這是由于其具有與用于形成散射層的粘合劑或后續(xù)所描述的平整層不同的折射率，以及合適的尺寸。此顆粒可具有1.0至3.5、優(yōu)選約1.0至2.0、1.2至1.8,2.1至3.5、或2.2至3.0的折射率，且具有約50至20，OOOnm或100至5，OOOnm的平均直徑。散射顆粒可具有球型、橢圓型、多角型或不規(guī)則型，但其形狀不特別限于此。散射顆?？砂?，例如，有機(jī)材料(如聚苯乙烯或其衍生物、丙烯酸樹(shù)脂或其衍生物、硅樹(shù)脂或其衍生物、或酚醛清漆樹(shù)脂或其衍生物)、或無(wú)機(jī)材料(如二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦或氧化鋯)。散射顆粒可包含上述材料中的任一種材料、或其至少兩種，視需要，可形成核/殼型顆?；蛑锌招皖w粒。
[0017]散射層可以進(jìn)一步包含維持散射顆粒的粘合劑。粘合劑，作為能夠維持散射顆粒的材料，可使用例如，與其他相鄰材料如基底層具有相同折射率的材料。
[0018]粘合劑可為，例如，在本領(lǐng)域中已知的各種有機(jī)粘合劑、無(wú)機(jī)粘合劑和有機(jī)/無(wú)機(jī)粘合劑中的一種。必要時(shí)，粘合劑可具有約1.4以上，或約1.45以上的折射率?？紤]到待混合顆粒的折射率，粘合劑的折射率上限可選自一個(gè)合適的范圍。考慮到裝置的使用期限，可以使用具有優(yōu)異耐熱性和耐化學(xué)性的無(wú)機(jī)或有機(jī)/無(wú)機(jī)粘合劑，但視需要也可使用有機(jī)粘合劑。粘合劑可以為，例如，熱或光固化的單體有機(jī)材料、低聚有機(jī)材料或聚合物有機(jī)材料如聚酰亞胺、具有芴環(huán)的卡多樹(shù)脂(caldo resin)、氨基甲酸酯、環(huán)氧化物、聚酯或丙烯酸酯、或者無(wú)機(jī)材料(如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或聚硅氧烷)或有機(jī)/無(wú)機(jī)復(fù)合材料。
[0019]舉例而言，可使用聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亞胺作為粘合劑?？赏ㄟ^(guò)聚縮合可縮合的硅烷化合物或硅氧烷低聚物等來(lái)制備聚硅氧烷，粘合劑可形成一種基于硅和氧的鍵(S1-O)的基質(zhì)。在粘合劑的形成過(guò)程中，通過(guò)控制聚縮合條件等，可形成僅基于硅氧烷鍵(S1-O)的聚硅氧烷的粘合劑基質(zhì)，或保留部分有機(jī)官能團(tuán)(如烷基)或可縮合的官能團(tuán)(如烷氧基)的基質(zhì)。
[0020]聚酰胺酸或聚酰亞胺粘合劑可具有相對(duì)于633nm波長(zhǎng)光的約1.5,1.6,1.65或1.7以上的折射率。舉例而言，可使用引入了氟以外的鹵素原子、硫原子或磷原子的單體來(lái)制備此類(lèi)高折射率的聚酰胺酸或聚酰亞胺。舉例而言，可使用具有能夠與顆粒結(jié)合的部位(如羧基)以增強(qiáng)顆粒分散穩(wěn)定性的聚酰胺酸作為粘合劑。舉例而言，可使用包含化學(xué)式I的重復(fù)單元的化合物作為聚酰胺酸。
[0021][化學(xué)式I]
[0022]

【權(quán)利要求】
1.一種制造用于有機(jī)電子器件的基板的方法，其包括:利用激光處理形成在基底層上的光學(xué)功能層，使得所述光學(xué)功能層具有比所述基底層更小的投射面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)功能層為散射層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述散射層為包含散射顆粒的層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述散射層為包含凹凸結(jié)構(gòu)的層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過(guò)濕式涂布、溶膠-凝膠、沉積或微壓印的方法，在所述基底層上形成所述光學(xué)功能層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光學(xué)功能層包含散射層和在所述散射層上形成的平整層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過(guò)向所述光學(xué)功能層和所述基底層照射激光來(lái)進(jìn)行處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過(guò)照射點(diǎn)激光或線束激光來(lái)進(jìn)行處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包含在已處理的所述光學(xué)功能層上形成電極層，所述電極層具有比所述光學(xué)功能層更大的投射面積。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，形成所述電極層，使得所述電極層的投射面積(A)與所述光學(xué)功能層的投射面積(B)的比例(A/B)在1.04以上。
11.一種制造有機(jī)電子器件的方法，其包括:在根據(jù)權(quán)利要求1所形成的基板的光學(xué)功能層上，依序形成包含發(fā)光層的有機(jī)層和第二電極層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，進(jìn)一步包括:在所述基板上形成所述有機(jī)層之前，形成具有比所述光學(xué)功能層更大的投射面積的第一電極層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的方法，其中，形成所述第一電極層，使得所述第一電極層的投射面積(A)與所述光學(xué)功能層的投射面積(B)的比例(A/B)在1.04以上。
14.根據(jù)權(quán)利要求12的方法，進(jìn)一步包含在形成第二電極層之后形成封裝結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中，所述封裝結(jié)構(gòu)形成于所述基底層上，與在下方未形成所述光學(xué)功能層的所述第一電極層相接觸。
【文檔編號(hào)】H05B33/10GK104205406SQ201380015611
【公開(kāi)日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2013年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月23日
【發(fā)明者】金榮銀, 金鐘碩, 文英均, 黃珍夏 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Lg化學(xué)