本發(fā)明屬于貼合設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種貼合設(shè)備UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺。
背景技術(shù):
應(yīng)用于觸控面板生產(chǎn)工藝中所有需要貼覆保護(hù)膜及制程膜等作業(yè)時,通常會使用貼合設(shè)備進(jìn)行貼合。例如LCD、觸控板、ITO導(dǎo)電玻璃、CoverLens、OGS、PMMA等貼膜制程中經(jīng)常使用貼合設(shè)備進(jìn)行貼膜。但目前的貼合設(shè)備在貼合精度上不夠精準(zhǔn),需要加以改進(jìn)。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于解決上述的技術(shù)問題而提供一種貼合設(shè)備UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種貼合設(shè)備UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺,包括支撐板以及底座,所述支撐板與底座之間四角處分別安裝固定有一個XYθ移動組件,還包括有三組滾珠絲桿,所述三組滾珠絲桿與三個所述XYθ移動組件相連接,所述XYθ移動組件自下而上依次包括底板、X向移動板、Y向移動板以及與所述Y向移動板連接的θ軸旋轉(zhuǎn)板,所述的底板與X向移動板以及所述X向移動板與所述X向移動板之間設(shè)有導(dǎo)軌裝置。
所述三組滾珠絲桿中的兩組滾珠絲桿安裝于所述支撐板與所述底座之間,另外一組所述滾珠絲桿安裝于所述支撐板與所述底座的一側(cè)端。
所述支撐板以及底座為矩形狀。
本發(fā)明通過支撐板以及底座,所述支撐板與底座之間四角處分別安裝固定有一個XYθ移動組件,還包括有三組滾珠絲桿,所述三組滾珠絲桿與三個所述XYθ移動組件相連接,所述XYθ移動組件自下而上依 次包括底板、X向移動板、Y向移動板以及與所述Y向移動板連接的θ軸旋轉(zhuǎn)板,所述的底板與X向移動板以及所述X向移動板與所述X向移動板之間設(shè)有導(dǎo)軌裝置,使得該平臺結(jié)構(gòu)緊湊,且定位效果精確,可以適應(yīng)于貼合設(shè)備中定位貼合使用。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實施例提供的UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺的俯視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實施例提供的UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實施例提供的一個XYθ移動組件的俯視示意圖;
圖4為XYθ移動組件的移動方向的俯視示意圖;
圖5所示為XYθ移動組件的移動狀態(tài)下側(cè)視示意圖。
具體實施方式
下面,結(jié)合實例對本發(fā)明的實質(zhì)性特點和優(yōu)勢作進(jìn)一步的說明,但本發(fā)明并不局限于所列的實施例。
請參閱圖1~5,一種貼合設(shè)備UVW旋轉(zhuǎn)定位平臺,包括支撐板1以及底座3,所述支撐板與底座之間四角處分別安裝固定有一個XYθ移動組件2,還包括有三組滾珠絲桿,具體包括第一組滾珠絲桿4、第二組滾珠絲桿5以及第三組滾珠絲桿6,分別連接對應(yīng)的伺服電機(jī),所述三組滾珠絲桿與三個所述的XYθ移動組件2相連接,所述XYθ移動組件2自下而上依次包括底板21、X向移動板22、Y向移動板23以及與所述Y向移動板連接的θ軸旋轉(zhuǎn)板24,所述的底板與X向移動板以及所述X向移動板與所述X向移動板之間設(shè)有導(dǎo)軌裝置25。
所述三組滾珠絲桿中的兩組滾珠絲桿安裝于所述支撐板與所述底座之間,另外一組所述滾珠絲桿安裝于所述支撐板與所述底座的一側(cè)端。
所述貼合設(shè)備旋轉(zhuǎn)定位平臺通過包括4組XYθ移動組件和3組滾珠絲杠,并采用伺服控制,U、V、W三軸能夠完成精確角度糾偏。任何需要糾偏的機(jī)構(gòu),都可以使用旋轉(zhuǎn)定位平臺。
所述的XYθ移動組件,結(jié)構(gòu)緊湊,移動自如,同時完成X、Y、θ三軸 運動,可以承受較大的載荷。
所述支撐板以及底座為矩形狀。
本發(fā)明通過支撐板以及底座,所述支撐板與底座之間四角處分別安裝固定有一個XYθ移動組件,還包括有三組滾珠絲桿,所述三組滾珠絲桿與三個所述XYθ移動組件相連接,所述XYθ移動組件自下而上依次包括底板、X向移動板、Y向移動板以及與所述Y向移動板連接的θ軸旋轉(zhuǎn)板,所述的底板與X向移動板以及所述X向移動板與所述X向移動板之間設(shè)有導(dǎo)軌裝置,使得該平臺結(jié)構(gòu)緊湊,且定位效果精確,可以適應(yīng)于貼合設(shè)備中定位貼合使用。
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。