本發(fā)明涉及射擊裝備領域，特別是一種滾動式射擊靶箱。

背景技術：
射擊是奧林匹克競賽中的一個項目，深受眾多觀眾的喜愛，但是目前市面上沒有可供人們練習射擊的射擊靶箱，一般的只是打氣球游戲，即在一大木板上掛有許多小氣球，玩的人站在幾米外用玩具槍瞄準后發(fā)射玩具子彈將氣球擊破，雖然這具有一定的趣味性，可提高人們對射擊運動的喜愛，這樣的射擊形式需要不斷更換氣球，無法連續(xù)使用，影響大家運動的興致。

技術實現(xiàn)要素：
針對上述缺陷，本發(fā)明的目的在于提出一種滾動式射擊靶箱，該靶箱中始終有靶片處于可射擊狀態(tài)，可進行連續(xù)射擊。為達此目的，本發(fā)明采用以下技術方案：一種滾動式射擊靶箱，包括靶箱；所述靶箱內(nèi)設有轉(zhuǎn)軸、靶片、轉(zhuǎn)動座、轉(zhuǎn)動磁體、斥力磁體和吸引件，所述靶箱的前側面設有能露出所述靶片的射擊面的射擊孔；所述轉(zhuǎn)動座為兩個，分別通過其底端面相對固定在所述靶箱的左右內(nèi)側面上，所述轉(zhuǎn)動座由圓柱狀的中空腔體和外環(huán)座組成，所述轉(zhuǎn)動座相對的內(nèi)端面分別向靠近各自底端面的方向凹陷形成兩所述中空腔體，所述轉(zhuǎn)軸的兩端分別可轉(zhuǎn)動地設置在兩所述中空腔體內(nèi)；在所述轉(zhuǎn)軸的軸線所在的直線上，兩所述中空腔體上最左端與最右端之間的距離大于所述轉(zhuǎn)軸的長度；若干所述靶片沿垂直于所述轉(zhuǎn)軸的軸線方向呈輻射狀固定在所述轉(zhuǎn)軸，且任意相鄰靶片的射擊面所在平面之間的夾角度數(shù)相等，均為α；所述轉(zhuǎn)動磁體固定在所述轉(zhuǎn)軸的一端，與該端轉(zhuǎn)軸配合設置的所述轉(zhuǎn)動座上，若干所述斥力磁體和吸引件固定在所述外環(huán)座；若干的所述斥力磁體和吸引件環(huán)繞所述中空腔體布設，且在所述中空腔體的任意徑向截面上，任意相鄰吸引件的截面中心分別與中空腔體的軸心連線后，兩連線之間夾角的度數(shù)均為α，相鄰所述吸引件之間均設有所述斥力磁體；所述轉(zhuǎn)動磁體與至少一個所述靶片的射擊面共面，至少有一個所述吸引件位于所述中空腔體的豎直徑向上，所述靶片的射擊面轉(zhuǎn)動至豎直方向且可從所述射擊孔觀察到時，所述射擊面所在平面與所述位于中空腔體豎直徑向上的吸引件共面。進一步的，在所述中空腔體的任意徑向截面上，任意相鄰斥力磁體和吸引件的截面中心分別與中空腔體的軸心連線后，兩連線之間夾角的度數(shù)等于α一半。進一步的，所述吸引件為鐵芯。進一步的，所述斥力磁體和吸引件分別為條狀件，且所述斥力磁體和吸引件的至少有一端面外露于所述外環(huán)座的內(nèi)端面；在所述轉(zhuǎn)軸靠近其端部的位置設有凸塊，所述轉(zhuǎn)軸兩端均設有凸塊，且兩所述凸塊之間的最遠距離小于兩所述外環(huán)座之間的最近距離；所述凸塊的外側壁與所述轉(zhuǎn)軸軸線之間的最短距離大于所述中空腔體的內(nèi)半徑，所述轉(zhuǎn)動磁體固定在所述凸塊，所述轉(zhuǎn)動磁體的至少一個端面外露于所述凸塊的側面，而該側面為所述凸塊相對于所述外環(huán)座內(nèi)端面的一個側面。進一步的，所述斥力磁體和吸引件均沿所述中空腔體的軸線方向內(nèi)藏于所述外環(huán)座的內(nèi)部。進一步的，兩所述凸塊對稱設置在所述轉(zhuǎn)軸上，兩所述轉(zhuǎn)動磁體分別設置在所述凸塊內(nèi)，且兩所述轉(zhuǎn)動磁體的對稱中心落在所述轉(zhuǎn)軸的軸線上。進一步的，兩個及以上的偶數(shù)個靶片組成徑向靶片組，在所述徑向靶片組中，各所述靶片呈放射狀均勻分布在所述轉(zhuǎn)軸的同一徑向截面上，一組以上所述徑向靶片組沿所述轉(zhuǎn)軸的軸線方向等距離排布在所述轉(zhuǎn)軸上。進一步的，所述轉(zhuǎn)軸由若干連接桿拼接而成；所述連接桿為中空桿件，其端部為由凹部和凸部相間組成的城墻狀結構，所述凸部能卡合進入所述凹部內(nèi)。進一步的，沿垂直于所述連接桿的軸線方向設有可拆卸固定靶片的固定桿，兩所述固定桿以所述連接桿的軸線為對稱軸設置在其上。進一步的，所述靶箱中，其上側面的寬度小于下側面的寬度；所述射擊孔所在平面向下傾斜。本發(fā)明的有益效果在于實現(xiàn)持續(xù)射擊，使用方便；將轉(zhuǎn)軸、靶片和定位組件設置在靶箱內(nèi)，射擊產(chǎn)生的殘殼直接落入箱體內(nèi)，便于集中回收；而本實施例中，靶箱為箱體式結構，左右側面、前后側面均不在同一平面上，且左側面與右側面之間為相互平行的關系，左、右側面與前、后側面之間為相互垂直的關系。附圖說明圖1是本發(fā)明的一個實施例的整體結構圖；圖2是本發(fā)明中靶片處于待設計狀態(tài)的結構示意圖；圖3是本發(fā)明中轉(zhuǎn)軸(連接桿)與轉(zhuǎn)動座的安裝示意圖；圖4是本發(fā)明中轉(zhuǎn)動座與轉(zhuǎn)軸安裝位置的一個實施例的側視圖；圖5是本發(fā)明中轉(zhuǎn)軸的一個實施例的側視圖；圖6是本發(fā)明中兩連接桿的拼接示意圖。其中：靶箱1，射擊孔11；轉(zhuǎn)軸2，連接桿21，凹部210，凸部211，固定桿212；靶片3；轉(zhuǎn)動座4，中空腔體41，外環(huán)座42，底端面401，內(nèi)端面402；轉(zhuǎn)動磁體5，斥力磁體6，吸引件7，凸塊8。具體實施方式下面結合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本發(fā)明的技術方案。一種滾動式射擊靶箱，包括靶箱1；所述靶箱1內(nèi)設有轉(zhuǎn)軸2、靶片3、轉(zhuǎn)動座4、轉(zhuǎn)動磁體5、斥力磁體6和吸引件7，所述靶箱1的前側面設有能露出所述靶片3的射擊面的射擊孔11；所述轉(zhuǎn)動座4為兩個，分別通過其底端面401相對固定在所述靶箱1的左右內(nèi)側面上，所述轉(zhuǎn)動座4由圓柱狀的中空腔體41和外環(huán)座42組成，所述轉(zhuǎn)動座4相對的內(nèi)端面402分別向靠近各自底端面401的方向凹陷形成兩所述中空腔體41，所述轉(zhuǎn)軸2的兩端分別可轉(zhuǎn)動地設置在兩所述中空腔體41內(nèi)；在所述轉(zhuǎn)軸2的軸線所在的直線上，兩所述中空腔體41上最左端與最右端之間的距離大于所述轉(zhuǎn)軸2的長度；若干所述靶片3沿垂直于所述轉(zhuǎn)軸2的軸線方向呈輻射狀固定在所述轉(zhuǎn)軸2，且任意相鄰靶片3的射擊面所在平面之間的夾角度數(shù)相等，均為α；所述轉(zhuǎn)動磁體42固定在所述轉(zhuǎn)軸2的一端，與該端轉(zhuǎn)軸2配合設置的所述轉(zhuǎn)動座6上，若干所述斥力磁體43和吸引件7固定在所述外環(huán)座42；若干的所述斥力磁體6和吸引件7環(huán)繞所述中空腔體41布設，且在所述中空腔體41的任意徑向截面上，任意相鄰吸引件7的截面中心分別與中空腔體41的軸心連線后，兩連線之間夾角的度數(shù)均為α，相鄰所述吸引件7之間均設有所述斥力磁體6；所述轉(zhuǎn)動磁體5與至少一個所述靶片3的射擊面共面，至少有一個所述吸引件7位于所述中空腔體41的豎直徑向上，所述靶片3的射擊面轉(zhuǎn)動至豎直方向且可從所述射擊孔11觀察到時，所述射擊面所在平面與所述位于中空腔體41豎直徑向上的吸引件7共面。如圖1、圖2及圖3所示，所述轉(zhuǎn)動磁體5固定在所述轉(zhuǎn)軸2的一端，所述轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動時，帶著所述轉(zhuǎn)動磁體5依次與所述斥力磁體6和所述吸引件7接觸：本實施例中，所述斥力磁體6和吸引件7分別為條狀件，且所述斥力磁體6和吸引件7的至少有一端面外露于所述外環(huán)座42的內(nèi)側面；在所述轉(zhuǎn)軸2靠近其端部的位置設有凸塊8，所述凸塊8的外側壁與所述轉(zhuǎn)軸2軸線之間的最短距離大于所述中空腔體41的內(nèi)半徑，所述轉(zhuǎn)動磁體5固定在所述凸塊8，所述轉(zhuǎn)動磁體5的至少一個端面外露于所述凸塊8的側面，而該側面為所述凸塊8相對于所述外環(huán)座42內(nèi)端面的一個側面；轉(zhuǎn)軸2的一端插入中空腔體41時，可插入的距離結束與凸塊8的側面處，轉(zhuǎn)動磁體5在此端面上外露的側面，在轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動時，外露的轉(zhuǎn)動磁體5的端面與所述斥力磁體6和吸引件7外露于所述外環(huán)座42內(nèi)端面上的側面依次接觸；相互接觸時，轉(zhuǎn)動磁體5與斥力磁體6之間產(chǎn)生讓彼此脫離接觸的排斥力，在該排斥力的作用下，轉(zhuǎn)軸2整體向遠離斥力磁體6的一側運動一小段距離；轉(zhuǎn)動磁體5與吸引件7之間產(chǎn)生讓彼此相互貼緊的吸引力，在該吸引力的作用下，轉(zhuǎn)軸2整體向靠近吸引件7的一側運動一小段距離后，使得轉(zhuǎn)軸2停止在該位置停止轉(zhuǎn)動。如圖3所示，本實施例中，將所述斥力磁體6和所述吸引件7設置在外環(huán)座42上，與轉(zhuǎn)動磁體5之間僅通過端面接觸，避免了彼此之間的磁力產(chǎn)生過多的磁性作用，給使用和安裝帶來不便；將轉(zhuǎn)動磁體5設置在凸塊8內(nèi)，且轉(zhuǎn)軸2兩端均設有凸塊8，凸塊8的外側壁與所述轉(zhuǎn)軸2軸線之間的最短距離大于所述中空腔體41的內(nèi)半徑，防止了沿軸向運動時，轉(zhuǎn)軸2的兩端從中空腔體41內(nèi)脫出，提高裝置的穩(wěn)定性；與轉(zhuǎn)動磁體5產(chǎn)生相互吸引作用的吸引件7，可以是接觸端極性相反的磁體，也可以是具有軟磁性的鐵芯，而磁體成本較高，故而優(yōu)選方案是鐵芯，降低成本的同時，提高安裝效率，保證其性能的發(fā)揮。所述轉(zhuǎn)動磁體5與至少一個所述靶片3的射擊面共面，至少有一個所述吸引件7位于所述中空腔體41的豎直徑向上，所述靶片3的射擊面轉(zhuǎn)動至豎直方向且可從所述射擊孔11觀察到時，所述射擊面所在平面與所述位于中空腔體41豎直徑向上的吸引件7共面，即所述轉(zhuǎn)軸2上必有一個靶片3始終可從所述射擊孔11觀察到。未射擊之前，靶片3由于旋轉(zhuǎn)磁體42與吸引件7之間的吸引力，定位于其穩(wěn)定位置；通過射擊孔11射擊轉(zhuǎn)軸2上的靶片3，在彈丸向前沖擊力的作用下，靶片3從穩(wěn)定的位置向后方偏轉(zhuǎn)，并帶動轉(zhuǎn)軸2旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)軸2同時帶動所述轉(zhuǎn)動磁體5一起旋轉(zhuǎn)；當轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動α度數(shù)的一半時，所述轉(zhuǎn)動磁體5與所述斥力磁體6接觸，產(chǎn)生排斥力，在此排斥力，在該排斥力的作用下，轉(zhuǎn)軸2整體向遠離斥力磁體6的一側運動一小段距離，則在之前旋轉(zhuǎn)慣性的作用下，所述轉(zhuǎn)軸2繼續(xù)旋轉(zhuǎn)；當轉(zhuǎn)軸2繼續(xù)轉(zhuǎn)動α度數(shù)的一半時，所述轉(zhuǎn)動磁體5與所述吸引件7接觸并產(chǎn)生吸引力，使得轉(zhuǎn)軸2穩(wěn)定,則轉(zhuǎn)軸2由一開始的穩(wěn)定位置到達下一穩(wěn)定位置所轉(zhuǎn)過的角度為α度數(shù)，而在一開始的穩(wěn)定位置時，靶片3的射擊面正對于所述射擊孔11的位置，根據(jù)本技術方案中，各靶片3在轉(zhuǎn)軸2上的排布規(guī)則，轉(zhuǎn)軸2旋轉(zhuǎn)α度數(shù)穩(wěn)定時，與之前被設射擊的靶片3相隔α度數(shù)的靶片3此時正好處于射擊面正對于所述射擊孔11的位置，即可進行下次射擊；被射擊轉(zhuǎn)動后的靶片3自動回復到可射擊的位置，以實現(xiàn)持續(xù)射擊，使用方便。將轉(zhuǎn)軸2、靶片3和定位組件設置在靶箱1內(nèi)，射擊產(chǎn)生的殘殼直接落入箱體內(nèi)，便于集中回收；而本實施例中，靶箱1為箱體式結構，左右側面、前后側面均不在同一平面上，且左側面與右側面之間為相互平行的關系，左、右側面與前、后側面之間為相互垂直的關系。在所述中空腔體61的任意徑向截面上，任意相鄰斥力磁體43和吸引件44的截面中心分別與中空腔體61的軸心連線后，兩連線之間夾角的度數(shù)等于α的一半。從受力平衡的角度，保證了轉(zhuǎn)軸2的穩(wěn)定連續(xù)轉(zhuǎn)動。所述吸引件7為鐵芯。所述斥力磁體6和吸引件7分別為條狀件，且所述斥力磁體6和吸引件7的至少有一端面外露于所述外環(huán)座42的內(nèi)端面；在所述轉(zhuǎn)軸2靠近其端部的位置設有凸塊8，所述轉(zhuǎn)軸2兩端均設有凸塊8，且兩所述凸塊8之間的最遠距離小于兩所述外環(huán)座42之間的最近距離；所述凸塊8的外側壁與所述轉(zhuǎn)軸2軸線之間的最短距離大于所述中空腔體41的內(nèi)半徑，所述轉(zhuǎn)動磁體5固定在所述凸塊8，所述轉(zhuǎn)動磁體5的至少一個端面外露于所述凸塊8的側面，而該側面為所述凸塊8相對于所述外環(huán)座42內(nèi)端面的一個側面。如圖4及圖5所示，所述斥力磁體6和吸引件7的端部外露于所述外環(huán)座42的端面，所述轉(zhuǎn)動磁體5的端部外露于所述凸塊8的端面，其中，斥力磁體6與轉(zhuǎn)動磁體5相對的一端為兩者磁性相同的各自一端，根據(jù)同性相斥的磁性原理，轉(zhuǎn)軸2帶動所述轉(zhuǎn)動磁體5轉(zhuǎn)動時，當轉(zhuǎn)動磁體5外露的端面與斥力磁體6接觸時，兩者同時受到阻礙彼此貼合的排斥力，在該排斥力的作用下，所述轉(zhuǎn)軸2沿遠離該端轉(zhuǎn)動座4的方向運動，轉(zhuǎn)軸2的一端稍微脫離中空腔體41的限制，在轉(zhuǎn)動慣性力的作用下，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)；直到轉(zhuǎn)動磁體5外露的端面與吸引件7的外露的端面接觸后，兩者發(fā)生吸附，轉(zhuǎn)軸2的位置穩(wěn)定，轉(zhuǎn)軸2上的靶片3正對于射擊孔11，以進行射擊。所述斥力磁體6和吸引件7均沿所述中空腔體41的軸線方向內(nèi)藏于所述外環(huán)座42的內(nèi)部。條狀的斥力磁體6和吸引件7內(nèi)藏于中空腔體41，轉(zhuǎn)動磁體5內(nèi)藏于凸塊8內(nèi)，三個主要元件都不外露，避免了三者在使用過程中的磨損，另一方面，三個主要元件的彼此隔離，彼此互補干擾，保證轉(zhuǎn)軸2的穩(wěn)定運轉(zhuǎn)。兩所述凸塊8對稱設置在所述轉(zhuǎn)軸2上，兩所述轉(zhuǎn)動磁體5分別設置在所述凸塊8內(nèi)，且兩所述轉(zhuǎn)動磁體5的對稱中心落在所述轉(zhuǎn)軸2的軸線上。通過兩個所述轉(zhuǎn)動磁體4與處于兩所述斥力磁體6同時產(chǎn)生排斥力，兩個所述吸引件7與兩所述轉(zhuǎn)動磁體5同時產(chǎn)生吸引力，提高轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動和定位時的穩(wěn)定性，促進靶片3及時歸位，使用方便。兩個及以上的偶數(shù)個靶片3組成徑向靶片組，在所述徑向靶片組中，各所述靶片3呈放射狀均勻分布在所述轉(zhuǎn)軸2的同一徑向截面上，一組以上所述徑向靶片組沿所述轉(zhuǎn)軸2的軸線方向等距離排布在所述轉(zhuǎn)軸2上。在轉(zhuǎn)軸2上設置N組徑向靶片組，徑向靶片組中靶片3的數(shù)量為N，相應地，需要同時在轉(zhuǎn)軸2上設置N組斥力磁體6和吸引件7。所述轉(zhuǎn)軸2由若干連接桿21拼接而成；所述連接桿21為中空桿件，其端部為由凹部210和凸部211相間組成的城墻狀結構，所述凸部211能卡合進入所述凹部210內(nèi)。如圖6所示，只需生產(chǎn)同一種規(guī)格的連接桿21，大大地降低了成本；拼接時，將兩個連接桿21能相互卡合的一端相對，再用力將凸部211卡合到凹部210內(nèi)即可，按照具體的長度需求，拼接數(shù)量對應的連接桿21，操作方便。沿垂直于所述連接桿21的軸線方向設有可拆卸固定靶片2的固定桿212，兩所述固定桿212以所述連接桿21的軸線為對稱軸設置在其上。通過固定桿212可拆卸地固定靶片3，方便及時更換射擊游戲過程中，損壞的靶片3，提高裝置主體的可重復利用率。所述靶箱1中，其上側面的寬度小于下側面的寬度；所述射擊孔11所在平面向下傾斜；增大了靶箱1可利用的面積，方便射擊。以上結合具體實施例描述了本發(fā)明的技術原理。這些描述只是為了解釋本發(fā)明的原理，而不能以任何方式解釋為對本發(fā)明保護范圍的限制。基于此處的解釋，本領域的技術人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它具體實施方式，這些方式都將落入本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。