本發(fā)明涉及防污片及其制造方法。

背景技術(shù)：

通常，期望在建筑用窗玻璃、汽車用窗玻璃、車輛、飛機、船舶等的防風(fēng)玻璃、水槽、船底窗、防止海洋生物附著于船底用膜、隔音壁等道路用面板、設(shè)置于浴室等的鏡、玻璃容器、玻璃裝飾品等成型品的表面不附著水滴、污垢等妨礙視野的物質(zhì)。

通過用由防污性物質(zhì)形成的被膜對這樣的成型品的表面進行包覆，或者對這樣的成型品的表面粘貼防污片，可以賦予防水性、防污性。

為了對成型品賦予防水性，已知在成型品的表面形成含有氟樹脂等含氟化合物的層。

例如，在專利文獻1中公開了一種由疊層體包覆玻璃等基材而形成的防水膜包覆物品，所述疊層體具有由無機化合物形成的基底層和包覆該基底層的表面且由含氟化合物形成的防水膜。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-285574號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的課題

但是，專利文獻1所記載的防水膜包覆物品具有由含氟化合物形成的防水膜，因此，從環(huán)境保護的觀點考慮不優(yōu)選。

另外，通常由含氟化合物形成的防水膜存在如下傾向：水滴的滑落加速度小，在水滴附著于防水膜的表面上時，至水滴滑落時需要花費時間。因此，專利文獻1所記載的防水膜包覆物品不適于要求使附著的水滴瞬間滑落的特性的用途。

進而，對具有防水性、防污性的防污片而言，要求待賦予防水性、防污性的層的表面狀態(tài)、固化性良好，也要求層間密合性。

本發(fā)明的目的在于提供一種防污片，其具備表面狀態(tài)和固化性良好的防污層，水滴的滑落加速度大，具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性，且層間密合性也優(yōu)異。

用于解決課題的方案

本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，具有如下所述防污層的防污片可以解決上述課題，從而完成了本發(fā)明，所述防污層是使用以給定的比率含有具有特定結(jié)構(gòu)的2種硅烷類化合物的組合物，且使由該組合物形成的涂膜在氨氣氛圍中干燥、固化而形成的。

即，本發(fā)明提供下述[1]～[13]。

[1]一種防污片，其具有由防污層形成用組合物形成的防污層，所述防污層形成用組合物含有下述式(a)所示的硅烷類化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷類化合物(B)，其中，

相對于(A)成分100摩爾％，所述防污層形成用組合物中的(B)成分的含量為8～90摩爾％，

所述防污層是在氨氣氛圍中使由所述防污層形成用組合物形成的涂膜干燥固化而形成的層。

式(a)：Si(OR¹)_p(X¹)_4-p

[式(a)中，R¹表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X¹表示鹵原子。存在多個R¹、X¹時，該多個R¹、X¹各自互為相同或不同。p表示0～4的整數(shù)。]

式(b)：R²Si(OR³)_q(X²)_3-q

[式(b)中，R²表示未取代或具有取代基的碳原子數(shù)4～14的烷基，R³表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X²表示鹵原子。存在多個R³、X²時，該多個R³、X²各自互為相同或不同。q表示0～3的整數(shù)。]

[2]根據(jù)上述[1]所述的防污片，其中，所述防污層是在氨濃度0.3ppm以上的氣體氛圍中使由所述防污層形成用組合物形成的涂膜干燥固化而形成的層。

[3]根據(jù)上述[1]或[2]所述的防污片，其中，所述防污層形成用組合物中的(A)成分含有所述式(a)中p為4的硅烷類化合物。

[4]根據(jù)上述[1]～[3]中任一項所述的防污片，其中，所述防污層形成用組合物中的(B)成分含有所述式(b)中q為3的硅烷類化合物。

[5]根據(jù)上述[1]～[4]中任一項所述的防污片，其中，所述防污層形成用組合物還含有酸催化劑(C)。

[6]根據(jù)上述[1]～[5]中任一項所述的防污片，其具有基材和所述防污層。

[7]根據(jù)上述[1]～[6]中任一項所述的防污片，其具有在基材上疊層含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層、且在該中間層的表面上疊層所述防污層而成的結(jié)構(gòu)。

[8]根據(jù)上述[1]～[7]中任一項所述的防污片，其中，從所述防污片檢測出的氨濃度為0.3ppm以上。

[9]一種防污片的制造方法，該方法包括下述工序(1)～(3)，

工序(1)：制備防污層形成用組合物的工序，所述防污層形成用組合物含有下述式(a)所示的硅烷類化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷類化合物(B)，且相對于(A)成分100摩爾％，(B)成分的含量為8～90摩爾％，

式(a)：Si(OR¹)_p(X¹)_4-p

[式(a)中，R¹表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X¹表示鹵原子。存在多個R¹、X¹時，該多個R¹、X¹各自互為相同或不同。p表示0～4的整數(shù)。]

式(b)：R²Si(OR³)_q(X²)_3-q

[式(b)中，R²表示未取代或具有取代基的碳原子數(shù)4～14的烷基，R³表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X²表示鹵原子。存在多個R³、X²時，該多個R³、X²可以各自互為相同或不同。q表示0～3的整數(shù)。]

工序(2)：使用工序(1)中制備的所述防污層形成用組合物形成涂膜的工序，

工序(3)：在氨氣氛圍中使工序(2)中形成的涂膜干燥固化，形成防污層的工序。

[10]根據(jù)上述[9]所述的防污片的制造方法，其中，進行工序(3)的氨氣氛圍中的氨濃度為0.3ppm以上。

[11]根據(jù)上述[9]或[10]所述的防污片的制造方法，其中，所述防污層形成用組合物還含有酸催化劑(C)。

[12]根據(jù)上述[11]所述的防污片的制造方法，其中，酸催化劑(C)包含選自鹽酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、溴酸、對甲苯磺酸及三氟乙酸中的1種以上。

[13]根據(jù)上述[11]或[12]所述的防污片的制造方法，其中，所述防污層形成用組合物中的(A)成分、(B)成分和(C)成分的總含量相對于該防污層形成用組合物的總量為50～100質(zhì)量％。

發(fā)明的效果

本發(fā)明的防污片具備表面狀態(tài)和固化性良好的防污層，水滴的滑落加速度大，具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性，且層間密合性也優(yōu)異。

附圖說明

圖1是示出本發(fā)明的防污片的結(jié)構(gòu)的一個例子的具有基材的防污片的剖面圖。

圖2是示出本發(fā)明的防污片的結(jié)構(gòu)的一個例子的不具有基材的防污片的剖面圖。

符號說明

1a、1b、1c、1d、2a、2b、2c、2d 防污片

11 防污層

12 基材

12a 底涂層

13 中間層

14 粘合劑層

15、15’ 剝離材料

具體實施方式

在本說明書的記載中，“數(shù)均分子量(Mn)”是用凝膠滲透色譜(GPC)法測定的換算成標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯的值，具體而言，是基于實施例中記載的方法測定的值。

另外，在本說明書的記載中，例如，“(聚)硅氮烷類化合物”為是指“硅氮烷類化合物”和“聚硅氮烷類化合物”兩者的用語，其它類似用語也同樣。

[防污片的結(jié)構(gòu)]

本發(fā)明的防污片只要是具有防污層的結(jié)構(gòu)即可，沒有特別限制。

圖1及2是示出本發(fā)明的防污片的結(jié)構(gòu)的一個例子的防污片的剖面圖。

作為本發(fā)明的防污片的結(jié)構(gòu)的一個例子，可以列舉圖1(a)～(d)所示的具有基材12的防污片1a、1b、1c、1d。

需要說明的是，從在保存防污片時保護防污層的表面的觀點考慮，在防污片1a、1b、1c、1d所具有的防污層11的露出的表面上可以進一步設(shè)置剝離材料。

圖1(a)所示的防污片1a在基材12上具有防污層11。

需要說明的是，如圖1(b)所示，為了提高基材12與防污層11的密合性，本發(fā)明的防污片可以是使用帶底涂層的基材作為基材，且在基材12與防污層11之間設(shè)置有底涂層12a的防污片1b。

另外，圖1(c)所示的防污片1c具有在基材12上疊層有含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層13、且進一步在該中間層13的表面上疊層有防污層11的結(jié)構(gòu)。通過設(shè)置該中間層13，防污層11的固化性變得更加良好。

需要說明的是，在本發(fā)明的防污片具有中間層的情況下，優(yōu)選如圖1(c)所示的防污片1c、后面敘述的圖2(c)所示的防污片2c那樣，具有直接疊層有中間層13和防污層11的結(jié)構(gòu)的防污片。

而且，圖1(d)所示的防污片1d具有在防污片1a的基材12的與設(shè)有防污層11的面相反側(cè)的表面上設(shè)有粘合劑層14及剝離材料15的結(jié)構(gòu)。

另外，本發(fā)明的防污片可以不具有基材。

作為這樣的不具有基材的防污片的結(jié)構(gòu)的其它例子，可以列舉圖2(a)～(d)所示的不具有基材的防污片2a、2b、2c、2d。

圖2(a)所示的防污片2a具有在剝離材料15上疊層有防污層11的結(jié)構(gòu)，圖2(b)所示的防污片2b具有由2片剝離材料15、15’夾持防污層11的結(jié)構(gòu)。

圖2(c)所示的防污片2c具有在剝離材料15上疊層有含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層13、且進一步在該中間層13的表面上疊層有防污層11的結(jié)構(gòu)。

圖2(d)所示的防污片2d具有在剝離材料15與防污層11之間設(shè)有粘合劑層14的結(jié)構(gòu)。

需要說明的是，從保存時的防污層的保護的觀點考慮，在圖2(c)、(d)所示的防污片2c、2d所具有的防污層11的露出表面上可以進一步設(shè)置剝離材料。

以下，對本發(fā)明的防污片所具有的各層進行說明。

[防污層]

本發(fā)明的防污片所具有的防污層是由含有上述式(a)所示的硅烷類化合物(A)和上述式(b)所示的硅烷類化合物(B)的防污層形成用組合物所形成的層，是在氨氣氛圍中將由該防污層形成用組合物形成的涂膜干燥固化而形成的層。

該防污層形成用組合物優(yōu)選在含有(A)成分及(B)成分的同時也含有酸催化劑(C)，在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，還可以含有(A)～(C)成分以外的其它添加劑。

本發(fā)明的防污片的防污層是由以給定比率含有具有特定結(jié)構(gòu)的(A)成分及(B)成分的防污層形成用組合物形成的層，因此，該防污層固化性優(yōu)異，水滴的滑落加速度大，可制成具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性的防污片。

作為其原因，本發(fā)明人等認為，其主要原因在于在由該防污層形成用組合物形成防污層的過程中進行(A)成分與(B)成分的縮聚反應(yīng)而得到的聚合物的結(jié)構(gòu)。

即，本發(fā)明人等認為，在該聚合物的結(jié)構(gòu)中存在源自(B)成分的單元中的烷基(式(b)中的R²)，由此有助于提高形成的防污層的防水性，但存在源自(B)成分的單元變得密集時，反應(yīng)性降低，防污層的固化性降低的傾向。

基于該想法，本發(fā)明人等認為，通過在源自(B)成分的單元之間導(dǎo)入起到間隔作用的源自(A)成分的單元，制成由控制了源自(B)成分的單元間距離的聚合物形成的防污層，能夠調(diào)整源自(B)成分的單元中的烷基的運動性，可以使防水性和防污層的固化性一起提高，從而完成了本發(fā)明。

因此，本發(fā)明的防污片所具有的防污層需要是使用以給定比率含有具有特定結(jié)構(gòu)的(A)成分及(B)成分的防污層形成用組合物所形成的層。

另外，本發(fā)明的防污片所具有的防污層是在氨氣氛圍中使由上述防污層形成用組合物形成的涂膜干燥固化而形成的層。

可以認為，通過將該涂膜在氨氣氛圍中進行干燥，氨作為(A)成分與(B)成分的縮聚反應(yīng)的催化劑而發(fā)揮作用，結(jié)果是可以使形成的防污層的固化性提高。另一方面，在未檢測出氨的環(huán)境下使該涂膜干燥而形成的防污層的固化性容易變得不充分。

從制成具有固化性優(yōu)異的防污層的防污片的觀點考慮，作為將該涂膜干燥時的氨氣氛圍中的氨濃度，優(yōu)選為0.3ppm以上，更優(yōu)選為0.5ppm以上，進一步優(yōu)選為0.55ppm以上，更進一步優(yōu)選為0.6ppm以上。

另外，該氨濃度的上限值沒有特別限制，從安全性、操作性的觀點考慮，該氨濃度優(yōu)選為50ppm以下，更優(yōu)選為30ppm以下。

需要說明的是，在本發(fā)明中，氨氣氛圍中的氨濃度的值是指通過實施例中記載的方法所測定的值。

作為防污層的厚度，從制成防污性優(yōu)異、水滴的滑落加速度大、且具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性的防污片的觀點考慮，優(yōu)選為0.01～40μm，更優(yōu)選為0.05～25μm，進一步優(yōu)選為0.10～15μm，更進一步優(yōu)選為0.30～5μm。

＜(A)成分：式(a)所示的硅烷類化合物＞

作為防污層的形成材料的防污層形成用組合物，含有下述式(a)所示的硅.物。

式(a)：Si(OR¹)_p(X¹)_4-p

[式(a)中，R¹表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X¹表示鹵原子。存在多個R¹、X¹時，該多個R¹、X¹可以各自互為相同或不同。p表示0～4的整數(shù)。]

作為能夠選作R¹的烷基，可以列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基、新戊基、甲基戊基等。

能夠選作R¹的烷基可以是直鏈及支鏈中的任一種，優(yōu)選為直鏈。

作為能夠選作X¹的鹵原子，可以列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，優(yōu)選氯原子。

需要說明的是，上述式(a)所示的硅烷類化合物可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

另外，作為(A)成分，優(yōu)選含有上述式(a)中p為4的硅烷類化合物。

＜(B)成分：式(b)所示的硅烷類化合物＞

作為防污層的形成材料的防污層形成用組合物在含有(A)成分的硅烷類化合物的同時還含有下述式(b)所示的硅烷類化合物。

式(b)：R²Si(OR³)_q(X²)_3-q

[式(b)中，R²表示未取代或具有取代基的碳原子數(shù)4～14的烷基，R³表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X²表示鹵原子。存在多個R³、X²時，該多個R³、X²可以各自互為相同或不同。q表示0～3的整數(shù)。]

從提高形成的防污層的表面狀態(tài)和固化性的觀點考慮，能夠選作R²的烷基的碳原子數(shù)為4～14，優(yōu)選為5～13，更優(yōu)選為6～12，進一步優(yōu)選為6～10。

需要說明的是，在該碳原子數(shù)中不包括能夠選作R²的烷基所任選具有的取代基的碳原子數(shù)。

在能夠選作R²的烷基的碳原子數(shù)低于4的情況下，在涂布得到的防污層形成用組合物時產(chǎn)生未涂上的部分，由該組合物形成的防污層的表面狀態(tài)變差。

另外，在能夠選作R²的烷基的碳原子數(shù)超過14的情況下，由得到的防污層形成用組合物形成的防污層的固化性變差。另外，存在該烷基的碳原子數(shù)越增加，得到的防污層形成用組合物越容易凝膠化，由該組合物形成的防污層的表面狀態(tài)越降低的傾向。

作為能夠選作R²的烷基，可以列舉例如：正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正戊基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、甲基戊基、戊基己基、丁基戊基、2-乙基己基等。

能夠選作R²的烷基可以是直鏈烷基及支鏈烷基中的任一種，從形成表面狀態(tài)和固化性良好的防污層的觀點考慮，優(yōu)選為直鏈烷基。

能夠選作R²的烷基任選進一步具有取代基。

作為該取代基，可以列舉例如：選自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子中的鹵原子；羥基；硝基；氨基；成環(huán)碳原子數(shù)3～10的環(huán)烷基；成環(huán)碳原子數(shù)6～12的芳基；等。需要說明的是，這些取代基可以進一步被其它取代基所取代。

其中，能夠選作R²的烷基優(yōu)選未取代。

作為能夠選作R³的烷基，可以列舉與上述式(a)中的能夠選作R¹的烷基相同的基團。

另外，作為能夠選作X²的鹵原子，可以列舉與上述式(a)中的能夠選作X¹的鹵原子相同的鹵原子。

需要說明的是，上述式(b)所示的硅烷類化合物可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

另外，作為(B)成分，優(yōu)選含有上述式(b)中q為3的硅烷類化合物。

在本發(fā)明中，在防污層形成用組合物中，相對于(A)成分100摩爾％，(B)成分的含量為8～90摩爾％。

(B)成分的含量低于8摩爾％時，形成的防污層的水滴的滑落加速度小，至水滴滑落時需要花費時間，防水性差。另外，存在涂布得到的防污層形成用組合物時容易產(chǎn)生未涂上的部分，由該組合物形成的防污層的表面狀態(tài)變差的傾向。

另外，(B)成分的含量超過90摩爾％時，由得到的防污層形成用組合物形成的防污層的固化性變差。

從增大水滴的滑落加速度、制成具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性的防污層的觀點、以及使形成的防污層的表面狀態(tài)良好的觀點考慮，在防污層形成用組合物中，相對于(A)成分100摩爾％，(B)成分的含量優(yōu)選為10摩爾％以上，更優(yōu)選為12摩爾％以上，進一步優(yōu)選為16摩爾％以上，更進一步優(yōu)選為20摩爾％以上。

另一方面，從使形成的防污層的固化性提高的觀點考慮，在防污層形成用組合物中，相對于(A)成分100摩爾％，(B)成分的含量優(yōu)選為80摩爾％以下，更優(yōu)選為70摩爾％以下，更優(yōu)選為60摩爾％以下，進一步優(yōu)選為55摩爾％以下，進一步優(yōu)選為50摩爾％以下，更進一步優(yōu)選為45摩爾％以下。

＜(C)成分：酸催化劑＞

從使形成的防污層的固化性提高的觀點考慮，作為防污層的形成材料的防污層形成用組合物優(yōu)選還含有酸催化劑(C)。

通過在防污層形成用組合物中含有酸催化劑(C)，可以促進(A)成分及(B)成分所具有的反應(yīng)性官能團的水解，進行(A)成分與(B)成分的縮聚反應(yīng)，形成固化性優(yōu)異的防污層。

作為酸催化劑(C)，只要是具有促進(A)成分及(B)成分所具有的反應(yīng)性官能團水解的作用的成分即可，沒有特別限制，從形成固化性優(yōu)異的防污層的觀點考慮，優(yōu)選含有選自鹽酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、溴酸、對甲苯磺酸及三氟乙酸中的1種以上，更優(yōu)選含有鹽酸。

從使形成的防污層的固化性提高的觀點考慮，防污層形成用組合物中，相對于(A)成分及(B)成分的總計100摩爾％，(C)成分的含量優(yōu)選為0.001～1.000摩爾％，更優(yōu)選為0.005～0.500摩爾％，進一步優(yōu)選為0.010～0.100摩爾％，更進一步優(yōu)選為0.020～0.070摩爾％。

＜其它添加劑＞

在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，防污層形成用組合物中除了上述(A)～(C)成分以外還可以含有其它添加劑。

作為其它添加劑，可以列舉例如：樹脂成分、固化劑、防老劑、光穩(wěn)定劑、阻燃劑、導(dǎo)電劑、防靜電劑、增塑劑等。

需要說明的是，相對于該防污層形成用組合物的總量(100質(zhì)量％)，該防污層形成用組合物中的(A)成分、(B)成分和(C)成分的總含量優(yōu)選為50～100質(zhì)量％，更優(yōu)選為65～100質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為80～100質(zhì)量％，更進一步優(yōu)選為90～100質(zhì)量％。

另外，從環(huán)境方面的觀點考慮，相對于防污層形成用組合物的總量(100質(zhì)量％)，該防污層形成用組合物中的含氟化合物的含量優(yōu)選低于10質(zhì)量％，更優(yōu)選低于5質(zhì)量％，進一步優(yōu)選低于1質(zhì)量％，更進一步優(yōu)選低于0.01質(zhì)量％。

[基材]

作為本發(fā)明中使用的基材，可以列舉例如：紙基材、樹脂膜或片、用樹脂對紙基材進行層壓而得到的基材等，可以根據(jù)防污片的用途而適當(dāng)選擇。

作為構(gòu)成紙基材的紙可以列舉例如：薄頁紙、中級紙、全化漿紙、浸漬紙、涂料紙、銅版紙、硫酸紙、玻璃紙等。

作為構(gòu)成樹脂膜或片的樹脂，可以列舉例如：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物等乙烯類樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯類樹脂；聚苯乙烯；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物；三乙酸纖維素；聚碳酸酯；聚氨酯、丙烯酸改性聚氨酯等聚氨酯樹脂等。

作為用樹脂對紙基材進行層壓而得到的基材，可以舉出用聚乙烯等熱塑性樹脂對上述紙基材進行層壓而得到的層壓紙等。

在這些基材當(dāng)中，優(yōu)選樹脂膜或片，更優(yōu)選由聚酯類樹脂形成的膜或片，進一步優(yōu)選由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)形成的膜或片。

另外，作為本發(fā)明中使用的基材，從提高與中間層的密合性的觀點考慮，優(yōu)選使用在選自上述紙基材、樹脂膜或片、以及用樹脂對紙基材進行層壓而得到的基材等的基材表面上設(shè)有底涂層的帶底涂層的基材。

作為構(gòu)成底涂層的成分，可以列舉例如：聚酯類樹脂、聚氨酯類樹脂、聚酯聚氨酯類樹脂、丙烯酸類樹脂等。需要說明的是，這些成分可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

基材的厚度可以根據(jù)防污片的用途而適當(dāng)設(shè)定，從操作性及經(jīng)濟性的觀點考慮，優(yōu)選為10～250μm，更優(yōu)選為15～200μm，進一步優(yōu)選為20～150μm。

需要說明的是，在使用帶底涂層的基材作為基材時，上述范圍表示包括底涂層厚度在內(nèi)的帶底涂層的基材的總厚度范圍。

另外，基材可以進一步含有紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、抗氧劑、防靜電劑、爽滑劑、防粘連劑、著色劑等。

[剝離材料]

作為本發(fā)明中使用的剝離材料，可使用進行了兩面剝離處理的剝離片、進行了一面剝離處理的剝離片等，可以舉出在剝離材料用的基材上涂布剝離劑而制成的剝離材料等。

作為剝離材料用的基材，可以列舉例如：能作為本發(fā)明的防污片所具有的基材使用的紙基材、樹脂膜或片、用樹脂對紙基材進行層壓而得到的基材等。

作為剝離劑，可以列舉例如：聚硅氧烷類樹脂、烯烴類樹脂、異戊二烯類樹脂、丁二烯類樹脂等橡膠類彈性體、長鏈烷基類樹脂、醇酸類樹脂、含氟類樹脂等。

剝離材料的厚度沒有特別限制，優(yōu)選為10～200μm，更優(yōu)選為25～150μm。

[中間層]

本發(fā)明的防污片優(yōu)選進一步具有含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層，更優(yōu)選具有在該中間層的表面上直接疊層上述防污層而成的結(jié)構(gòu)。

該中間層中含有的(聚)硅氮烷類化合物具有如下性質(zhì)：與大氣中的水分反應(yīng)，進行脫氨反應(yīng)，一邊產(chǎn)生氨氣，一邊形成含有SiO₂的玻璃狀被膜。因此，在形成了含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層之后，由該中間層持續(xù)地產(chǎn)生氨。

因此可以認為，通過在該中間層的表面上直接疊層上述防污層，處于將氨持續(xù)供給至防污層的狀態(tài)，如上所述，防污層的固化性進一步提高。另外，也可以認為，防污層中的2種硅烷類化合物聚合而成的聚合物容易與中間層中的(聚)硅氮烷類化合物鍵合，通過兩化合物進行鍵合，可提高防污層與中間層的層間密合性。

需要說明的是，上述防污層優(yōu)選為在該中間層的表面上使由上述防污層形成用組合物形成的涂膜干燥固化而形成的層。

可以認為，如上所述，由于從該中間層放出氨而處于調(diào)整為“氨氣氛圍中”的環(huán)境的狀態(tài)，通過在該狀態(tài)下使上述涂膜的固化進行，可以形成固化性優(yōu)異的防污層。

本發(fā)明的防污片所具有的中間層為含有(聚)硅氮烷類化合物的層，但在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，還可以含有其它添加劑。

作為中間層的厚度，優(yōu)選為0.02～500μm，更優(yōu)選為0.05～100μm，進一步優(yōu)選為0.1～25μm，更進一步優(yōu)選為0.3～15μm。

如果中間層的厚度為0.02μm以上，則可以使形成于中間層上的防污層的固化性提高。另外，也可以使中間層與防污層的層間密合性良好。

另一方面，如果中間層的厚度為500μm以下，則即使使防污片彎曲，也能夠抑制中間層的斷裂，可以制成柔性的防污片。另外，可以抑制由與防污層的折射率差所引起的辨識性的降低。

＜(聚)硅氮烷類化合物＞

作為(聚)硅氮烷類化合物，只要是具有硅-氮鍵的化合物即可，沒有特別限制，優(yōu)選具有下述式(1)所示的重復(fù)單元的化合物。

需要說明的是，該化合物可以為具有含有下述通式(1)所示的重復(fù)單元的鏈狀結(jié)構(gòu)的鏈狀化合物，也可以為具有含有下述通式(1)所示的重復(fù)單元的環(huán)狀結(jié)構(gòu)的環(huán)狀化合物。

[化學(xué)式1]

[式(1)中，R^A、R^B及R^C各自獨立地表示氫原子、烷基、環(huán)烷基、烯基、芳基或烷基甲硅烷基。需要說明的是，烷基、環(huán)烷基、烯基、芳基及烷基甲硅烷基任選進一步具有取代基。]

作為能夠選作為R^A、R^B及R^C的烷基，可以列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基等。

在這些烷基當(dāng)中，優(yōu)選碳原子數(shù)1～10的烷基，更優(yōu)選碳原子數(shù)1～6的烷基，進一步優(yōu)選碳原子數(shù)1～3的烷基。

作為能夠選作R^A、R^B及R^C的環(huán)烷基，可以列舉例如：環(huán)戊基、環(huán)己基、甲基環(huán)己基等。

在這些環(huán)烷基當(dāng)中，優(yōu)選成環(huán)碳原子數(shù)3～12的環(huán)烷基，更優(yōu)選成環(huán)碳原子數(shù)6～10的環(huán)烷基。

作為能夠選作R^A、R^B及R^C的烯基，可以列舉例如：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等。

在這些烯基當(dāng)中，優(yōu)選碳原子數(shù)2～10的烯基，更優(yōu)選碳原子數(shù)2～5的烯基。

作為能夠選作R^A、R^B及R^C的芳基，可以列舉例如：苯基、聯(lián)苯基、三苯基、萘基、蒽基等。

在這些芳基當(dāng)中，優(yōu)選碳原子數(shù)6～12的芳基，更優(yōu)選苯基。

作為能夠選作R^A、R^B及R^C的烷基甲硅烷基，可以列舉例如：三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三正丙基甲硅烷基、三異丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、乙基甲硅烷基等。

在這些烷基甲硅烷基當(dāng)中，優(yōu)選碳原子數(shù)1～10的烷基甲硅烷基，更優(yōu)選碳原子數(shù)1～6的烷基甲硅烷基，進一步優(yōu)選碳原子數(shù)1～3的烷基甲硅烷基。

能夠選作R^A、R^B及R^C的烷基、環(huán)烷基、烯基、芳基及烷基甲硅烷基任選進一步具有取代基。

作為該取代基，可以列舉例如：選自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子中的鹵原子；羥基；硝基；氨基；氰基；硫醇基；環(huán)氧基；環(huán)氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；碳原子數(shù)1～6(優(yōu)選碳原子數(shù)1～3)的烷基；成環(huán)碳原子數(shù)3～12(優(yōu)選成環(huán)碳原子數(shù)6～10)的環(huán)烷基；成環(huán)碳原子數(shù)6～12的芳基；成環(huán)原子數(shù)6～12的雜芳基；碳原子數(shù)1～6(優(yōu)選碳原子數(shù)1～3)的烷氧基；成環(huán)碳原子數(shù)6～12的芳氧基等。需要說明的是，這些取代基可以進一步被其它取代基所取代。

其中，能夠選作R^A、R^B及R^C的烷基、環(huán)烷基、烯基、芳基及烷基甲硅烷基優(yōu)選未取代。

作為具有上述通式(1)所示的重復(fù)單元的化合物，可以是由硅原子、氮原子及氫原子構(gòu)成的無機(聚)硅氮烷類化合物，也可以是在包含硅原子、氮原子及氫原子的同時還包含碳原子的有機(聚)硅氮烷類化合物。

作為無機(聚)硅氮烷類化合物，可以舉出例如以下(i)～(iii)的化合物。

(i)具有上述通式(1)中的R^A、R^B及R^C全部為氫原子的重復(fù)單元的化合物(可以舉出例如日本特公昭63-16325號公報中記載的化合物等)。

(ii)具有下述通式(2)所示的重復(fù)單元的化合物。

[化學(xué)式2]

[式(2)中、a、b各自獨立地為1以上的整數(shù)。Y¹表示氫原子或下述通式(2a)所示的基團。]

[化學(xué)式3]

[式(2a)中，c為1以上的整數(shù)。*表示鍵合位置，Y²表示氫原子或上述式(2a)所示的基團。]

(iii)具有下述式(3)所示的結(jié)構(gòu)的化合物。

[化學(xué)式4]

作為有機(聚)硅氮烷類化合物，可以舉出例如以下(iv)～(viii)的化合物。

(iv)具有上述通式(1)所示的重復(fù)單元的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的化合物(聚合度優(yōu)選為3～5)，且上述通式(1)中的R^A為氫原子以外的上述基團、R^B和R^C為氫原子。

(v)具有上述通式(1)所示的重復(fù)單元的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的化合物(聚合度優(yōu)選為3～5)，且上述通式(1)中的R^A和R^C為氫原子以外的上述基團、R^B為氫原子。

(vi)具有上述通式(1)所示的重復(fù)單元的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的化合物(聚合度優(yōu)選為3～5)，且上述通式(1)中的R^A和R^B為氫原子以外的上述基團、R^C為氫原子。

(vii)具有下述通式(4)所示的結(jié)構(gòu)的化合物。

[化學(xué)式5]

[式(4)中，R為碳原子數(shù)1～6的烷基，優(yōu)選為甲基。]

(viii)具有下述通式(5)所示的重復(fù)單元的化合物。

[化學(xué)式6]

[式(5)中，R^A、R^B與上述通式(1)中的R^A、R^B相同。d、e各自獨立地為1以上的整數(shù)。Y³表示氫原子或下述通式(5a)所示的基團。]

[化學(xué)式7]

[式(5a)中，f為1以上的整數(shù)。*表示鍵合位置，Y⁴表示氫原子或上述通式(5a)所示的基團。]

作為具有上述通式(1)所示的重復(fù)單元的化合物以外的(聚)硅氮烷類化合物，可以列舉例如：1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷、1,3-二(氯甲基)四甲基二硅氮烷、1,3-二(3,3,3-三氟丙基)-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷、1,3-二苯基四甲基二硅氮烷、1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷、1,1,3,3-四甲基二硅氮烷等。

另外，作為本發(fā)明中使用的(聚)硅氮烷類化合物，也可以使用聚硅氮烷改性物。

在這些(聚)硅氮烷類化合物當(dāng)中，優(yōu)選無機(聚)硅氮烷類化合物，更優(yōu)選具有上述通式(1)中的R^A～R^C全部為氫原子的重復(fù)單元的無機(聚)硅氮烷類化合物。

需要說明的是，本發(fā)明中使用的(聚)硅氮烷類化合物還可以直接使用作為玻璃涂層材料等而銷售的市售品。

另外，(聚)硅氮烷類化合物可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

(聚)硅氮烷類化合物的數(shù)均分子量(Mn)優(yōu)選為100～50000，更優(yōu)選為300～10000，進一步優(yōu)選為500～5000。

＜其它添加劑＞

在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，中間層中可以在含有上述(聚)硅氮烷類化合物的同時還含有其它添加劑。

作為其它添加劑，可以列舉例如：不屬于(聚)硅氮烷類化合物的樹脂成分、固化劑、防老劑、光穩(wěn)定劑、阻燃劑、導(dǎo)電劑等。

作為該樹脂成分，可以舉出不屬于上述(聚)硅氮烷類化合物的數(shù)均分子量為1000以上的聚合物，作為該聚合物，可以列舉例如：丙烯酸類樹脂、聚氨酯類樹脂、聚酯類樹脂、聚硅氧烷類樹脂、橡膠類樹脂等。

需要說明的是，作為該樹脂成分，也包括聚合性化合物通過熱、能量照射進行聚合而形成的聚合物。

作為該聚合性化合物，可以舉出具有(甲基)丙烯?；幕衔?，具體而言，可以舉出具有通過紫外線、電子束等能量線照射而進行聚合反應(yīng)的性質(zhì)的(甲基)丙烯酸酯類化合物等。

作為該(甲基)丙烯酸酯類化合物，可以列舉例如：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。

從使防污層的固化性提高的觀點、以及使中間層與防污層的層間密合性提高的觀點考慮，相對于中間層的總量(100質(zhì)量％)，中間層中的(聚)硅氮烷類化合物的含量優(yōu)選為5～100質(zhì)量％，更優(yōu)選為10～100質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為50～100質(zhì)量％。

需要說明的是，在(聚)硅氮烷類化合物為中間層中的主成分的情況下，從上述觀點考慮，相對于中間層的總量(100質(zhì)量％)，中間層中的(聚)硅氮烷類化合物的含量優(yōu)選為50～100質(zhì)量％，更優(yōu)選為65～100質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為80～100質(zhì)量％，更進一步優(yōu)選為90～100質(zhì)量％。

另外，在不屬于(聚)硅氮烷類化合物樹脂成分為中間層中的主成分的情況下，中間層中的(聚)硅氮烷類化合物的含量優(yōu)選為5～50質(zhì)量％，更優(yōu)選為5～45質(zhì)量％。

另外，從環(huán)境方面的觀點考慮，相對于中間層的總質(zhì)量(100質(zhì)量％)，中間層中的含氟化合物的含量優(yōu)選低于10質(zhì)量％，更優(yōu)選低于5質(zhì)量％，進一步優(yōu)選低于1質(zhì)量％，更進一步優(yōu)選低于0.01質(zhì)量％。

[粘合劑層]

作為構(gòu)成粘合劑層的粘合劑，可以列舉例如：丙烯酸類粘合劑、聚氨酯類粘合劑、聚硅氧烷類粘合劑、橡膠類粘合劑、聚酯類粘合劑、紫外線固化型粘合劑等，可以根據(jù)防污片的用途而適當(dāng)選擇。

需要說明的是，這些粘合劑可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

粘合劑層的厚度沒有特別限制，優(yōu)選為1～100μm，更優(yōu)選為5～80μm。

[防污片的物性]

本發(fā)明的防污片具備表面狀態(tài)和固化性良好的防污層，水滴的滑落加速度大，具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性，且層間密合性也優(yōu)異。

作為在本發(fā)明的防污片的防污層表面滴加水滴時該水滴的滑落加速度，優(yōu)選為180mm/秒²以上，更優(yōu)選為190mm/秒²以上，進一步優(yōu)選為230mm/秒²以上，更進一步優(yōu)選為450mm/秒²以上。

需要說明的是，該水滴的滑落加速度的值是指通過實施例中記載的方法計算出的值。

需要說明的是，如上所述，本發(fā)明的防污片所具有的防污層是在氨氣氛圍中干燥固化而形成的層。因此，通?？捎杀景l(fā)明的防污片檢測出氨。

作為由本發(fā)明的剛剛制作后的防污片檢測出的氨濃度，通常為0.3ppm以上。但是，由于長期間的保存，氨從防污片中放出，有時該氨濃度低于0.3ppm。

[防污片的制造方法]

作為本發(fā)明的防污片的制造方法，具有下述工序(1)～(3)。

工序(1)：制備防污層形成用組合物的工序，所述防污層形成用組合物相對于下述式(a)所示的硅烷類化合物(A)100摩爾％含有下述式(b)所示的硅烷類化合物(B)8～90摩爾％

式(a)：Si(OR¹)_p(X¹)_4-p

[式(a)中，R¹表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X¹表示鹵原子。存在多個R¹、X¹時，該多個R¹、X¹可以各自互為相同或不同。p表示0～4的整數(shù)。]

式(b)：R²Si(OR³)_q(X²)_3-q

[式(b)中，R²表示未取代或具有取代基的碳原子數(shù)4～14的烷基，R³表示碳原子數(shù)1～6的烷基，X²表示鹵原子。存在多個R³、X²時，該多個R³、X²可以各自互為相同或不同。q表示0～3的整數(shù)。]

工序(2)：使用工序(1)中制備的上述防污層形成用組合物形成涂膜的工序

工序(3)：在氨氣氛圍中使工序(2)中形成的涂膜干燥固化，形成防污層的工序

＜工序(1)＞

工序(1)是制備防污層形成用組合物的工序。

該防污層形成用組合物含有上述式(a)所示的硅烷類化合物(A)和上述式(b)所示的硅烷類化合物(B)，優(yōu)選進一步含有酸催化劑(C)，在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，還可以含有(A)～(C)成分以外的其它添加劑。

關(guān)于與上述式(a)及(b)相關(guān)的事項、以及防污層形成用組合物中含有的各成分的具體例子、優(yōu)選化合物、各成分的含量等，如上述防污層項的記載所述。

需要說明的是，在下一工序的工序(2)中，為了容易地進行涂膜的形成，優(yōu)選在防污層形成用組合物中加入溶劑而制成溶液的形態(tài)。

作為該溶劑，可以列舉例如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、丁醇等碳原子數(shù)1～4的醇；乙酸乙酯；甲乙酮；甲基異丁基酮；甲苯；二甲苯；等。需要說明的是，這些溶劑可以單獨使用，或者組合2種以上使用。

＜工序(2)＞

工序(2)是使用工序(1)中制備的上述防污層形成用組合物形成涂膜的工序。

該涂膜不僅可以形成于基材上或剝離材料的經(jīng)過剝離處理的面上，而且還可以形成于中間層上，所述中間層含有設(shè)置于基材上或剝離材料上的(聚)硅氮烷類化合物。

中間層優(yōu)選通過如下方法形成：在含有(聚)硅氮烷類化合物、并含有根據(jù)需要使用的其它添加劑的中間層形成用組合物中加入溶劑，制成溶液的形態(tài)，用公知的涂布方法將該溶液涂布于基材上或剝離材料的經(jīng)過剝離處理的面上而形成涂膜，使該涂膜干燥而形成。

作為加入中間層形成用組合物的溶劑，可以列舉例如：二丁醚、甲乙酮、甲基異丁基酮、乙酸乙酯、環(huán)戊基甲醚、甲苯、乙醚、礦物油精等。

作為使用了上述防污層形成用組合物的涂膜的形成方法，沒有特別限制，可以舉出例如，用公知的涂布方法將上述防污層形成用組合物的溶液涂布于基材上、剝離材料的經(jīng)過剝離處理的面上或中間層上的方法。

作為該涂布方法，可以列舉例如：旋涂法、噴涂法、棒涂法、刮刀涂布法、輥刀涂布法、輥涂法、刮板涂布法、模涂法、凹版涂布法等。

需要說明的是，該涂布方法也可以在使用上述中間層形成層組合物形成涂膜時應(yīng)用。

需要說明的是，本工序(2)中的操作可以在氨氣氛圍中進行，也可以在未檢測出氨的環(huán)境下進行。

需要說明的是，在含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層上形成上述涂膜的情況下，如上所述，為了從中間層持續(xù)地產(chǎn)生氨，在氨氣氛圍中進行本工序。

＜工序(3)＞

工序(3)是在氨氣氛圍中使工序(2)中形成的涂膜干燥固化而形成防污層的工序。

可以認為，通過將該涂膜在氨氣氛圍中干燥，氨作為(A)成分與(B)成分的縮聚反應(yīng)的催化劑而發(fā)揮作用，結(jié)果是可以提高形成的防污層的固化性。另一方面，在未檢測出氨的環(huán)境下，使該涂膜干燥時，得到的防污層的固化性容易變得不充分。

從高效地制造具有固化性優(yōu)異的防污層的防污片的觀點考慮，作為進行本工序(3)的氨氣氛圍中的氨濃度，優(yōu)選為0.3ppm以上，更優(yōu)選為0.5ppm以上，進一步優(yōu)選為0.55ppm以上，更進一步優(yōu)選為0.6ppm以上。

另外，該氨濃度的上限值沒有特別限制，從安全性、操作性的觀點考慮，該氨濃度優(yōu)選為50ppm以下，更優(yōu)選為30ppm以下。

另外，在本工序中，作為上述氨濃度的氨氣氛圍中的調(diào)整方法，沒有特別限制，可以舉出例如，在干燥爐內(nèi)導(dǎo)入給定量的氨來進行調(diào)整的方法等。

需要說明的是，在含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層上形成上述涂膜的情況下，如上所述，從中間層持續(xù)地產(chǎn)生氨，因此不需要在上述那樣的導(dǎo)入了氨的干燥爐內(nèi)進行干燥。

其中，剛剛形成后的中間層產(chǎn)生較多氨，但隨時間流逝產(chǎn)生的氨的量減少。因此，該中間層優(yōu)選為形成后60天以內(nèi)的中間層，更優(yōu)選為形成后30天以內(nèi)的中間層，進一步優(yōu)選為形成后14天以內(nèi)的中間層，更進一步優(yōu)選為形成后7天以內(nèi)的中間層。

關(guān)于干燥溫度及干燥時間，沒有特別限制，可以適當(dāng)設(shè)定。

實施例

以下的實施例中使用的成分的數(shù)均分子量(Mn)及由防污層形成用組合物形成的涂膜在干燥時的氨濃度是按照以下所述的方法測定的值。

＜數(shù)均分子量(Mn)＞

使用凝膠浸透色譜裝置(東曹株式會社制造、產(chǎn)品名“HLC-8020”)在下述條件下測定并進行標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯換算而測得的值。

(測定條件)

·色譜柱：“TSK guard column HXL-H”“TSK gel GMHXL(×2)”“TSK gel G2000HXL”(均為東曹株式會社制造)依次連接而成的色譜柱

·柱溫：40℃

·洗脫溶劑：四氫呋喃

·流速：1.0mL/分

＜由防污層形成用組合物形成的涂膜的干燥時的氨濃度＞

使用北川式氣體探測管(GASTEC公司制造、產(chǎn)品名“No.3L”)測定了對由防污層形成用組合物形成的涂膜進行干燥時該涂膜附近(從涂膜的表面至高度3cm的空間內(nèi))的空氣中的氨濃度。

制造例1(防污層形成用組合物(1)的制備)

相對于四乙氧基硅烷(TEOS)(上述式(a)中，p＝4、R¹＝乙基的4官能硅烷類化合物)100摩爾％作為(A)成分，配合己基三乙氧基硅烷(上述式(b)中的q＝3、R²＝正己基(碳原子數(shù)：6)、R³＝乙基的3官能硅烷類化合物)12.5摩爾％作為(B)成分及0.01M鹽酸0.053摩爾％(有效成分比)作為(C)成分，加入乙醇進行稀釋，制備了有效成分濃度1.8M的防污層形成用組合物(1)的溶液。

制造例2(防污層形成用組合物(2)的制備)

除了相對于(A)成分100摩爾％的(B)成分配合量變更為25.0摩爾％以外，與制造例1同樣地制備了有效成分濃度1.8M的防污層形成用組合物(2)的溶液。

制造例3(帶中間層的基材的制作)

作為基材，使用在一面設(shè)有底涂層的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(東洋紡株式會社制造、制品名“Cosmo Shine A-4100”、厚度50μm)。

使用麥勒棒(Meyer bar)在該PET膜的底涂層上涂布“Aquamika NL110A-20”(含有Merck公司制造的作為聚硅氮烷類化合物的“全氫聚硅氮烷”(上述通式(1)中的R^A、R^B、R^C＝氫原子、數(shù)均分子量(Mn)為2000的聚硅氮烷類化合物)20質(zhì)量％的溶液)而形成涂膜。

接著，將該涂膜在110℃下干燥2分鐘，制作了具有厚度1.5μm的含有(聚)硅氮烷類化合物的中間層的帶中間層的基材。

實施例1

作為基材，使用在一面設(shè)有底涂層的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(東洋紡株式會社制造、制品名“Cosmo Shine A-4100”、厚度50μm)。

在氨濃度0.6ppm的氣體氛圍中使用麥勒棒將制造例1中制備的防污層形成用組合物(1)的溶液涂布于該PET膜的底涂層上，使得干燥后的膜厚為0.7μm，形成了涂膜。

然后，在氨濃度0.6ppm的氛圍中使該涂膜在80℃下干燥固化2分鐘，制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。

實施例2

使用制造例3中剛剛制作后(靜置0小時后)的帶中間層的基材，使用麥勒棒將制造例1的防污層形成用組合物的溶液涂布于該中間層上，使得干燥后的膜厚為0.7μm，形成了涂膜。

然后，使該涂膜在80℃下干燥固化2分鐘，制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為27ppm。

實施例3

除了使用制造例3中制作后靜置1小時后的帶中間層的基材以外，與實施例2同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為22ppm。

實施例4

除了使用制造例3中制作后靜置24小時后的帶中間層的基材以外，與實施例2同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為1.7ppm。

實施例5

除了使用制造例3中制作后靜置7天后的帶中間層的基材以外，與實施例2同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0.6ppm。

實施例6

除了使用制造例3中制作后靜置14天后的帶中間層的基材以外，與實施例2同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0.5ppm。

實施例7

除了使用制造例3中制作后靜置30天后的帶中間層的基材以外，與實施例2同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0.1ppm。

實施例8

除了使用制造例2中制備的防污層形成用組合物(2)的溶液代替防污層形成用組合物(1)的溶液以外，與實施例1同樣地制作了防污片。

實施例9

除了使用制造例2中制備的防污層形成用組合物(2)的溶液代替防污層形成用組合物(1)的溶液以外，與實施例2同樣地制作了防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為27ppm。

實施例10

除了使用制造例2中制備的防污層形成用組合物(2)的溶液代替防污層形成用組合物(1)的溶液以外，與實施例6同樣地制作了防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0.5ppm。

實施例11

除了使用制造例2中制備的防污層形成用組合物(2)的溶液代替防污層形成用組合物(1)的溶液以外，與實施例7同樣地制作了防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0.1ppm。

比較例1

在未檢測出氨的氣體氛圍中，與實施例1同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0ppm。

比較例2

在未檢測出氨的氣體氛圍中，與實施例8同樣地制作了具有厚度0.7μm的防污層的防污片。需要說明的是，涂膜在干燥時的氨濃度為0ppm。

基于以下方法對如上所述制備及制作的防污層形成用組合物及防污片的特性進行了評價。將其結(jié)果示于表1。

＜防污層的固化性＞

對實施例及比較例中制作的防污片，確認了由防污層形成用組合物形成的涂膜是否固化而形成了防污層。

然后，在能夠確認到該涂膜固化且形成了防污層的情況下，通過肉眼對用手指摩擦了防污層表面20次之后的防污層的色調(diào)進行觀察，根據(jù)以下基準(zhǔn)評價了防污層的固化性。

A+：涂膜充分地固化而形成了防污層，用手指摩擦該防污層前后沒有觀察到色調(diào)的變化。

A：涂膜充分地固化而形成了防污層，用手指摩擦該防污層時，稍微變白。

B：涂膜充分地固化而形成了防污層，用手指摩擦該防污層時，可清楚地觀察到變白。

C：由防污層形成用組合物形成的涂膜未固化，不能形成防污層(固化層)。

需要說明的是，關(guān)于上述“C”評價的防污片，由于不能使用，因此未進行以下的“滑落加速度”及“密合性”的評價。

＜防污層的表面狀態(tài)＞

在防污片的制作過程中，對由防污層形成用組合物形成的涂膜的表面狀態(tài)及固化層的表面狀態(tài)進行肉眼觀察，根據(jù)以下基準(zhǔn)評價了防污層的表面狀態(tài)。

A：未觀察到未涂上的部分，形成了良好的涂膜。而且，將該涂膜干燥而得到的防污層的表面狀態(tài)也良好。

B：形成的涂膜可觀察到直徑5mm以下的點狀的未涂上的部分，但為可以允許的程度。而且，將該涂膜干燥而得到的防污層的表面狀態(tài)也比較良好。

C：形成的涂膜可觀察到直徑5mm以上的未涂上的部分，因此，將該涂膜干燥而得到的防污層的表面狀態(tài)差，不能使用。

D：可觀察到形成的涂膜的一部分凝膠化而成的部位，將該涂膜干燥而得到的防污層的表面狀態(tài)差，不能使用。

需要說明的是，關(guān)于上述“C”及“D”評價的防污片，由于不能使用，因此未進行以下的“滑落加速度”及“密合性”的評價。

＜滑落加速度的測定＞

通過浸水鋪展將實施例及比較例中制作的防污片以防污層露出的方式載置于傾斜角35度的試樣臺上，在防污片的防污層上滴加純水30μl，測定了該純水的滑落距離與滑落時間的關(guān)系。

根據(jù)得到的滑落距離與滑落時間的關(guān)系，對每單位時間的滑落距離進行微分，計算出每單位時間的速度變化，進一步對每單位時間的速度變化進行微分，由得到的回歸直線計算出加速度(滑落加速度)。將該計算出的滑落加速度的值示于表1。如果該滑落加速度為180mm/秒²以上，則可以認為防污片的防污性良好。

＜層間密合性的測定＞

按照JIS K5400，利用棋盤格密合法對實施例及比較例中制作的防污片評價了層間密合性。需要說明的是，表1中示出了棋盤格100格中未觀察到剝離的格數(shù)。

根據(jù)表1，對于實施例1～11中制作的防污片而言，防污層的固化性優(yōu)異，且防污層的表面狀態(tài)也良好。而且，這些防污片的水滴的滑落加速度值大，具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性，層間密合性也良好。

另一方面，比較例1及2中制作的防污片的防污層的固化性為較差的結(jié)果。因此，判斷這些防污片不能使用，未進行滑落加速度及密合性的評價。

工業(yè)實用性

本發(fā)明的防污片具備表面狀態(tài)和固化性良好的防污層，水滴的滑落加速度大，具有能使水滴瞬間滑落的優(yōu)異的防水性，且層間密合性也優(yōu)異。

因此，本發(fā)明的防污片適合作為用于防止在例如：建筑用窗玻璃、汽車用窗玻璃、車輛、飛機、船舶等的防風(fēng)玻璃、水槽、船底窗、防止海洋生物附著于船底用膜、隔音壁等道路用面板、設(shè)置于浴室等的鏡、玻璃容器、玻璃裝飾品等成型品的表面附著水滴、污垢等妨礙視野的物質(zhì)的防污片，更適于汽車用窗玻璃、車輛、飛機、船舶等的防風(fēng)玻璃等要求能使水滴瞬間滑落的防水性的用途。