本發(fā)明涉及帶間隔件的光學用表面保護膜。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜作為出于保護用于液晶顯示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光學補償膜、反射片、增亮膜和透明導電性膜等光學部件表面的目的使用的光學用表面保護膜而有用。
背景技術：
以往，對于光學部件、電子部件等而言，為了防止加工、組裝、檢查、運輸等時的表面的損傷，一般在部件的露出面貼合表面保護膜。表面保護膜由基材膜和粘合層構成，根據需要，出于保護貼合(使用)前的粘合劑層的目的，在粘合劑表面貼合間隔件(也稱作脫模膜或剝離襯墊)(專利文獻1)。帶間隔件的表面保護膜在剝離間隔件后貼合于作為被粘物的光學部件。
被貼合的表面保護膜在不再需要的階段從光學部件剝離后，有時還在剝離后的光學部件的表面設置具有其他功能的層(其他層)等(專利文獻2)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2012－224811
專利文獻2：日本特開2014－208756
技術實現要素：
發(fā)明要解決的問題
然而，根據剝離表面保護膜后的光學部件(被粘物)的表面的狀態(tài)，存在如下問題：由于對其他層的潤濕性、粘接性變差等，導致發(fā)生其他層從光學部件剝離，產品變得不良。尤其在使用帶間隔件的表面保護膜的情況下，存在如下問題：在剝離光學用表面保護膜后的設置于被粘物(例如構成光學部件的玻璃表面)的其他層(例如層間填充劑(層))容易剝離。因此，要求開發(fā)一種帶間隔件的光學用表面保護膜，其在剝離表面保護膜后的玻璃表面等被粘物設置層間填充劑(層)等其他層時，能夠確保其他層不易剝離的狀態(tài)。
本發(fā)明的目的在于提供一種帶間隔件的光學用表面保護膜，其能夠保護作為被粘物的光學部件免于弄臟、損傷，能夠防止在將表面保護膜從被粘物剝離后的設置于被粘物表面的層間填充劑(層)等其他層容易剝離的現象。
本發(fā)明人鑒于上述情況而進行了深入研究，探討在帶間隔件的光學用表面保護膜中，剝離間隔件后的粘合劑層在貼合于玻璃等被粘物后被剝離，由此粘合劑層成分殘留于被粘物上，被粘物的表面被污染，從而可能對之后設置于被粘物上的層間填充劑(層)等其他層的易剝離性造成影響。因此，發(fā)現使用具有特定參數的帶間隔件的光學用表面保護膜，結果與以往相比，能夠減小在剝離光學用表面保護膜后的被粘物的表面的污染的影響，因此能夠提供可防止例如層間填充劑(層)等其他層的剝離的帶間隔件的光學表面保護膜。
用于解決問題的手段
即，本發(fā)明涉及一種帶間隔件的光學用表面保護膜，其是在粘合劑層的一面具有聚酯膜且在上述粘合劑層的與聚酯膜相反的面具有間隔件的帶間隔件的光學用表面保護膜，其中，剝離上述間隔件后的上述粘合劑層表面的在熒光x射線下的si－kα線強度為2.5kcps以下，上述間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力在拉伸速度0.3m/分鐘下為0.5n/50mm以下。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜中，優(yōu)選：上述間隔件具有脫模層和基材，上述脫模層由包含長鏈烷基系材料和/或脂肪族羧酸酯的脫模劑組合物形成。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜中，優(yōu)選：上述粘合劑層由包含(甲基)丙烯酸系聚合物(a)和脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)的粘合劑組合物形成，對于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)而言，至少包含含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體、和含羥基的(甲基)丙烯酸系單體作為單體成分，并且玻璃化轉變溫度為－50℃以下，相對于上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體100重量份，含有2～20重量份的上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜中，優(yōu)選：相對于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份，含有1～30重量份的上述脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜中，優(yōu)選：上述粘合劑組合物還含有以鐵或錫作為活性中心的催化劑(c)。
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜中，優(yōu)選：相對于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份，含有0.002～0.5重量份的上述以鐵或錫作為活性中心的催化劑(c)。
發(fā)明效果
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜的光學用表面保護膜與間隔件的剝離性優(yōu)異，并且間隔件剝離后的光學用表面保護膜對被粘物的剝離性優(yōu)異，而且在剝離了光學用表面保護膜時，因粘合劑層造成的被粘物的表面的污染的影響小，因此可防止之后設置于被粘物上的層間填充劑(層)等其他層從被粘物剝離，因而有用。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜的一個構成例的示意性截面圖。
具體實施方式
以下，對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。
＜帶間隔件的光學用表面保護膜的整體結構＞
本發(fā)明的光學用表面保護膜是在光學部件(例如用于液晶顯示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光學補償膜、反射片、增亮膜和透明導電性膜等光學部件)的加工時和運送時對光學部件的表面進行保護的光學用表面保護膜，通常為被稱作光學用粘合片、光學用粘合帶、光學用粘合貼(label)、光學用粘合膜等的形態(tài)。上述光學用表面保護膜中的粘合劑層典型而言是連續(xù)地形成，但不限于該形態(tài)，也可以是形成為例如點狀、條狀等規(guī)則或無規(guī)的圖案的粘合劑層。另外，上述光學用表面保護膜可以為卷狀，也可以為單片狀。
圖1中示意性地表示本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜的典型構成例。該帶間隔件的光學用表面保護膜3為將間隔件1與光學用表面保護膜2層疊的形態(tài)。間隔件1具備基材11和脫模層12，光學用表面保護膜2具備聚酯膜22和設置于其一面的粘合劑層21，層疊是脫模層12與粘合劑層21貼合而成的。帶間隔件的光學用表面保護膜3在剝離間隔件1后，將粘合劑層21貼附于作為被粘物的光學部件(保護對象、例如用于液晶顯示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光學補償膜、反射片、增亮膜和透明導電性膜等光學部件的表面)而使用，在不再需要的階段從光學部件剝離。另外，帶間隔件的光學用表面保護膜3可以舉出：在聚酯膜22的兩面具有粘合劑層2的形態(tài)、在聚酯膜22的賦予了粘合劑層2的面的相反面具有抗靜電層的形態(tài)。
＜光學用表面保護膜＞
本發(fā)明的光學用表面保護膜具備聚酯膜和粘合劑層。
＜聚酯膜＞
本發(fā)明的聚酯膜可以舉出：以聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚對苯二甲酸丁二醇酯等具有以酯鍵為基礎的主骨架的聚合物材料(聚酯樹脂)作為主要樹脂成分的聚酯膜。上述聚酯膜的光學特性、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異，但在直接使用的情況下具有容易帶電的性質。
構成上述聚酯膜的樹脂材料中根據需要可以配合抗氧化劑、紫外線吸收劑、增塑劑、著色劑(顏料、染料等)等各種添加劑?？梢詫ι鲜鼍埘ツさ牡谝幻鎸嵤┝死珉姇灧烹娞幚?、等離子體處理、紫外線照射處理、酸處理、堿處理、底涂劑的涂布等公知或慣用的表面處理。這樣的表面處理例如可以為用于提高上述聚酯膜與上述粘合劑層的密合性(粘合劑層的錨固性)的處理?？蓛?yōu)選地采用在上述聚酯膜的表面導入羥基(－oh基)等極性基團的表面處理。另外，還可以對上述聚酯膜的第二面實施與上述同樣的表面處理而設置粘合劑層、抗靜電層。
本發(fā)明的光學用表面保護膜通過在上述聚酯膜的賦予了粘合劑層的面的相反面設置上述抗靜電層，可以賦予抗靜電功能。另外，可以使用預先進行抗靜電處理而成的聚酯膜。通過使用上述聚酯膜，在剝離上述間隔件時、將上述粘合劑層從作為被粘物的光學部件剝離時，可抑制帶電，因而優(yōu)選。需要說明的是，賦予抗靜電功能的方法沒有特別限制，可以使用以往公知的方法，例如可舉出：涂布包含抗靜電劑和樹脂成分的抗靜電性樹脂、導電性聚合物、含有導電性物質的導電性樹脂的方法；蒸鍍或鍍覆導電性物質的方法；以及，混入抗靜電劑等的方法；等等。
上述聚酯膜的厚度通常為5～200μm、優(yōu)選為10～100μm左右。若上述聚酯膜的厚度為上述范圍內，則對作為被粘物的光學部件的貼合作業(yè)性、從光學部件的剝離作業(yè)性優(yōu)異，因而優(yōu)選。
＜粘合劑層＞
本發(fā)明的粘合劑層由實質上不含硅酮材料的粘合劑組合物形成。上述“實質上不含硅酮材料”是指，上述粘合劑層的表面的在熒光x射線下的si－kα線強度為2.5kcps以下。上述粘合劑組合物只要是具有粘合性的物質就可以沒有特別限制地使用，也可以使用例如丙烯酸系粘合劑組合物、氨基甲酸酯系粘合劑組合物、合成橡膠系粘合劑組合物、天然橡膠系粘合劑組合物等，其中可優(yōu)選地使用丙烯酸系粘合劑組合物。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)＞
上述丙烯酸系粘合劑組合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(a)。需要說明的是，(甲基)丙烯酸系聚合物是指，丙烯酸系聚合物和/或甲基丙烯酸系聚合物。
＜含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)只要是具有粘合性的(甲基)丙烯酸系聚合物就沒有特別限定，單體成分的主要成分優(yōu)選使用含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體。上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體可以使用1種或2種以上作為主要成分。需要說明的是，主要成分是指配合比例最高。
上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體的具體例例如可以舉出：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸－2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等。
其中，作為合適的單體可以舉出：(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸－2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等含碳數6～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體。通過使用上述具有碳數6～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體，易于將對被粘物的粘合力控制地較低，形成再剝離性優(yōu)異的粘合劑層。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中，相對于構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的單體成分總量，優(yōu)選含有50～99重量％的上述含碳數為2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體，更優(yōu)選為60～98重量％，進一步優(yōu)選為70～97重量％，最優(yōu)選為80～96重量％。通過處于該范圍內，由此粘合劑組合物具有適度的潤濕性，粘合劑層的凝聚力也優(yōu)異，從而優(yōu)選。
＜含羥基的(甲基)丙烯酸系單體＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)優(yōu)選包含含羥基的(甲基)丙烯酸系單體作為單體成分。通過包含上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體，由此羥基能夠容易地進行交聯的控制，進而容易控制由流動造成的潤濕性的改善與上述粘合劑層的凝聚力、剪切力的平衡。此外，在上述粘合劑層中添加抗靜電劑的情況下，與通?？勺鳛榻宦摬课话l(fā)揮作用的羧基、磺酸酯基等不同，羥基與作為抗靜電劑的離子性化合物等具有適度的相互作用，因此從抗靜電性方面考慮也可以適宜地使用。
上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體例如可以舉出：(甲基)丙烯酸2－羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4－羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6－羥基己酯、(甲基)丙烯酸8－羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10－羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12－羥基月桂酯、丙烯酸(4－羥甲基環(huán)己基)甲酯、n－羥甲基(甲基)丙烯酰胺等。上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體可以單獨使用，或者也可以混合使用2種以上。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中使用了上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體、和上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體的情況下，上述含羥基的(甲基)丙烯酸系單體相對于上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體100重量份優(yōu)選為2～20重量份，更優(yōu)選為3～15重量份，進一步優(yōu)選為4～12重量份。如果處于該范圍內，則容易控制上述粘合劑組合物的潤濕性與上述粘合劑層的凝聚力、剪切力的平衡，因而優(yōu)選。
＜含羧基的(甲基)丙烯酸系單體＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)優(yōu)選包含含羧基的(甲基)丙烯酸系單體作為單體成分。通過包含上述含羧基的(甲基)丙烯酸系單體，由此羧基可提高剪切力，而且可防止隨著時間推移的粘合力的上升，形成再剝離性、防止粘合力上升性和作業(yè)性優(yōu)異的粘合劑層。尤其，通過上述粘合劑層的剪切力提高，由此通過將上述粘合劑層貼合于被粘物可抑制基于被粘物的卷曲，可抑制上述粘合劑層與被粘物之間(界面)的滑動、錯位的產生。
上述含羧基的(甲基)丙烯酸系單體例如可以舉出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基丙基六氫鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基馬來酸酯、羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基四氫鄰苯二甲酸酯等。上述含羧基的(甲基)丙烯酸系單體可以單獨使用，或者也可以混合使用2種以上。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中使用了上述含碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體、和上述含羧基的(甲基)丙烯酸系單體的情況下，上述含羧基的(甲基)丙烯酸系單體相對于上述具有碳數2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系單體100重量份，優(yōu)選為0.01～1重量份，更優(yōu)選為0.01～0.8重量份，進一步優(yōu)選為0.01～0.5重量份，最優(yōu)選為0.02～0.2重量份。若處于該范圍內，則可以抑制上述粘合劑層的隨著時間推移的粘合力的上升，再剝離性、防止粘合力上升性和作業(yè)性優(yōu)異，另外，上述粘合劑層的凝聚力以及剪切力也優(yōu)異，因而優(yōu)選。
＜其他聚合性單體＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中，作為單體成分，只要是不損害本發(fā)明的特性的范圍內，就可以不特別限定地使用其他聚合性單體。尤其出于容易得到粘合性能的平衡的理由，上述其他聚合性單體可以使得上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的tg為－50℃以下且－100℃以上而用于調整玻璃化轉變溫度、剝離性。
上述其他聚合性單體例如可適宜地使用：含氰基單體、乙烯基酯單體、芳香族乙烯基單體等提高凝聚力、耐熱性的成分；含酰胺基單體、含酰亞胺基單體、含氨基單體、含環(huán)氧基單體、n－丙烯酰嗎啉、乙烯基醚單體等提高粘合(粘接)力、具有發(fā)揮作為交聯化基點的作用的官能團的成分。這些聚合性單體可以單獨使用，或者也可以混合使用2種以上。
上述含氰基單體例如可以舉出丙烯腈、甲基丙烯腈。
上述乙烯基酯單體例如可以舉出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。
上述芳香族乙烯基單體例如可以舉出：苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α－甲基苯乙烯、其他取代苯乙烯等。
上述含酰胺基單體例如可以舉出：丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺、n－乙烯基吡咯烷酮、n，n－二甲基丙烯酰胺、n，n－二甲基甲基丙烯酰胺、n，n－二乙基丙烯酰胺、n，n－二乙基甲基丙烯酰胺、n，n’－亞甲基雙丙烯酰胺、n，n－二甲氨基丙基丙烯酰胺、n，n－二甲氨基丙基甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺等。
上述含酰亞胺基單體例如可以舉出：環(huán)己基馬來酰亞胺、異丙基馬來酰亞胺、n－環(huán)己基馬來酰亞胺、衣康酰亞胺等。
上述含氨基單體例如可以舉出：(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n，n－二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n，n－二甲氨基丙酯等。
上述含環(huán)氧基單體例如可以舉出：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚等。
上述乙烯基醚單體例如可以舉出：甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚等。
其他聚合性單體相對于構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的單體成分總量優(yōu)選為0.01～1重量％，更優(yōu)選為0.05～0.5重量％。通過在該范圍內使用上述其他聚合性單體，在使用例如抗靜電劑的離子性化合物的情況下，能夠適當調節(jié)與該化合物的良好的相互作用、良好的再剝離性。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的重均分子量(mw)為10萬～500萬、優(yōu)選為20萬～400萬、進一步優(yōu)選為30萬～300萬。若重均分子量小于10萬，則有由于粘合劑組合物的凝聚力減小而導致產生殘膠的傾向。另一方面，重均分子量(mw)大于500萬的情況下，則有聚合物的流動性下降，對被粘物(例如作為光學部件的偏振板等)的潤濕變得不充分，導致被粘物與粘合劑層之間產生隆起(フクレ)的傾向。需要說明的是，重均分子量(mw)是指通過gpc(凝膠滲透色譜)測定而得到的重均分子量。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化轉變溫度(tg)優(yōu)選為－50℃以下，更優(yōu)選為－55℃以下，進一步優(yōu)選為－60℃以下。上述(甲基)丙烯酸系聚合物的玻璃化轉變溫度(tg)優(yōu)選為－100℃以上。玻璃化轉變溫度高于－50℃的情況下，聚合物不易流動，例如有對被粘物(例如作為光學部件的偏振板等)的潤濕變得不充分，導致在被粘物與粘合劑層之間產生隆起的傾向。尤其通過使玻璃化轉變溫度為－61℃以下，由此容易得到對被粘物的潤濕性和輕剝離性優(yōu)異的粘合劑組合物。需要說明的是，上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化轉變溫度可以通過適當改變所用單體成分、組成比而調整至上述范圍內。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的聚合方法沒有特別限制，可以通過溶液聚合、乳液聚合、本體聚合、懸浮聚合等公知的方法進行聚合，尤其從作業(yè)性的觀點、對被粘物的低污染性等特性方面出發(fā)，溶液聚合為更優(yōu)選的方案。另外，所得聚合物可以為無規(guī)共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物、接枝共聚物等中的任意種。
上述粘合劑組合物中優(yōu)選含有交聯劑。上述交聯劑可以使用異氰酸酯化合物、環(huán)氧化合物、三聚氰胺系樹脂、氮丙啶衍生物以及金屬螯合化合物等，尤其異氰酸酯化合物的使用為優(yōu)選的方案。另外，這些化合物可以單獨使用，也可以混合2種以上使用。
＜脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)＞
上述異氰酸酯化合物中，粘合劑組合物中優(yōu)選含有脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)。例如，上述粘合劑組合物中含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的情況下，通過適當調節(jié)上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的構成單元、構成比率、脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)的選擇以及添加比率等并進行交聯，由此可以得到耐熱性更優(yōu)異的粘合劑層。
上述脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)例如可以舉出：三亞甲基二異氰酸酯、丁烯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯(hdi)、二聚酸二異氰酸酯等脂肪族多異氰酸酯類；環(huán)戊烷二異氰酸酯、環(huán)己烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯(ipdi)等脂肪族異氰酸酯類；將上述異氰酸酯化合物利用脲基甲酸酯鍵、縮二脲鍵、異氰脲酸酯鍵、脲二酮鍵、脲鍵、碳二亞胺鍵、脲酮亞胺鍵、噁二嗪三酮鍵等進行改性后的多異氰酸酯改性物。例如市售品可以舉出：商品名takenate300s、takenate500、takenated165n、takenated178n(以上為武田藥品工業(yè)社制)、sumidulet80、sumidulel、desmodurn3400(以上為sumikabayerurethane公司制)、millionatemr、millionatemt、coronatel、coronatehl、coronatehx(以上為日本聚氨酯工業(yè)社制)等。脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)可以單獨使用，也可以混合2種以上使用，也可以并用2官能的異氰酸酯化合物和3官能以上的異氰酸酯化合物。通過并用交聯劑，能夠兼顧粘合性和耐回彈性(耐反発性)(對曲面的粘接性)，可以得到粘接可靠性更優(yōu)異的表面保護膜。
關于上述脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)的含量，例如相對于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份優(yōu)選含有1～30重量份，更優(yōu)選含有1～20重量份，進一步優(yōu)選含有2～10重量份，最優(yōu)選含有3～6重量份。上述含量小于1質量份的情況下，利用交聯劑的交聯形成變得不充分，有時所得粘合劑層的凝聚力減小而不能得到充分的耐熱性，并且有導致殘膠的傾向。另一方面，含量大于30重量份的情況下，聚合物的凝聚力大，流動性下降，有對被粘物(例如用于液晶顯示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光學補償膜、反射片、增亮膜和透明導電性膜等光學部件)的潤濕變得不充分而導致在被粘物與粘合劑層之間發(fā)生隆起的傾向。此外，若交聯劑量多，則有剝離帶電特性下降的傾向。
＜催化劑(c)＞
上述粘合劑組合物中，為了更有效地推進上述的交聯反應，還可以含有催化劑(c)。催化劑(c)可以使用例如：二月桂酸二丁基錫、二月桂酸二辛基錫等錫系催化劑；三(乙酰丙酮)合鐵、三(己烷－2，4－二酮(dionato))合鐵、三(庚烷－2，4－二酮)合鐵、三(庚烷－3，5－二酮)合鐵、三(5－甲基己烷－2，4－二酮)合鐵、三(辛烷－2，4－二酮)合鐵、三(6－甲基庚烷－2，4－二酮)合鐵、三(2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮)合鐵、三(壬烷－2，4－二酮)合鐵、三(壬烷－4，6－二酮)合鐵、三(2，2，6，6－四甲基庚烷－3，5－二酮)合鐵、三(十三烷－6，8－二酮)合鐵、三(1－苯基丁烷－1，3－二酮)合鐵、三(六氟乙酰丙酮)合鐵、三(乙酰乙酸乙酯)合鐵、三(乙酰乙酸正丙酯)合鐵、三(乙酰乙酸異丙酯)合鐵、三(乙酰乙酸正丁酯)合鐵、三(乙酰乙酸仲丁酯)合鐵、三(乙酰乙酸叔丁酯)合鐵、三(丙酰乙酸甲酯)合鐵、三(丙酰乙酸乙酯)合鐵、三(丙酰乙酸正丙酯)合鐵、三(丙酰乙酸異丙酯)合鐵、三(丙酰乙酸正丁酯)鐵、三(丙酰乙酸仲丁酯)合鐵、三(丙酰乙酸叔丁酯)合鐵、三(乙酰乙酸芐酯)合鐵、三(丙二酸二甲酯)合鐵、三(丙二酸二乙酯)合鐵、三甲氧基鐵、三乙氧基鐵、三異丙氧基鐵、氯化鐵等鐵系催化劑。催化劑(c)可以是1種也可以并用2種以上。
另外，上述鐵系催化劑可以適當使用鐵螯合化合物，例如可以表示為式fe(x)(y)(z)。鐵螯合化合物通過(x)(y)(z)的組合，而由fe(x)3、fe(x)2(y)、fe(x)(y)2、fe(x)(y)(z)中的任一式表示。在鐵螯合化合物fe(x)(y)(z)中，(x)(y)(z)各自為對fe的配體，例如在x、y或z為β－二酮的情況下，β－二酮可以舉出乙酰丙酮、己烷－2，4－二酮、庚烷－2，4－二酮、庚烷－3，5－二酮、5－甲基己烷－2，4－二酮、辛烷－2，4－二酮、6－甲基庚烷－2，4－二酮、2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮、壬烷－2，4－二酮、壬烷－4，6－二酮、2，2，6，6－四甲基庚烷－3，5－二酮、十三烷－6，8－二酮、1－苯基丁烷－1，3－二酮、六氟乙酰丙酮、抗壞血酸等。
上述x、y或z為β－酮酯的情況下，β－酮酯可以舉出：乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸正丙酯、乙酰乙酸異丙酯、乙酰乙酸正丁酯、乙酰乙酸仲丁酯、乙酰乙酸叔丁酯、丙酰乙酸甲酯、丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸正丙酯、丙酰乙酸異丙酯、丙酰乙酸正丁酯、丙酰乙酸仲丁酯、丙酰乙酸叔丁酯、乙酰乙酸芐酯、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯等。
另外，還可以使用上述鐵螯合化合物以外的鐵系催化劑，例如也可以使用鐵與烷氧基、鹵原子、酰氧基的化合物。鐵與烷氧基的化合物的情況下，烷氧基可以舉出：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2－乙基己基、苯氧基、環(huán)己氧基、芐氧基、1－芐基萘氧基等。
上述鐵與鹵原子的化合物的情況下，鹵原子可以舉出氟、氯、溴、碘等。
上述鐵與酰氧基的化合物的情況下，酰氧基可以舉出：2－乙基己酸、辛酸、環(huán)烷酸、樹脂酸(以松香酸、新松香酸、d－海松酸、異－d－海松酸、羅漢松酸、葡萄糖酸、富馬酸、檸檬酸、天冬氨酸、α－酮谷氨酸、蘋果酸、琥珀酸、甘氨酸、組氨酸等氨基酸等作為主要成分的脂肪族系有機酸；以苯甲酸、肉桂酸、對羥基肉桂酸等作為主要成分的芳香族脂肪酸)等。
上述鐵系催化劑之中，從反應性、固化性的方面考慮，優(yōu)選具有β－二酮作為配體的鐵螯合化合物，特別優(yōu)選使用三(乙酰丙酮)合鐵。
上述催化劑(c)的含量(使用量)例如相對于(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100質量份優(yōu)選為0.002～0.5質量份，更優(yōu)選為0.005～0.3質量份，進一步優(yōu)選為0.01～0.1質量份。若處于該范圍內，則在形成粘合劑層時交聯反應的速度快，粘合劑組合物的適用期(ポットライフ)也增長，為優(yōu)選的方案。
此外，上述粘合劑組合物中可以含有發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物作為交聯延遲劑。例如，在包含脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)的粘合劑組合物、或者可配合脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)使用的粘合劑組合物中，可以優(yōu)選地采用包含上述發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物的方案。由此，抑制配合脂肪族多異氰酸酯系交聯劑(b)后的粘合劑組合物的過度的粘度上升、凝膠化，可實現延長粘合劑組合物的適用期的效果。該技術例如可優(yōu)選地適用于上述粘合劑組合物為有機溶劑溶液或無溶劑的形態(tài)的情況。
上述發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物可以使用各種β－二羰基化合物。具體例可以舉出：乙酰丙酮、2，4－己烷二酮、3，5－庚烷二酮、2－甲基己烷－3，5－二酮、6－甲基庚烷－2，4－二酮、2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮等β－二酮類；乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸異丙酯、乙酰乙酸叔丁酯等乙酰乙酸酯類；丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸異丙酯、丙酰乙酸叔丁酯等丙酰乙酸酯類；異丁酰乙酸乙酯、異丁酰乙酸乙酯、異丁酰乙酸異丙酯、異丁酰乙酸叔丁酯等異丁酰乙酸酯類；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯類；等等。其中，作為適宜的化合物，可以舉出乙酰丙酮和乙酰乙酸酯類。發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物可以單獨使用，也可以組合2種以上使用。
上述發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物的含量相對于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份例如可以設為0.1～20重量份，通常設為0.5～15重量份(例如1～10重量份)是適當的。上述化合物的量過少時，有時難以發(fā)揮充分的使用效果。另一方面，若大量使用超出需要的上述化合物，則殘留于粘合劑層，有時使凝聚力下降。
此外，上述粘合劑組合物中可以含有其他公知的添加劑，例如可以根據使用用途適當添加著色劑、顏料等粉體、表面活性劑、增塑劑、抗靜電劑、增粘劑、低分子量聚合物、表面潤滑劑、流平劑、抗氧化劑、抗腐蝕劑、光穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑、阻聚劑、硅烷偶聯劑、無機或有機的填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。
＜光學用表面保護膜的制作＞
上述光學用表面保護膜在上述聚酯膜的一面具有由上述粘合劑組合物形成而成的粘合劑層，此時，粘合劑組合物的交聯通常在粘合劑組合物的涂布后進行，也可以將包含交聯后的粘合劑組合物的粘合劑層轉印于基材等。
另外，在聚酯膜上形成粘合劑層的方法沒有特別限制，例如可以通過如下方式制作：將上述粘合劑組合物的溶液涂布于膜，并將聚合溶劑等干燥除去，從而在膜上形成粘合劑層。之后，也可以以粘合劑層的成分遷移的調整、交聯反應的調整等為目的進行熟化。另外，在將粘合劑組合物涂布于聚酯膜上制備粘合劑層時，為了能夠均勻涂布于膜上，可以在上述粘合劑組合物中新加入聚合溶劑以外的一種以上的溶劑。
另外，上述粘合劑層的形成方法可以使用用于制造粘合劑層的公知的方法。具體來說，例如可以舉出：輥涂、凹版涂布、反轉涂布、輥刷、噴涂、氣刀涂布法、利用模涂機等的擠出涂布法等。
上述粘合劑層的厚度優(yōu)選制作成3～100μm，更優(yōu)選為5～50μm左右。若粘合劑層的厚度處于該范圍內，則容易得到適度的再剝離性與粘合(粘接)性的平衡，因而優(yōu)選。
＜間隔件＞
對于本發(fā)明的光學用表面保護膜，出于保護上述粘合劑層面的目的，在粘合劑層表面貼合間隔件。間隔件具備基材和脫模層。
＜基材＞
上述基材包括紙、塑料膜，從表面平滑性優(yōu)異的方面出發(fā)，優(yōu)選使用塑料膜。該膜只要是可保護上述粘合劑層的膜就沒有特別限定，例如可以舉出：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述基材的厚度通常為5～200μm、優(yōu)選為10～100μm左右。若處于該范圍內，則對粘合劑層的貼合作業(yè)性和從粘合劑層的剝離作業(yè)性優(yōu)異，因而優(yōu)選。
對于上述基材，根據需要可以對其表面實施電暈放電處理等各種表面處理或者實施壓花加工等各種表面加工。另外，根據需要可以配合填充劑(無機填充劑、有機填充劑等)、抗老化劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、潤滑劑、增塑劑、著色劑(顏料、染料等)等各種添加劑。
＜脫模層＞
上述脫模層由對上述基材具有密合性且對上述粘合劑層具有剝離性而且實質上不含硅酮系材料的脫模劑組合物形成。上述“實質上不含硅酮材料”是指，上述間隔件的脫模層的表面的在熒光x射線下的si－kα線強度(a)與上述間隔件的不具有脫模層的基材的表面(未處理面)的在熒光x射線下的si－kα線強度(b)之差[(b)－(a)]為0.3kcps以下。
上述脫模劑組合物中優(yōu)選包含長鏈烷基系材料和/或脂肪族羧酸酯。從即便僅在脫模劑組合物中少量配合也可有效地得到剝離性，可得到由上述脫模層組合物形成的涂布層具有沒有不均和白化等的外觀的方面考慮，優(yōu)選這些化合物。這些化合物可以是1種也可以并用2種以上。
＜長鏈烷基系材料＞
上述長鏈烷基系材料是指，具有碳數6以上、優(yōu)選為8以上、進一步優(yōu)選為12以上的直鏈或支鏈烷基的化合物。烷基例如可以舉出辛基、癸基、月桂基、十八烷基、二十二烷基等。具有烷基的化合物例如可以舉出：各種含長鏈烷基的高分子化合物、含長鏈烷基的胺化合物、含長鏈烷基的醚化合物、含長鏈烷基的季銨鹽等。若考慮耐熱性、污染性，則優(yōu)選高分子化合物。另外，從可以以較少含量有效地得到適度防水性(撥水性)的觀點出發(fā)，更優(yōu)選在側鏈具備長鏈烷基的高分子化合物。
在側鏈具有長鏈烷基的高分子化合物可以舉出：使包含含碳數為6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系單體的單體成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物；可以使具有反應性基團的高分子與可與該反應性基團反應的具有烷基的化合物反應而得到的聚合物等。上述反應性基團例如可以舉出羥基、氨基、羧基、酸酐等。具有這些反應性基團的化合物例如可以舉出：聚乙烯醇、縮丁醛樹脂、乙烯－乙烯醇樹脂、聚亞乙基亞胺、聚乙烯胺、含反應性基團的聚酯樹脂、含反應性基團的聚(甲基)丙烯酸系樹脂等。這些之中，若考慮脫模性能、易操作性，則優(yōu)選(甲基)丙烯酸系聚合物、聚乙烯醇、縮丁醛樹脂、乙烯乙烯醇樹脂。
＜含碳數為6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系聚合物＞
上述使包含含碳數為6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系單體的單體成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物中，相對于構成該(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分總量，優(yōu)選含有10～80重量％的上述含碳數6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系單體，更優(yōu)選為20～70重量％，進一步優(yōu)選為30～70重量％，最優(yōu)選為30～60重量％。若處于該范圍內，則所得脫模層對粘合劑層的輕剝離性優(yōu)異。
除上述含碳數6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系單體以外的其他聚合性單體例如可以適當使用：含羥基的(甲基)丙烯酸系單體、含羧基的(甲基)丙烯酸系單體、含氰基單體、乙烯基酯單體、芳香族乙烯基單體、含酰胺基單體、含酰亞胺基單體、含氨基單體、含環(huán)氧基單體、n－丙烯酰嗎啉、乙烯基醚單體等。這些聚合性單體可以單獨使用，或者也可以混合使用2種以上。
其中，從對粘合劑層的輕剝離性與對基材的密合性優(yōu)異的方面出發(fā)，優(yōu)選使用含羧基的(甲基)丙烯酸系單體和含氰基單體。含羧基的(甲基)丙烯酸系單體例如可以舉出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基丙基六氫鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基馬來酸酯、羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基四氫鄰苯二甲酸酯等?？梢耘e出丙烯腈、甲基丙烯腈。含氰基單體例如可以舉出：丙烯腈、甲基丙烯腈。
＜使具有反應性基團的高分子與可與該反應性基團反應的具有烷基的化合物反應而得到的聚合物＞
另外，上述的可與反應性基團反應的具有烷基的化合物例如可以舉出：辛基異氰酸酯、癸基異氰酸酯、月桂基異氰酸酯、十八烷基異氰酸酯、二十二烷基異氰酸酯等含長鏈烷基的異氰酸酯；辛酰氯、癸酰氯、月桂酰氯、十八烷酰氯、二十二烷酰氯等含長鏈烷基的酰氯；含長鏈烷基的胺、含長鏈烷基的醇等。這些之中，若考慮脫模性能、易操作性，則優(yōu)選含長鏈烷基的異氰酸酯，特別優(yōu)選十八烷基異氰酸酯。
相對于上述具有反應性基團的高分子100重量份，優(yōu)選使上述可與反應性基團反應的具有烷基的化合物100～1000重量份進行反應，更優(yōu)選200～800重量份，進一步優(yōu)選300～700重量份。若處于該范圍，則可得到對粘合劑層的輕剝離性和抑制對光學用表面保護膜的粘合劑層的污染，因而優(yōu)選。
＜脂肪族羧酸酯＞
上述脂肪族羧酸酯可以使脂肪族羧酸與醇發(fā)生反應而得到。上述脂肪族羧酸成分優(yōu)選碳數6～36的單或二羧酸，更優(yōu)選碳數6～36的脂肪族飽和單羧酸。這樣的脂肪族羧酸的具體例可列舉：棕櫚酸、硬脂酸、戊酸、己酸、癸酸、月桂酸、花生酸、山萮酸、木蠟酸、蠟酸、蜂花酸、三十四酸(テトラリアコンタン酸)、褐煤酸、戊二酸、己二酸、壬二酸等。
另一方面，上述醇可以列舉飽和或不飽和的一元醇、飽和或不飽和的多元醇等。這些醇可以具有氟原子、芳基等取代基。這些醇之中，優(yōu)選碳數30以下的一元或多元的飽和醇，進一步優(yōu)選碳數30以下的脂肪族飽和一元醇或多元醇。在此，脂肪族醇也包括脂環(huán)式醇。這些醇的具體例可列舉：辛醇、癸醇、十二醇、硬脂醇、山崳醇、乙二醇、二乙二醇、甘油、季戊四醇、2，2－二羥基全氟丙醇、新戊二醇、雙三羥甲基丙烷、二季戊四醇等。這些脂肪族羧酸酯可以含有脂肪族羧酸和/或醇作為雜質，也可以是多種化合物的混合物。
上述脂肪族羧酸酯的具體例可以列舉：蜂蠟(以軟脂酸蜂花酯作為主要成分的混合物)、硬脂酸硬脂酯、山萮酸二十二烷酯、山萮酸辛基十二烷酯、甘油單棕櫚酸酯、甘油單硬脂酸酯、甘油二硬脂酸酯、甘油三硬脂酸酯、季戊四醇單棕櫚酸酯、季戊四醇單硬脂酸酯、季戊四醇二硬脂酸酯、季戊四醇三硬脂酸酯、季戊四醇四硬脂酸酯。
上述羧酸酯在脫模劑組合物中優(yōu)選含有70～99重量％、更優(yōu)選含有80～99重量％、進一步優(yōu)選含有90～99重量％。若處于該范圍，則從對粘合劑層的輕剝離性優(yōu)異的方面出發(fā)，是優(yōu)選的。
此外，上述脫模劑組合物可以含有其他公知的添加劑，根據使用用途可以適當添加例如抗靜電劑、著色劑、顏料等粉體、表面活性劑、增塑劑、增粘劑、低分子量聚合物、表面潤滑劑、流平劑、抗氧化劑、抗腐蝕劑、光穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑、阻聚劑、硅烷偶聯劑、無機或有機的填充劑、金屬粉、粒子狀等。
＜間隔件的制作＞
上述間隔件是在上述基材上使用上述脫模劑組合物形成而成的。
在基材上形成脫模層的方法沒有特別限制，例如可以通過將上述脫模劑組合物的溶液涂布于基材并將聚合溶劑等干燥除去而在基材上形成脫模層由此制作。之后，也可以以脫模層的成分遷移的調整等為目的進行熟化。另外，在將脫模劑組合物涂布于基材上制造脫模層時，為了可以均勻涂布于基材上，可以在上述脫模劑組合物中新加入聚合溶劑以外的一種以上的溶劑。
另外，上述脫模層的形成方法可以使用脫模層的制造中使用的公知的方法。具體來說，例如可以舉出：輥涂、凹版涂布、反轉涂布、輥刷、噴涂、氣刀涂布法、利用模涂機等的擠出涂布法等。
上述脫模層的厚度典型而言為1～200nm，優(yōu)選為5～100nm，更優(yōu)選為10～50nm。若脫模層的厚度過小，則難以剝離間隔件，因此，貼合光學用表面保護膜的作業(yè)有可能變得困難。另一方面，若過厚，則有時對光學用表面保護膜的粘合劑層的污染性造成影響。
＜光學用表面保護膜與間隔件的貼合＞
本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜是將上述光學用表面保護膜的粘合劑層與上述間隔件的脫模層貼合而成的形態(tài)。貼合可使用公知的制造方法。
＜在熒光x射線下的si－kα線強度的測定＞
對于本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜而言，根據將貼合于光學用表面保護膜的上述間隔件剝離后的粘合劑層表面的在熒光x射線下的si－kα線強度，可以測定粘合劑層表面的硅原子量。上述粘合劑層表面的在熒光x射線下的si－kα線強度為2.5kcps以下，優(yōu)選為2.4以下，更優(yōu)選為2.2以下，最優(yōu)選為2.0以下。若處于該范圍，則在將間隔件被剝離后的光學用表面保護膜貼合于被粘物(例如玻璃板)后，在將其剝離時，可以減小因粘合劑層造成的被粘物的表面的污染的影響(例如可以抑制：間隔件的脫模層中為了提高剝離性而包含的聚二甲基硅氧烷之類的有機硅酮化合物由于間隔件與光學用表面保護膜的貼合而被轉印至粘合劑層的表面，該轉印的有機硅酮化合物進而被轉印至被粘物)，因而優(yōu)選。其結果，可以防止設置于被粘物的層間填充劑(層)等其他層的剝離。
＜粘合帶的剝離力之差的測定＞
上述對被粘物的表面的污染的影響可以根據粘合帶的剝離力之差進行測定。粘合帶的剝離力之差可以通過式(1)：粘合帶的剝離力之差(n/50mm)＝f0－f(n/50mm)求出。
此處，f是如下的剝離力，即：將剝離間隔件后的光學用表面保護膜貼合于作為被粘物的玻璃板，在70℃加熱48小時后，在室溫放置1小時后剝離光學用表面保護膜，在曾貼合光學用表面保護膜的玻璃板的表面，使用2kg的輥貼合日東電工株式會社制單面粘合帶型號“no.31b”(寬19mm)，在23℃、50％rh的條件下經過20分鐘，在剝離角度180°、拉伸速度0.3m/分鐘下進行了剝離，將此時該粘合帶的剝離力(n/19mm)換算為50mm寬的條件下的測定值而得的剝離力(n/50mm)。
另外，f0是如下剝離力，即：不在玻璃板貼合光學用表面保護膜，使用2kg的輥在玻璃板的表面直接貼合日東電工株式會社單面粘合帶型號“no.31b”，在23℃、50％rh的條件下經過20分鐘，在剝離角度180°、拉伸速度0.3m/分鐘下進行了剝離，將此時的該粘合帶的剝離力(n/19mm)換算為50mm寬的條件下的測定值而得的剝離力(n/50mm)。
上述粘合帶的剝離力之差是與設置于剝離光學用表面保護膜后的光學部件上的其他層(例如層間填充劑(層))的密合性的指標，由此可以評價被粘物的表面的污染的程度。
上述粘合帶的剝離力之差優(yōu)選為4.0n/50mm以下，更優(yōu)選為3.6n/50mm以下，更進一步優(yōu)選為3.2n/mm以下，最優(yōu)選為2.8n/mm以下。若處于該范圍，則剝離光學用保護膜后的因粘合劑層造成的對被粘物表面的污染的影響小，可以防止設置于被粘物的層間填充劑(層)等其他層的剝離。
＜間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力的測定＞
對于本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜而言，將光學用表面保護膜與間隔件貼合，在23℃、50％rh條件下放置20分鐘后，通過剝離角度180°、剝離速度0.3m/分鐘的條件進行剝離，由此可以求出間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力。間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力為0.5n/50mm以下，優(yōu)選為0.4n/50mm以下，更優(yōu)選為0.3n/50mm以下，更進一步優(yōu)選為0.2n/50mm以下，最優(yōu)選為0.1n/50mm以下。另外，優(yōu)選為0.03n/50mm以上，更優(yōu)選為0.05n/50mm以上，進一步優(yōu)選為0.08n/50mm以上。若處于該范圍，則成為對上述粘合劑層的剝離性優(yōu)異，而且貼合時的作業(yè)性優(yōu)異的間隔件。
＜光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力的測定＞
對于本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜而言，利用2kg的輥將剝離間隔件后的光學用表面保護膜貼合于玻璃板的表面后，在23℃、50％rh的條件下經過20分鐘，利用剝離角度180°、拉伸速度0.3m/分鐘的條件進行剝離，由此可以測定光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力。上述光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力優(yōu)選為0.08n/25mm以下，優(yōu)選為0.07n/25mm以下，更優(yōu)選為0.06n/25mm以下，更進一步優(yōu)選為0.05n/25mm以下，最優(yōu)選為0.04n/25mm以下。另外，優(yōu)選為0.01n/25mm以上，更優(yōu)選為0.02n/25mm以上，進一步優(yōu)選為0.03n/25mm以上。若處于該范圍，則成為對玻璃等被粘物的剝離性優(yōu)異的粘合劑層。
＜利用x射線光電子能譜法(esca)的硅原子的元素比率的測定＞
對于本發(fā)明的帶間隔件的光學用表面保護膜而言，將貼合于光學用表面保護膜的上述間隔件剝離后，對粘合劑層表面利用x射線光電子能譜法進行測定，由此可以算出粘合劑層的最外表面的硅原子(si)的元素比率(原子％(atomic％))。上述粘合劑層的最外表面的硅原子(si)的元素比率(原子％)優(yōu)選為0.5以下，更優(yōu)選為0.3以下，最優(yōu)選為0.2以下。若處于該范圍，則在將剝離間隔件后的光學用表面保護膜貼合于被粘物(例如玻璃板)后，在將其剝離時，可以減小因粘合劑層造成的被粘物的表面的污染的影響(例如可以抑制：在間隔件的脫模層中為了提高剝離性而包含的聚二甲基硅氧烷之類的有機硅酮化合物由于間隔件與光學用表面保護膜的貼合而被轉印至粘合劑層的表面，該轉印的有機硅酮化合物進而被轉印至被粘物)，因而優(yōu)選。其結果，可以防止設置于被粘物的層間填充劑(層)等其他層的剝離。
在剝離本發(fā)明的上述光學用表面保護膜后設置于被粘物的其他層例如可以舉出：層間填充劑(層)。上述層間填充劑(層)是指，例如用于填充保護玻璃與液晶面板之間而提高觀察性的目的的物質，具體來說，可以舉出：svr7000系列、svr1120、svr1150、svr1320、svr1241h(dexerials公司制)、worldrock700系列、worldrock801、a－350系列、worldrockhrj－40、hrj－203、hrj－300、hrj－302(協立化學產業(yè)公司制)等。
以下，對具體表示本發(fā)明的構成和效果的實施例等進行說明，本發(fā)明不限于此。需要說明的是，實施例等中的評價項目如下述進行測定。
＜實施例1＞
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)的制備＞
在具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中投入丙烯酸2－乙基己酯(2eha、東亞合成制、丙烯酸2－乙基己酯)100重量份、丙烯酸2－羥基乙酯(hea、東亞合成制、acrycshea)4重量份、作為聚合引發(fā)劑的2，2’－偶氮二異丁腈(和光純藥制、aibn)0.2重量份、乙酸乙酯(昭和電工制、乙酸乙酯)205重量份，一邊緩慢進行攪拌一邊導入氮氣，將燒瓶內的液溫保持在63℃附近進行約4小時聚合反應，制備了(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)溶液(約35重量％)。上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)的重均分子量為65萬，tg為－68.3℃。
＜粘合劑組合物的制備＞
將上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)溶液(約35重量％)用乙酸乙酯稀釋至29重量％，相對于該溶液的(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份(固體成分)，加入六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(日本聚氨酯工業(yè)社制，coronatehx)4重量份、作為錫系催化劑的月桂酸二辛基錫(tokyofinechemicals公司制、embilizerol－1)0.015重量份、作為發(fā)生酮－烯醇互變異構的化合物的乙酰丙酮0.69重量份，保持在25℃附近進行約1分鐘混合攪拌，制備了粘合劑組合物(1)。
＜間隔件a的制作＞
將使縮丁醛樹脂(積水化學工業(yè)制、s－leckw－10)干燥而得到的樹脂100重量份溶于二甲苯(太陽化學制、キシロール)900重量份，接著加入十八烷基異氰酸酯(oharaparagiumchemical公司制、r－nco)480重量份。進而對該溶液用甲苯(出光石油化學制)進行使得固體成分達到0.3重量％的稀釋，得到了脫模劑組合物。將該脫模劑組合物涂布于厚度38μm的pet膜(三菱樹脂制、diafoilt100c38)，在130℃干燥1分鐘，制作了間隔件a。脫模層的干燥后的厚度為20nm。
＜帶間隔件的光學用表面保護膜的制作＞
將上述粘合劑組合物(1)涂布于pet基材(三菱樹脂制、diafoilt100c38、厚度38μm)的一面，在130℃加熱60秒鐘，形成厚度10μm的粘合劑層，制作了光學用表面保護膜。接著，用手壓輥在上述粘合劑層的表面貼合間隔件a的脫模層，制作了帶間隔件的光學用表面保護膜。需要說明的是，對被粘物的貼合(使用)時，除去上述間隔件后使用。
＜間隔件b的制作＞
在具備冷卻器的反應容器中加入丙烯腈(昭和電工株式會社制、丙烯腈)100重量份、甲基丙烯酸硬脂酯(三菱瓦斯化學株式會社制、sma)62.5重量份、甲基丙烯酸(三菱麗陽株式會社制、甲基丙烯酸)18重量份、1－十二烷硫醇(和光純藥株式會社制、1－十二烷硫醇)1.8重量份、過氧化苯甲酰(日油株式會社制、nyperbw)0.55重量份，利用甲苯(出光石油化學制)稀釋至24重量％，在氮氣流下于70℃反應7小時。將所得到的液體利用甲苯稀釋至0.3重量％，得到了脫模劑組合物后，與間隔件a同樣地制作了間隔件b。
＜間隔件c＞
使用東洋紡制的東洋紡酯膜tn101(厚度38μm)。構成間隔件c的脫模層由包含季戊四醇脂肪酸酯的脫模劑組合物形成。
＜間隔件d的制作＞
在具備冷卻器的反應容器中加入二甲苯(太陽化學制、キシロール)200重量份、十八烷基異氰酸酯(oharaparagiumchemical公司制、r－nco)600重量份，一邊攪拌一邊進行加熱，從二甲苯開始回流的時點起，一點一點地添加聚乙烯醇(kuraray制、kuraraypoval205)100重量份，該添加在2小時內每隔10分鐘添加少量。聚乙烯醇的添加結束后，進而進行2小時的回流，結束反應。將反應混合物冷卻至約80℃后，加入甲醇中，結果反應產物作為白色沉淀而析出，因而重復進行幾次濾取該沉淀，加入二甲苯140重量份，進行加熱使之完全溶解后，再加入甲醇使之沉淀的操作，然后，將沉淀用甲醇進行洗滌，將干燥粉碎而得到的粉末用水稀釋至0.3重量％。使用所得到的溶液，與間隔件a同樣地進行，制作了間隔件d。
＜間隔件e＞
使用了藤森工業(yè)制、filmbyna50e－0010nsd(厚度50μm)。構成間隔件e的脫模層由包含季戊四醇脂肪酸酯的脫模劑組合物形成。
＜間隔件f＞
加入硅酮脫模劑(信越化學工業(yè)制、ks－847h)100重量份、硅酮固化催化劑(信越化學工業(yè)制、cat－pl－50t)3.3重量份，利用甲苯(出光石油化學制)、己烷(丸善石油化學制、正己烷)、甲乙酮(出光興產制、mek)以1：2：1的重量比而成的溶劑稀釋至0.3重量％，得到了脫模劑組合物。使用所得到的脫模劑組合物，與間隔件a同樣地制作了間隔件f。
＜實施例2～8、比較例1～3、空白1＞
如表1和2所示，改變構成(甲基)丙烯酸系聚合物的單體成分、上述間隔件的處理，除此以外，以與實施例1同樣的方法，制作了實施例2～8和比較例1～3的帶間隔件的光學用表面保護膜。作為空白1，制作了不使用間隔件的光學用表面保護膜。需要說明的是，鐵催化劑使用三(乙酰丙酮)合鐵(日本化學產業(yè)社制，商品名“ナーセム第二鉄”)。
＜測定·評價＞
以下，記載具體的配合量和測定評價方法，其結果記載于表1和2。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的重均分子量(mw)的測定＞
所制作的聚合物的重均分子量利用gpc(凝膠滲透色譜)進行測定。以下示出條件。
裝置：東曹社制、hlc－8220gpc
樣品柱：東曹社制、tskguardcolumnsuperhz－h(huán)(1根)+tskgelsuperhzm－h(huán)(2根)
參比柱；東曹社制、tskgelsuperh－rc(1根)
流量：0.6ml/min
注入量：10μl
柱溫度：40℃
洗脫液：thf
注入試樣濃度：0.2重量％
檢測器：差示折射計
需要說明的是，重均分子量通過聚苯乙烯換算算出。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化轉變溫度(tg)的測定＞
對于玻璃化轉變溫度(tg)(℃)而言，基于各單體的均聚物的玻璃化轉變溫度tgn(℃)使用下述的文獻值，通過下述式求出。
式：1/(tg+273)＝σ[wn/(tgn+273)]
(式中，tg(℃)表示共聚物的玻璃化轉變溫度，wn(－)表示各單體的重量分率，tgn(℃)表示基于各單體的均聚物的玻璃化轉變溫度，n表示各單體的種類。)
丙烯酸2－乙基己酯(2eha)：－70℃
丙烯酸羥乙酯(hea)：－15℃
丙烯酸4－羥基丁酯(hba)：－32℃
丙烯酸(aa)：106℃
需要說明的是，文獻值參照“丙烯酸系樹脂的合成·設計和新用途開發(fā)(アクリル樹脂の合成·設計と新用途開発)”(中央經營開發(fā)中心出版部發(fā)行)。
＜si－kα線強度的測定＞
根據從所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜剝離間隔件后的、粘合劑層表面的在熒光x射線下的si－kα線強度，利用以下的條件測定粘合劑層表面的硅原子量。
裝置：rigaku制xrfzsx100e
x射線源：縱型rh管
分析面積：
分析元素：si
分光結晶：rx4
輸出功率：50kv，70ma
對試樣
另外，對于不使用間隔件的光學用表面保護膜(空白1)的粘合劑層表面，也利用上述的條件測定了在熒光x射線下的si－kα線強度。其結果，對于上述硅原子量而言，即便粘合劑層、脫模層中不使用硅酮系材料，也會檢測到聚酯膜、基材的硅原子(例如pet膜中的填料的二氧化硅(sio2)等)，因此si－kα線強度不為0kcps，在不使用間隔件的光學用表面保護膜(空白1)的粘合劑層中為1.9kcps。
剝離上述間隔件后的、粘合劑層表面的si－kα線強度優(yōu)選為2.5kcps以下。若處于該范圍，則將剝離間隔件后的光學用表面保護膜從玻璃板剝離后的、因粘合劑層造成的玻璃的表面的污染的影響小(例如可抑制：間隔件的脫模層中為了提高剝離性而包含的聚二甲基硅氧烷之類的有機硅酮化合物由于間隔件與光學用表面保護膜的貼合而被轉印至粘合劑層的表面，該轉印的有機硅酮化合物進而被轉印至被粘物)，因此可以防止例如層間填充劑(層)等其他層從被粘物剝離。
＜粘合帶的剝離力之差的測定＞
從所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜剝離間隔件后貼合于玻璃板(松浪硝子制、藍板磨邊品(青板縁磨品)of1”)，在烘箱中在70℃加熱48小時。從烘箱取出，在室溫放置1小時后，剝離光學用表面保護膜，使用2kg的輥在曾貼合光學用表面保護膜的面貼合丙烯酸系粘合帶(日東電工社制、no.31b、寬19mm)，在23℃、相對濕度50％的環(huán)境放置20分鐘左右。利用0.3m/分鐘的速度以180°的角度撕去，測定了剝離力，換算為50mm寬的條件下的測定值，將其作為下述式(1)的f的值。
另外，不貼合光學用表面保護膜，在玻璃板上直接貼合no.31b，同樣地測定剝離力，換算為50mm寬的條件下的測定值，作為下述式(1)的f0的值。該情況下，no.31b的剝離力為18.7n/50mm。
然后，將這些粘合帶的剝離力之差利用下述式(1)進行計算。
式(1)：粘合帶的剝離力之差(n/50mm)＝f0－f(n/50mm)
上述粘合帶剝離力之差優(yōu)選為4.0n/50mm以下。該值越小，則剝離光學用保護膜后的、因粘合劑層造成的玻璃的表面的污染的影響小，例如可以防止設置于玻璃表面的層間填充劑(層)等其他層的剝離。
＜間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力的測定＞
將所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜切割成50mm寬，將與附著有粘合劑層的面相反的面(聚酯膜)固定于sus板(sus304ba)。在23℃、相對濕度50％的環(huán)境中放置20分鐘左右后，將間隔件利用0.3m/分鐘的速度以180°的角度撕去，測定了間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力(n/50mm)。
間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力優(yōu)選為0.5n/50mm以下。若處于該范圍，則成為對上述粘合劑層的剝離性優(yōu)異，而且貼合時的作業(yè)性優(yōu)異的間隔件。
＜間隔件剝離性的評價＞
對于間隔件剝離性的評價而言，將上述間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力為0.5n/50mm以下作為良好(○)，將大于0.5n/50mm作為不良(×)。
＜光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力的測定＞
將所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜切割為25mm的寬度，剝離間隔件，使用2kg的輥貼合于玻璃板(松浪硝子制、藍板磨邊品(青板縁磨品)、of1)，在23℃、相對濕度50％的環(huán)境下放置20分鐘左右。將光學用表面保護膜利用0.3m/分鐘的速度以180°的角度撕去，測定了光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力(n/25mm)。
上述光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力優(yōu)選為0.08n/25mm以下。若處于該范圍，則成為具有對玻璃等被粘物的剝離性優(yōu)異的粘合劑層的光學用保護膜。
＜利用x射線光電子能譜法(esca)的硅原子的元素比率的測定＞
根據從所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜剝離間隔件后的、粘合劑層表面的利用x射線光電子能譜法的測定，利用以下的條件算出粘合劑層的最外表面的硅原子(si)的元素比率。
裝置：ulvacphi制phiquanterasxm
x射線源：單色alkα
xraysetting：
光電子提取角：相對于試樣表面為45°。
適當切取所得到的帶間隔件的光學用表面保護膜，進行x射線光電子能譜法的測定，針對硅原子算出元素比率(原子％)。
對于上述硅原子，元素比率優(yōu)選為0.5原子％以下。若處于該范圍，則將剝離間隔件后的光學用表面保護膜從玻璃板剝離后的、因粘合劑層造成的玻璃的表面的污染的影響小(例如可以抑制：間隔件的脫模層中為了提高剝離性而包含的聚二甲基硅氧烷之類的有機硅酮化合物由于間隔件與光學用表面保護膜的貼合而被轉印至粘合劑層的表面，該轉印的有機硅酮化合物進而被轉印至被粘物)，因此例如可以防止層間填充劑(層)等其他層從被粘物剝離。
＜間隔件的脫模層的表面和間隔件的基材的表面的在熒光x射線下的si－kα線強度之差的測定＞
利用上述的si－kα線強度的測定的條件，對間隔件的脫模層的表面的在熒光x射線下的si－kα線強度(a)與間隔件的不具有脫模層的基材的表面(未處理面)的在熒光x射線下的si－kα線強度(b)進行測定，求出其差[(b)－(a)]。其結果，間隔件c的上述si－kα線強度(a)為3.78kcps，間隔件c的上述si－kα線強度(b)為3.98kcps，因而其差[(b)－(a)]為0.20kcps。另外，間隔件e的上述si－kα線強度(a)為6.52kcps，間隔件e的上述si－kα線強度(b)為6.73kcps，因而其差[(b)－(a)]為0.21kcps。另外，間隔件f的上述si－kα線強度(a)為75.5kcps，間隔件f的上述si－kα線強度(b)為7.36kcps，因而其差[(b)－(a)]為68.14kcps。
【表1】
【表2】
根據上述表2的結果，確認到在全部的實施例中，si－kα線強度為2.5kcps以下，因此耐污染性優(yōu)異，此外，間隔件的對光學用表面保護膜的剝離力為0.5n/50mm以下，因此貼合時的作業(yè)性優(yōu)異。與此相對，在比較例1和3中，si－kα線強度大于2.5kcps，在比較例2中，間隔件的對粘合劑層的剝離力大于0.5n/50mm，確認到比較例1～3相比于實施例，這些性能差。
此外，根據上述表2的結果，確認到在全部的實施例中，粘合帶的剝離力之差為4.0n/50mm以下，因此剝離了光學用保護膜時的因粘合劑層造成的玻璃的表面的污染的影響小，因此可以防止例如層間填充劑(層)等其他層的剝離，并且，表面保護膜的對玻璃的剝離力為0.08n/25mm以下，因此對玻璃的剝離性優(yōu)異。另外，間隔件剝離性良好。此外，粘合劑層的最外表面的硅原子(si)的元素比率為0.5原子％以下，因此確認到耐污染性優(yōu)異。與此相對，在比較例1和3中，粘合帶的剝離力之差大于4.0n/50mm，此外，粘合劑層的最外表面的硅原子的元素比率為2.0原子％以上，在比較例2中，光學用表面保護膜的對玻璃的剝離力大于0.08n/25mm，并且間隔件剝離性不良，確認到比較例1～3相比于實施例，這些性能差。
符號說明
1：間隔件
2：光學用表面保護膜
3：帶間隔件的光學用表面保護膜
11：基材
12：脫模層
21：粘合劑層
22：聚酯膜