本發(fā)明涉及光學(xué),特別涉及一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件及其制備方法。
背景技術(shù):
1、微孔光學(xué)元件(micro?pore?optics,簡稱mpo)是一種基于龍蝦眼仿生學(xué)設(shè)計(jì)的x射線掠入射聚焦光學(xué)元件。它通常是由鉛玻璃材質(zhì)制作而成的球面薄片,內(nèi)部整齊排列著上百萬個微米級的正方形通孔(即微孔),具有視場大、重量輕的特點(diǎn),是目前能在工程上有效實(shí)現(xiàn)均勻、大視場的x射線聚焦的核心元件。
2、微孔光學(xué)元件的x射線成像原理要求元件上的所有微孔指向同一個中心點(diǎn),同時出于對光學(xué)元件有效面積等性能指標(biāo)的考慮,對鏡片的厚度提出了限制。在實(shí)際應(yīng)用過程中,厚度低的微孔光學(xué)元件受到外力影響容易產(chǎn)生形變,從而導(dǎo)致微孔指向發(fā)生變化,進(jìn)而使得元件的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(point?spread?function,簡稱psf)形變,對x射線的成像質(zhì)量降低。
3、在現(xiàn)有技術(shù)中尚缺乏解決微孔光學(xué)元件整體形變問題的方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對上述問題,本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的微孔光學(xué)元件易于受到外力發(fā)生形變的問題,從而提供一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件及其制備方法。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取以下技術(shù)方案:
3、本發(fā)明提供了一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,包括外層微孔光學(xué)元件1和內(nèi)層微孔光學(xué)元件2;所述外層微孔光學(xué)元件1和內(nèi)層微孔光學(xué)元件2均為球面薄片,且所述外層微孔光學(xué)元件1的內(nèi)表面貼合在所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的外表面;
4、所述外層微孔光學(xué)元件1的厚度大于所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的厚度;
5、所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔的數(shù)量少于所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔的數(shù)量,且所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔的橫截面的邊長大于所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔的橫截面的邊長;
6、所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔與所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔均指向同一球心位置。
7、上述技術(shù)方案中,所述外層微孔光學(xué)元件1的厚度大于等于1毫米且小于等于5毫米;所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的厚度大于等于0.1毫米且小于等于2毫米。
8、上述技術(shù)方案中,所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔的內(nèi)壁包含有用于反射x射線的膜;所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔的內(nèi)壁包含有用于反射x射線的膜。
9、上述技術(shù)方案中,所述外層微孔光學(xué)元件1的外表面包含有用于遮擋除x射線之外的其他波段的光的膜。
10、本發(fā)明還提供了一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,用于制備所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,方法包括:
11、制備平面狀的第一微孔光學(xué)元件101;其中,所述第一微孔光學(xué)元件101的厚度大于等于1毫米且小于等于5毫米;所述第一微孔光學(xué)元件101中的微孔的橫截面邊長大于等于80微米且小于等于500微米;
12、制備平面狀的第二微孔光學(xué)元件102;其中,所述第二微孔光學(xué)元件102的厚度大于等于0.1毫米且小于等于2毫米;所述第二微孔光學(xué)元件102中的微孔的橫截面邊長大于等于10微米且小于等于30微米;
13、對所述第一微孔光學(xué)元件101進(jìn)行球面熱成型,然后對熱成型后的球面內(nèi)表面進(jìn)行研磨加工,以使得球面內(nèi)表面符合設(shè)計(jì)曲率要求,得到球面薄片狀的外層微孔光學(xué)元件1;
14、以所述外層微孔光學(xué)元件1的內(nèi)表面為襯底,對所述第二微孔光學(xué)元件102進(jìn)行球面熱成型,得到與所述外層微孔光學(xué)元件1內(nèi)表面相貼合的內(nèi)層微孔光學(xué)元件2;
15、對所述外層微孔光學(xué)元件1和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,得到雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件。
16、上述技術(shù)方案中,所述對所述外層微孔光學(xué)元件1和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,包括:
17、對所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔的內(nèi)壁鍍用于反射x射線的膜;
18、對所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔的內(nèi)壁鍍用于反射x射線的膜。
19、上述技術(shù)方案中,所述對所述外層微孔光學(xué)元件1和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,還包括:
20、對所述外層微孔光學(xué)元件1的外表面鍍用于遮擋除x射線之外的其他波段的光的膜。
21、本發(fā)明又提供了一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,用于制備所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,方法包括:
22、制備平面狀的第一微孔光學(xué)元件101;其中,所述第一微孔光學(xué)元件101的厚度大于等于1毫米且小于等于5毫米;所述第一微孔光學(xué)元件101中的微孔的橫截面邊長大于等于80微米且小于等于500微米;
23、制備平面狀的第二微孔光學(xué)元件102;其中,所述第二微孔光學(xué)元件102的厚度大于等于0.1毫米且小于等于2毫米;所述第二微孔光學(xué)元件102中的微孔的橫截面邊長大于等于10微米且小于等于30微米;
24、將所述第一微孔光學(xué)元件101與所述第二微孔光學(xué)元件102貼合在一起,得到第一結(jié)合體;
25、對所述第一結(jié)合體進(jìn)行球面熱成型,得到第二結(jié)合體;其中,所述第二結(jié)合體包括外層微孔光學(xué)元件1和內(nèi)層微孔光學(xué)元件2,所述外層微孔光學(xué)元件1和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2均為球面薄片,且所述外層微孔光學(xué)元件1的內(nèi)表面貼合在所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的外表面;所述外層微孔光學(xué)元件1由所述第一微孔光學(xué)元件101熱成型得到,所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2由所述第二微孔光學(xué)元件102熱成型得到;
26、對所述第二結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,得到雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件。
27、上述技術(shù)方案中,所述對所述第二結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,包括:
28、對所述外層微孔光學(xué)元件1的微孔的內(nèi)壁鍍用于反射x射線的膜;
29、對所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件2的微孔的內(nèi)壁鍍用于反射x射線的膜。
30、上述技術(shù)方案中,所述對所述第二結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,還包括:
31、對所述外層微孔光學(xué)元件1的外表面鍍用于遮擋除x射線之外的其他波段的光的膜。
32、本發(fā)明由于采取以上技術(shù)方案,其具有以下優(yōu)點(diǎn):
33、本發(fā)明的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件能夠在保證有效面積等x射線光學(xué)性能的前提下增大元件的厚度,從而有效減少微孔光學(xué)元件的整體形變,進(jìn)一步優(yōu)化微孔光學(xué)元件的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù),提高x射線成像角分辨率。
1.一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,包括外層微孔光學(xué)元件(1)和內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2);所述外層微孔光學(xué)元件(1)和內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)均為球面薄片,且所述外層微孔光學(xué)元件(1)的內(nèi)表面貼合在所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)的外表面;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,所述外層微孔光學(xué)元件(1)的厚度大于等于1毫米且小于等于5毫米;所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)的厚度大于等于0.1毫米且小于等于2毫米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,所述外層微孔光學(xué)元件(1)的微孔的內(nèi)壁包含有用于反射x射線的膜;所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)的微孔的內(nèi)壁包含有用于反射x射線的膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,所述外層微孔光學(xué)元件(1)的外表面包含有用于遮擋除x射線之外的其他波段的光的膜。
5.一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,用于制備權(quán)利要求1至4之一所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,方法包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,其特征在于,所述對所述外層微孔光學(xué)元件(1)和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)的結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,其特征在于,所述對所述外層微孔光學(xué)元件(1)和所述內(nèi)層微孔光學(xué)元件(2)的結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,還包括:
8.一種雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,用于制備權(quán)利要求1至4之一所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件,其特征在于,方法包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,其特征在于,所述對所述第二結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的雙層結(jié)構(gòu)的微孔光學(xué)元件的制備方法,其特征在于,所述對所述第二結(jié)合體進(jìn)行沉積鍍膜,還包括: