專利名稱:一種矩陣調強準直器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬放射治療領域，涉及醫(yī)用電子直線加速器、調強放射治療、多葉準直器。背景技術：
放射治療技術已進入調強放射治療階段，現有的多種調強放射治療技術，在保證 精度的前提下，調強放射治療追求較高的治療效率。

發(fā)明內容
本發(fā)明目的在于提供一種矩陣調強準直器，具有較高的調強效率。
本發(fā)明采取的技術方案是
一種矩陣調強準直器，由一組內側與點光源發(fā)出的射線平行的射野邊界屏蔽體和 兩層多組每組兩個，四個側壁與點光源發(fā)出射線平行在等中心平面投影為矩形，在點光源 發(fā)出射線方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構成， 其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個相對矩陣調強準直器位置固定，另一 個可在兩個位置間換位，處于其中一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形 投影重合(5)，處于另一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影錯開(6) 且兩個矩形投影有一個邊重合；射野邊界屏蔽體和相對準直器不動的固體屏蔽體(2)規(guī) 則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)組成的 矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射 野(3)總面積之和構成矩陣調強準直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調強準直器整 體相對自身移動一個位置后，其射野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野 (3)可相互轉換；調強照射時可在兩個位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個固 體屏蔽體(2)投影面積重合位置時光束可從相鄰矩形射野(3)通過，通過劑量達到計劃要 求時移至與同組另一個固體屏蔽體(2)投影面積錯開位置，阻擋射線經相鄰矩形射野(3) 通過；調強照射分兩次進行，第一次照射時矩陣調強準直器處于初始位置，第二次照射在調 強準直器相對自身移動一個位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進行。
本發(fā)明采用上述方案后，提供了一種矩陣調強準直器，在調強放射治療時一個照 射野只需要照射兩次，具有較高的調強效率。


圖1是本發(fā)明原理示意圖。
圖2是本發(fā)明中實施例示意圖
圖3是本發(fā)明中實施例示意圖
具體實施方式
下面結合附圖及實施例詳述本發(fā)明，但本發(fā)明不僅限于所述實施例。[0011]附圖中各數字含義說明(1)射線源；(2)固體屏蔽體；(3)矩形射野；(4)矩形屏 蔽區(qū)；(5)矩形投影錯開；(6)矩形投影重合；(7)等中心平面處最大射野。
如圖1、2、3所示，一種矩陣調強準直器，由一組內側與點光源發(fā)出的射線平行的 射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個，四個側壁與點光源發(fā)出射線平行在等中心平面投影 為矩形，在點光源發(fā)出射線方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體 屏蔽體(2)構成，其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個相對矩陣調強準直器 位置固定，另一個可在兩個位置間換位，處于其中一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中 心平面的矩形投影重合(5)，處于另一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形 投影錯開(6)且兩個矩形投影有一個邊重合；射野邊界屏蔽體和相對準直器不動的固體屏 蔽體(2)規(guī)則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野 (3)組成的矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4) 與矩形射野(3)總面積之和構成矩陣調強準直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調強 準直器整體相對自身移動一個位置后(圖2、3所示矩陣調強準直器以射線源點到等中心點 的連接線為軸心旋轉(圖2所示旋轉180°、圖3所示旋轉90° (圖3所示矩陣調強準直 器在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)為正方形))，其射 野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉換；調強照射時可在 兩個位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個固體屏蔽體(2)投影面積重合位置 時光束可從相鄰矩形射野(3)通過，通過劑量達到計劃要求時移至與同組另一個固體屏蔽 體(2)投影面積錯開位置，阻擋射線經相鄰矩形射野(3)通過；調強照射分兩次進行，第一 次照射時矩陣調強準直器處于初始位置，第二次照射在調強準直器相對自身移動一個位置 使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進行。
如圖2、3所示，圖示中上圖為第一次照射時矩陣調強準直器在等中心處投影示意 圖，中圖為第二次照射時矩陣調強準直器在等中心處投影示意圖，下圖為兩次照射形成等 中心平面處最大射野(7)。
權利要求
一種矩陣調強準直器，其特征在于所述的矩陣調強準直器由一組內側與點光源發(fā)出的射線平行的射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個，四個側壁與點光源發(fā)出射線平行在等中心平面投影為矩形，在點光源發(fā)出射線方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構成，其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個相對矩陣調強準直器位置固定，另一個可在兩個位置間換位，處于其中一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影重合(5)，處于另一個位置時，兩個固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影錯開(6)且兩個矩形投影有一個邊重合；射野邊界屏蔽體和相對準直器不動的固體屏蔽體(2)規(guī)則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)組成的矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)總面積之和構成矩陣調強準直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調強準直器整體相對自身移動一個位置后，其射野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉換；調強照射時可在兩個位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個固體屏蔽體(2)投影面積重合位置時光束可從相鄰矩形射野(3)通過，通過劑量達到計劃要求時移至與同組另一個固體屏蔽體(2)投影面積錯開位置，阻擋射線經相鄰矩形射野(3)通過；調強照射分兩次進行，第一次照射時矩陣調強準直器處于初始位置，第二次照射在調強準直器相對自身移動一個位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進行。
專利摘要
本發(fā)明的一種矩陣調強準直器，由一組內側與點光源發(fā)出的射線平行的射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個，四個側壁與點光源發(fā)出射線平行在等中心平面投影為矩形，在點光源發(fā)出射線方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構成，矩陣調強準直器整體相對自身移動一個位置后，其在等中心平面射野范圍內所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉換；調強放射治療時照射分兩次進行，第一次照射時矩陣調強準直器處于初始位置，第二次照射在調強準直器相對自身移動一個位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進行。本發(fā)明屬放射治療領域，提供了一種點陣調強準直器，在調強放射治療時一個照射野只需要照射兩次，具有較高的調強效率。
文檔編號G21K1/02GKCN101989468SQ200910109264
公開日2011年3月23日 申請日期2009年8月6日
發(fā)明者張遠華, 張霄麗, 肖遠念, 連衛(wèi)東, 高榮水, 黃文峰 申請人:連衛(wèi)東導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan