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激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備及方法

文檔序號(hào):76887閱讀:422來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光驅(qū)動(dòng)的粒子束輻照技術(shù),其中,利用脈沖激光照射靶以獲得激光驅(qū)動(dòng)粒子射線并將激光驅(qū)動(dòng)粒子射線用作用于分析或其他目的的輻照粒子射線。具體而言,本發(fā)明涉及激光驅(qū)動(dòng)的粒子束輻照設(shè)備,且還涉及激光驅(qū)動(dòng)的粒子束輻照方法,這種方法在向被輻照對(duì)象傳送激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的同時(shí)控制激光驅(qū)動(dòng)粒子射線的空間分布和能量分布。
背景技術(shù)
已經(jīng)提出了這樣一種粒子束輻照技術(shù),該技術(shù)使用諸如同步加速器這樣的加速器加速諸如碳的物質(zhì)的質(zhì)子或帶電粒子,以產(chǎn)生加速粒子束并使加速粒子束停留在患者體內(nèi)以殺死癌細(xì)胞(參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)I :日本專(zhuān)利特開(kāi)公告No. 2006-341069)。這種加速器驅(qū)動(dòng)的粒子束輻照技術(shù)需要占據(jù)較大安裝空間且涉及大量安裝或維護(hù)成本的大型加速器設(shè)施。因此,在近來(lái)的技術(shù)中,妨礙了廣泛的使用,且僅在有限數(shù)量的設(shè)施中使用該技術(shù)。
鑒于這些情況,近年來(lái)設(shè)想出一種激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子束輻照技術(shù)(參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)2和3 :日本專(zhuān)利特開(kāi)公告No. 2007-531556和No. 2008-022994)。激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子束輻照技術(shù)例如利用質(zhì)子射線輻照患者的癌變部分,該質(zhì)子射線是通過(guò)用高強(qiáng)度超短脈沖激光(以下簡(jiǎn)稱(chēng)為激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線)照射金屬或聚合物薄膜獲得的。使用激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線將不需要大型加速器設(shè)施并減小設(shè)備的尺寸和成本,這能夠使諸如質(zhì)子放射治療這樣的質(zhì)子輻照技術(shù)得到更廣泛的應(yīng)用。
激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線具有從靶以發(fā)散角發(fā)射并在空間上擴(kuò)展的特性。因此,在將激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線用于放射治療時(shí),應(yīng)當(dāng)減小包圍病灶的正常組織中的暴露劑量。亦即,在將激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線傳輸?shù)讲≡畹倪^(guò)程中需要會(huì)聚激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線的操作。
由于激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線是以偏轉(zhuǎn)角從靶發(fā)射的,所以在傳輸?shù)讲≡畹倪^(guò)程中射線的強(qiáng)度往往會(huì)減小。激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線強(qiáng)度減小就無(wú)法將激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線用于放射治療,或增加了照射時(shí)間,這樣會(huì)給保持固定位置和姿勢(shì)的患者帶來(lái)負(fù)擔(dān)。

發(fā)明內(nèi)容
考慮到上述情況做出了本發(fā)明,本發(fā)明的目的在于提供一種激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備和激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,該設(shè)備和方法能夠利用激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線進(jìn)行放射治療并增強(qiáng)激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的會(huì)聚性,同時(shí)減輕激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線向患者病灶傳輸?shù)倪^(guò)程中激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線強(qiáng)度的減小。
根據(jù)本發(fā)明,在一個(gè)方面中,可以通過(guò)提供一種激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)以上和其他目的,所述激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備包括
粒子束發(fā)生器,其利用脈沖激光輻照靶,以發(fā)射激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線;
形成傳輸路徑的束會(huì)聚單元,所述傳輸路徑將所發(fā)射的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線引導(dǎo)至待輻照的對(duì)象,并在空間上會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線;[0010]能量選擇器,其選擇所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量和能量寬度;
輻照端口,其使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線掃描待輻照的對(duì)象,以調(diào)節(jié)對(duì)象中的輻照位置;以及
輻照控制器,其控制所述粒子束發(fā)生器、所述束會(huì)聚單元、所述能量選擇器和所述輻照端口的操作;
其中,所述束會(huì)聚單元在所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的軌跡上產(chǎn)生磁場(chǎng)并通過(guò)所述磁場(chǎng)會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)粒子射線,所述磁場(chǎng)迫使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線中偏離軌跡的中心的發(fā)散分量返回到該軌跡的中心。
在這一方面中,可以采用以下實(shí)施例或模式。
所述束會(huì)聚單元可以設(shè)置于所述粒子束發(fā)生器與所述能量選擇器之間。
所述束會(huì)聚單元可以包括由永磁體制成的多極磁體,且所述多極磁體產(chǎn)生所述磁場(chǎng)。沿著所述束會(huì)聚單元的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑設(shè)置多個(gè)多極磁體,且至少一個(gè)所述多極磁體被設(shè)置為是可移動(dòng)的。
所述束會(huì)聚單元可以包括角度準(zhǔn)直器,所述角度準(zhǔn)直器設(shè)置于所述多極磁體與所述粒子束發(fā)生器的靶之間并阻擋所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的廣角分量以避免其到達(dá)所述多極磁體。
所述能量選擇器可以配置用于在激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑中產(chǎn)生根據(jù)激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的動(dòng)量偏轉(zhuǎn)激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的磁場(chǎng),選擇具有特定軌跡的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,從所述傳輸路徑去除剩余的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,以便選擇激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量和能量寬度。
所述能量選擇器可以裝備有電磁體和能量準(zhǔn)直器,所述電磁體在激勵(lì)電流的控制下產(chǎn)生可變磁場(chǎng),所述能量準(zhǔn)直器設(shè)置為阻擋由所述可變磁場(chǎng)偏轉(zhuǎn)的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑并形成狹縫,所述狹縫選擇性地允許具有特定軌跡的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線通過(guò)所述狹縫??梢云谕芰窟x擇器的能量準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)狹縫的尺寸。
所述激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備還可以包括能量分布會(huì)聚單元,其形成激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑并會(huì)聚通過(guò)傳輸路徑的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量分布以提供處于特定能量的峰。
所述能量分布會(huì)聚單元可以包括相位旋轉(zhuǎn)腔單元,所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元形成激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑并在施加高頻電壓的條件下在傳輸路徑中產(chǎn)生高頻電場(chǎng),在所述高頻電場(chǎng)中出現(xiàn)聚束(bunch)中的質(zhì)子被加速的狀態(tài)和聚束中的質(zhì)子被減速的狀態(tài),以將所述激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線的能量分布會(huì)聚到特定能量,且其中所述輻照控制器調(diào)節(jié)施加到所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元的高頻電壓的相位以調(diào)節(jié)所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量分布的能量峰的位置。
所述能量分布會(huì)聚單元的所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元可以包括形成所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑的外腔和在所述外腔中成行間隔開(kāi)的多個(gè)內(nèi)腔,并向所述內(nèi)腔施加高頻電壓,其中在相鄰內(nèi)腔之間的間隙中形成高頻電場(chǎng),以將質(zhì)子束的能量分布會(huì)聚在所述外腔中的聚束中的質(zhì)子中在與施加到所述內(nèi)腔的高頻電壓的相位同步的時(shí)刻進(jìn)入所述間隙的質(zhì)子的能量周?chē)?br>可以期望所述輻照控制器向所述能量分布會(huì)聚單元的內(nèi)腔施加脈沖寬度壓縮電壓,以在相鄰內(nèi)腔之間的間隙中產(chǎn)生高頻電場(chǎng),所述脈沖寬度壓縮電壓被定義為
權(quán)利要求
1.一種激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,包括 粒子束發(fā)生器,其利用脈沖激光輻照靶,以發(fā)射激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線; 形成傳輸路徑的束會(huì)聚單元,該傳輸路徑將所發(fā)射的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線引導(dǎo)至待輻照的對(duì)象,并在空間上會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線; 能量選擇器,其提供于所述束會(huì)聚單元的出口處,并適于從所述束會(huì)聚單元會(huì)聚的具有連續(xù)能量分布的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線中選擇具有特定能量和特定能量寬度的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線; 輻照端口,其使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線掃描待輻照的對(duì)象,以調(diào)節(jié)該對(duì)象中的輻照位置;以及 輻照控制器,其控制所述粒子束發(fā)生器、所述束會(huì)聚單元、所述能量選擇器和所述輻照端口的操作; 其中,所述束會(huì)聚單元在所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的軌跡上產(chǎn)生磁場(chǎng)并通過(guò)所述磁場(chǎng)會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,所述磁場(chǎng)迫使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線中偏離所述軌跡的中心的發(fā)散分量返回到所述軌跡的所述中心。
2.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述束會(huì)聚單元設(shè)置于所述粒子束發(fā)生器與所述能量選擇器之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述束會(huì)聚單元包括由永磁體制成的多極磁體,且所述多極磁體產(chǎn)生所述磁場(chǎng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中沿著所述束會(huì)聚單元的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑設(shè)置多個(gè)所述多極磁體,且至少一個(gè)所述多極磁體被設(shè)置為是可移動(dòng)的。
5.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述束會(huì)聚單元包括角度準(zhǔn)直器,所述角度準(zhǔn)直器設(shè)置于所述多極磁體與所述粒子束發(fā)生器的所述靶之間并阻擋所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的廣角分量以避免其到達(dá)所述多極磁體。
6.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量選擇器被配置用于在激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述傳輸路徑中產(chǎn)生根據(jù)激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的動(dòng)量偏轉(zhuǎn)該激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的磁場(chǎng),選擇具有特定軌跡的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,并從所述傳輸路徑去除剩余的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,以便選擇激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量和能量寬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量選擇器被設(shè)置有電磁體和能量準(zhǔn)直器,所述電磁體在激勵(lì)電流的控制下產(chǎn)生可變磁場(chǎng),所述能量準(zhǔn)直器被設(shè)置為阻擋由所述可變磁場(chǎng)偏轉(zhuǎn)的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述傳輸路徑并形成狹縫,所述狹縫選擇性地允許具有特定軌跡的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線通過(guò)所述狹縫。
8.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量選擇器的所述能量準(zhǔn)直器調(diào)節(jié)所述狹縫的尺寸。
9.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,還包括能量分布會(huì)聚單元,其形成所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述傳輸路徑并會(huì)聚通過(guò)所述傳輸路徑的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量分布,以提供處于特定能量的峰。
10.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量分布會(huì)聚單元包括相位旋轉(zhuǎn)腔單元,所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元形成所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的傳輸路徑,并且在施加高頻電壓的條件下在所述傳輸路徑中產(chǎn)生高頻電場(chǎng),在所述高頻電場(chǎng)中發(fā)生聚束中的粒子被加速的狀態(tài)和聚束中的粒子被減速的狀態(tài),以將所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述能量分布會(huì)聚到特定能量,且其中所述輻照控制器調(diào)節(jié)待施加到所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元的所述高頻電壓的所述相位,以調(diào)節(jié)所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述能量分布的能量峰的位置。
11.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量分布會(huì)聚單元的所述相位旋轉(zhuǎn)腔單元包括外腔和多個(gè)內(nèi)腔,所述外腔形成所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述傳輸路徑,而所述多個(gè)內(nèi)腔在所述外腔中成行地間隔開(kāi)且被施加有高頻電壓,其中在相鄰內(nèi)腔之間的間隙中形成高頻電場(chǎng),以將粒子束的所述能量分布會(huì)聚在所述外腔中的聚束中的所述粒子中在與施加到所述內(nèi)腔的所述高頻電壓的所述相位同步的時(shí)刻進(jìn)入所述間隙的粒子的所述能量周?chē)?br>12.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述輻照控制器向所述能量分布會(huì)聚單元的所述內(nèi)腔施加脈沖寬度壓縮電壓,以在相鄰內(nèi)腔之間的所述間隙中產(chǎn)生高頻電場(chǎng),所述脈沖寬度壓縮電壓被定義為
Ε0β20γΙ φ-ηι2^/Ε20
Q ^l-Tn2Ci IEl + fL/c 其中f是待施加到所述內(nèi)腔的高頻電壓的頻率,L是從所述靶中的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的發(fā)射點(diǎn)到相鄰內(nèi)腔之間的所述間隙的距離,βο和Y ο是洛倫茲因子,Etl是所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的總能量,c是光速,m是所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的質(zhì)量,q是所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的電荷。
13.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述能量分布會(huì)聚單元設(shè)置于所述束會(huì)聚單元與所述能量選擇器之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,還包括束強(qiáng)度監(jiān)測(cè)單元,所述束強(qiáng)度監(jiān)測(cè)單元判斷具有由所述能量分布會(huì)聚單元會(huì)聚的所述能量分布且具有由所述能量選擇器選擇的特定能量寬度的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的強(qiáng)度是否正常,其中,當(dāng)所述束強(qiáng)度監(jiān)測(cè)單元判定所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述強(qiáng)度異常時(shí),所述輻照控制器停止利用所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線輻照所述對(duì)象。
15.根據(jù)權(quán)利要求
14所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備,其中所述束強(qiáng)度監(jiān)測(cè)單元基于所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述能量分布的峰值強(qiáng)度,判斷脈沖激光的每次發(fā)射的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述強(qiáng)度是否正常。
16.一種激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,包括 粒子束發(fā)生步驟,利用脈沖激光輻照靶,以獲取激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線; 束會(huì)聚步驟,在空間上會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線; 能量選擇步驟,根據(jù)在待輻照的對(duì)象中設(shè)定的輻照位置的深度,從所述束會(huì)聚步驟會(huì)聚的具有連續(xù)能量分布的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線中選擇具有特定能量和特定能量寬度的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線;以及 輻照步驟,調(diào)節(jié)待輻照的所述對(duì)象中所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述輻照位置, 其中,在所述束會(huì)聚步驟中,在所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的軌跡上產(chǎn)生磁場(chǎng),所述磁場(chǎng)迫使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線中偏離所述軌跡的中心的發(fā)散分量返回到所述軌跡的所述中心,并通過(guò)所述磁場(chǎng)會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線。
17.根據(jù)權(quán)利要求
16所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,其中在所述束會(huì)聚步驟中,通過(guò)調(diào)節(jié)所述磁場(chǎng)來(lái)調(diào)節(jié)每個(gè)步驟中使用的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的會(huì)聚程度。
18.根據(jù)權(quán)利要求
16或17所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,其中在所述能量選擇步驟中,在所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述軌跡上形成根據(jù)所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的動(dòng)量偏轉(zhuǎn)激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的磁場(chǎng),并基于軌跡的差異屏蔽被偏轉(zhuǎn)的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,以選擇激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量和能量寬度。
19.根據(jù)權(quán)利要求
16所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,還包括能量分布會(huì)聚步驟,會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量分布以提供處于特定能量的峰。
20.根據(jù)權(quán)利要求
16所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,還包括脈沖寬度壓縮步驟,減小所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述脈沖寬度。
21.根據(jù)權(quán)利要求
20所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,其中在所述脈沖寬度壓縮步驟中,產(chǎn)生由脈沖寬度壓縮電壓誘生的高頻電場(chǎng),并引導(dǎo)所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線通過(guò)所述高頻電場(chǎng),以減小所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述脈沖寬度,所述脈沖寬度壓縮電壓被定義為
22.根據(jù)權(quán)利要求
19所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,其中當(dāng)在所述能量分布會(huì)聚步驟中會(huì)聚所述能量分布并在所述能量選擇步驟中選擇了特定能量和能量寬度之后,判斷所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的強(qiáng)度是否正常,如果判定所述強(qiáng)度異常,則停止利用所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線輻照所述對(duì)象。
23.根據(jù)權(quán)利要求
22所述的激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照方法,其中基于所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的所述能量分布的峰值強(qiáng)度,判斷脈沖激光的每次發(fā)射的所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的強(qiáng)度是否正常。
專(zhuān)利摘要
一種激光驅(qū)動(dòng)粒子束輻照設(shè)備包括粒子束發(fā)生器,其利用脈沖激光輻照靶,以發(fā)射激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線;形成傳輸路徑的束會(huì)聚單元,該傳輸路徑將所發(fā)射的激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線引導(dǎo)至對(duì)象,并在空間上會(huì)聚激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線;能量選擇器,其選擇激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的能量和能量寬度;輻照端口,其使所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線掃描對(duì)象,以調(diào)節(jié)對(duì)象中的輻照位置;以及輻照控制器,其控制所述粒子束發(fā)生器、所述束會(huì)聚單元、所述能量選擇器和所述輻照端口的操作。所述束會(huì)聚單元在所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線的軌跡上產(chǎn)生磁場(chǎng)并通過(guò)所述磁場(chǎng)會(huì)聚所述激光驅(qū)動(dòng)的粒子射線,所述磁場(chǎng)迫使所述激光驅(qū)動(dòng)的質(zhì)子射線中偏離軌跡的中心的發(fā)散分量返回到該軌跡的中心。
文檔編號(hào)G21K5/04GKCN101740156 B發(fā)布類(lèi)型授權(quán) 專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)朇N 200910204423
公開(kāi)日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2009年9月25日
發(fā)明者井關(guān)康, 吉行健, 大道博行, 池上將弘, 西內(nèi)滿美子, 野田章 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan專(zhuān)利引用 (4), 非專(zhuān)利引用 (1),
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