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硬涂膜及透明導(dǎo)電性膜的制作方法

文檔序號(hào):8500502閱讀:515來(lái)源:國(guó)知局
硬涂膜及透明導(dǎo)電性膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及透明性高、且滑動(dòng)性和耐粘連性良好的硬涂膜,更詳細(xì)而言,涉及適用 于透明導(dǎo)電性膜的硬涂膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 硬涂膜(其是在基材膜上層合硬涂層而成)被用作顯示器、觸摸面板的表面保護(hù)、 或者觸摸面板用電極膜(用于觸摸面板的透明導(dǎo)電性膜)的基底膜。對(duì)于用于上述用途的 硬涂膜而言,要求透明性高,且滑動(dòng)性和耐粘連性良好。
[0003] 為了改良硬涂膜或聚酯膜的滑動(dòng)性、耐粘連性,提出了在表面設(shè)置突起的方案 (專(zhuān)利文獻(xiàn)1、2)。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0006] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)平7-314628號(hào)公報(bào)
[0007] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :日本特開(kāi)2000-211082號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 然而,采用上述專(zhuān)利文獻(xiàn)中公開(kāi)的技術(shù),并未能達(dá)到同時(shí)充分滿(mǎn)足透明性、滑動(dòng)性 及耐粘連性的效果。
[0009] 因此,本發(fā)明的目的在于,鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,提供一種透明性高、且 滑動(dòng)性和耐粘連性良好的硬涂膜。本發(fā)明的另一目的在于提供適用于透明導(dǎo)電性膜的硬涂 膜。
[0010] 本發(fā)明的上述目的可通過(guò)下述1)~15)中的任一構(gòu)成來(lái)達(dá)成。
[0011] 1) 一種硬涂膜,其特征在于,在基材膜的至少一面上具備含有粒子的第1硬涂層, 由所述粒子形成的突起以每100 μHi2為300~4000個(gè)的密度存在于第1硬涂層的表面,第 1硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral)小于30nm,霧度值小于1. 5%。
[0012] 2)如1)所述的硬涂膜,其中,所述粒子的平均粒徑(r)為0. 05~0. 5 μm。
[0013] 3)如1)或2)所述的硬涂膜,其中,所述粒子的平均粒徑(r)相對(duì)于第1硬涂層的 厚度(d)的比率(r/d)為0. 01~0. 30。
[0014] 4)如1)~3)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,所述突起的平均直徑為0.03~ 0· 3 μ m,所述突起的平均高度為0· 03~0· 3 μ m。
[0015] 5)如1)~4)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,所述突起的平均間隔為0.10~ 0. 70 μ m〇
[0016] 6)如1)~5)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,第1硬涂層的厚度(d)為0. 5 μL?以 上且小于10 μ m。
[0017] 7)如1)~6)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,基材膜與第1硬涂層之間具有樹(shù)脂 層,所述樹(shù)脂層的厚度為〇. 005~0. 3 μπι且含有粒子,所述粒子的平均粒徑為樹(shù)脂層厚度 的I. 3倍以上。
[0018] 8)如1)~7)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,基材膜為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜, 基材膜與第1硬涂層之間具備折射率為1. 55~1. 61的樹(shù)脂層。
[0019] 9)如1)~8)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,基材膜與第1硬涂層之間具備潤(rùn)濕張 力為52mN/m以下的樹(shù)脂層。
[0020] 10)如9)所述的硬涂膜,其中,第1硬涂層的厚度小于2 μm。
[0021] 11)如1)~10)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,第1硬涂層中含有的粒子為選自由 實(shí)施過(guò)用于減小粒子的表面自由能的表面處理的無(wú)機(jī)粒子、及粒子的表面經(jīng)過(guò)了疏水化處 理的無(wú)機(jī)粒子組成的組中的至少1種。
[0022] 12)如11)所述的硬涂膜,其中,用于獲得所述實(shí)施過(guò)用于減小粒子的表面自由能 的表面處理的無(wú)機(jī)粒子的表面處理為下述(I)或(II)。
[0023] (I)使用選自由下述通式(1)表示的含有氟原子的有機(jī)硅烷化合物、該有機(jī)硅烷 的水解物、及該有機(jī)硅烷的水解物的部分縮合物組成的組中的至少1種的化合物進(jìn)行表面 處理。
[0024] CnF2n+1-(CH2) m-Si (Q) 3 · · · ?通式(1)
[0025] (通式(1)中,η表示1~10的整數(shù),m表示1~5的整數(shù)。Q表示碳原子數(shù)為1~ 5的烷氧基或鹵素原子。)
[0026] (II)使用下述通式(2)表示的化合物進(jìn)行處理,進(jìn)而使用下述通式(3)表示的氟 化合物進(jìn)行表面處理。
[0027] B-R4-SiR5n (OR6) 3_n ... ?通式(2)
[0028] D-R7-Rf2 · · · ?通式(3)
[0029] (通式(2)和(3)中,B和D各自獨(dú)立地表示反應(yīng)性部位,R4和R 7各自獨(dú)立地表示 碳原子數(shù)為1~3的亞烷基、或由所述亞烷基衍生出的酯結(jié)構(gòu),R5和R 6各自獨(dú)立地表示氫 或碳原子數(shù)為1~4的烷基,Rf2表示氟烷基,η表示0~2的整數(shù)。)
[0030] 13)如11)所述的硬涂膜,其中,疏水化處理中可使用的疏水性化合物為選自由具 有反應(yīng)性部位和碳原子數(shù)為4以上的氟烷基的氟化合物、具有反應(yīng)性部位和碳原子數(shù)為8 以上的烴基的長(zhǎng)鏈烴化合物、及具有硅氧烷基和反應(yīng)性部位的硅氧烷化合物組成的組中的 至少1種的化合物,所述疏水化處理是為了獲得所述粒子表面經(jīng)過(guò)了疏水化處理的無(wú)機(jī)粒 子而進(jìn)行的。
[0031] 14)如1)~13)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,第1硬涂層中含有的粒子為二氧化 娃粒子。
[0032] 15)如1)~14)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜,其中,在所述基材膜的與設(shè)置有第1硬涂 層的面相反的面上具備第2硬涂層,第2硬涂層的表面實(shí)質(zhì)上不存在由粒子形成的突起,且 第2硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ra2)為25nm以下。
[0033] 16) -種透明導(dǎo)電性膜,其中,在上述1)~15)中任一項(xiàng)所述的硬涂膜的至少一面 上具備透明導(dǎo)電膜。
[0034] 根據(jù)本發(fā)明,能夠提供一種透明性高、且滑動(dòng)性和耐粘連性良好的硬涂膜。本發(fā)明 的硬涂膜適用于透明導(dǎo)電性膜的基底膜。
【附圖說(shuō)明】
[0035] 圖1是用掃描型電子顯微鏡觀察到的第1硬涂層表面的觀察圖的一個(gè)例子。
[0036] 圖2是模式化地表示第1硬涂層表面的突起的平面形狀的圖。
[0037] 圖3是模式化地表示圖1的第1硬涂層表面的模式圖。
[0038] 圖4是省略了圖3的一部分的模式圖。
【具體實(shí)施方式】
[0039] 本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式涉及的硬涂膜,在基材膜的至少一面上具有第1硬涂層。 該第1硬涂層含有粒子,在第1硬涂層的表面具有每100 μ Hi2為300~4000個(gè)的由粒子引 起的突起(以下,有時(shí)簡(jiǎn)稱(chēng)為"突起")。該第1硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral)小 于30nm。如上所述的本實(shí)施方式的硬涂膜的霧度值小于1. 5%。
[0040] 在第1硬涂層的表面以第1硬涂層表面的每單位面積(100 μ m2)為300~4000個(gè) 的數(shù)量具有突起,由此滑動(dòng)性和耐粘連性變得良好。
[0041] 突起的個(gè)數(shù)密度的范圍優(yōu)選為每100 μm2 400~3500個(gè)的范圍、更優(yōu)選為500~ 3000個(gè)的范圍、進(jìn)一步優(yōu)選為600~3000個(gè)的范圍、特別優(yōu)選為700~2500個(gè)的范圍。
[0042] 粒子的個(gè)數(shù)密度小于每100 μπι2 300個(gè)時(shí),滑動(dòng)性、耐粘連性降低。另一方面,粒 子的個(gè)數(shù)密度大于每100 μ m2 4000個(gè)時(shí),第1硬涂層表面的平滑性降低,霧度值變大,硬涂 膜的透明性降低。
[0043] 本實(shí)施方式的硬涂膜的一個(gè)特征為:盡管如上所述在第1硬涂層表面具有較多突 起,但第1硬涂層表面仍較為平滑,且硬涂膜的霧度值小。具體而言,本實(shí)施方式中的第1 硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral)小于30nm,且硬涂膜的霧度值小于1. 5%是重要的。
[0044] 第1硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral)優(yōu)選為25nm以下、更優(yōu)選為20nm以 下、特別優(yōu)選為18nm以下。從確?;瑒?dòng)性和耐粘連性的觀點(diǎn)考慮,中心線平均粗糙度(Ral) 的下限優(yōu)選為5nm以上、更優(yōu)選為7nm以上、特別優(yōu)選為9nm以上。
[0045] 第1硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral)為30nm以上時(shí),平滑性降低,硬涂膜 的透明性降低。即,硬涂膜的霧度值變大。
[0046] 從實(shí)現(xiàn)高透明性的觀點(diǎn)考慮,本實(shí)施方式的硬涂膜的霧度值小于1. 5%是重要的。 本實(shí)施方式的硬涂膜的霧度值進(jìn)一步優(yōu)選為1. 1 %以下、更優(yōu)選為1. 〇%以下。霧度值的下 限越小越優(yōu)選,但實(shí)際中為0. 01 %左右。
[0047] 為了在第1硬涂層表面具有每100 μ m2為300~4000個(gè)的突起,并使第1硬涂層 表面的中心線平均粗糙度(Ral)小于30nm,并且使硬涂膜的霧度值小于1.5%,優(yōu)選地,使 第1硬涂層含有平均粒徑(r)為0. 05~0. 5 μ m的粒子,并使該粒子較多地存在于第1硬 涂層的表面附近,由此在第1硬涂層表面形成突起。
[0048] 進(jìn)而,第1硬涂層中含有的粒子的平均粒徑(r) (μπι)與第1硬涂層的厚度(d) (μπι)的比率(r/d)優(yōu)選為0.01~0.30。由此,第1硬涂層表面的中心線平均粗糙度(Ral) 變小,硬涂膜的霧度值也變小。
[0049] 以下,對(duì)構(gòu)成硬涂膜的各構(gòu)成要素進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0050] [基材膜]
[0051] 基材膜可優(yōu)選使用塑料膜。作為構(gòu)成基材膜的材質(zhì),可舉出例如聚對(duì)苯二甲酸乙 二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯、聚酰亞胺、聚苯硫醚、芳族聚酰胺、聚丙 烯、聚乙烯、聚乳酸、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、脂環(huán)式丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)烯烴樹(shù) 月旨、三乙酸纖維素(triacetylcellulose)、以及將這些樹(shù)脂混合和/或共聚而得的物質(zhì)???以將上述樹(shù)脂在未拉伸的狀態(tài)下、或者在進(jìn)行單軸拉伸或雙軸拉伸之后制成膜,并將其用 作基材膜。
[0052] 上述基材膜中,聚酯膜的透明性、尺寸穩(wěn)定性、機(jī)械特性、耐熱性、電特性、耐化學(xué) 藥品性等優(yōu)異,可特別優(yōu)選使用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)。
[0053] 關(guān)于基材膜厚度的范圍,20~300 μ m的范圍是適當(dāng)?shù)?,?yōu)選為30~200 μ m的范 圍
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