一種含鋯膜層的鍍膜玻璃及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬化學材料技術領域，具體說是含鋯保護層的鍍膜玻璃及制備技術。
【背景技術】
[0002]鍍膜玻璃已在各領域廣泛使用，而在其運輸、儲藏過程中，玻璃表面的膜層容易劃傷、磨損，破壞已鍍的玻璃膜層；目前傳統的方法是在玻璃膜層外貼PE保護膜，這種方法增添了貼膜、除膜程序，且在貼膜過程中，PE膜與玻璃表面膜之間不可避免形成氣泡，該氣泡里包含的氣體會對玻璃膜形成氧化傾向，影響玻璃表面膜質量，除下來的PE膜是多余的固廢物，對環(huán)境形成壓力。能找到一種代替PE膜的作用，又不用貼膜和除膜程序是最理想的技術。
【發(fā)明內容】
[0003]本發(fā)明提供一種含鋯膜層的鍍膜玻璃及其制備方法。
[0004]本發(fā)明的技術方案為:一種含鋯膜層的鍍膜玻璃，包括玻璃基片、鍍制于玻璃基片表面的功能膜層、鍍制于功能膜層表面的含鋯膜層，其中功能膜層可以是一層；也可以是從里往外的保護層、功能層、電介質層疊加的多層，電介質層材料為S1Jt，與含鋯膜層附著力最大；含鋯膜層材料為SiNx和ZrS1xNy的混合物，該混合物中SiNx重量百分比為50 % -70 %，且58 % -63 %最佳，膜層厚度25_30nm，尤以28nm最優(yōu)。
[0005]進一步技術方案為:一種含鋯膜層的鍍膜玻璃制備方法，在于以下步驟:在玻璃基片上用磁控濺射方式沉積功能膜層，再用磁控濺射方式在功能膜層外沉積含鋯膜層；上述步驟在真空度0.1Pa真空室內工作，鍍層沉積結束，釋放真空，充入體積N2/02比小于等于8的保護氣體，輥道送鍍膜玻璃出真空腔室。SiAl靶5和ZrSiAl靶6還可以調節(jié)安裝角度、擋板寬度，以便達到最佳的沉積效果。
[0006]本方法得到的含鋯膜層鍍膜玻璃，可以有效解決傳統鍍膜基片劃傷、摩擦、氧化等問題，具有較高的實用價值和經濟價值。
【附圖說明】
[0007]圖1是含鋯膜層鍍膜玻璃截面示意圖；
[0008]圖2是真空室內靶材濺射示意圖。
[0009]玻璃基片1，功能膜層2，含鋯膜層3，真空室4，SiAl靶5，ZrSiAl靶6，已鍍功能膜層2的玻璃基片7。
【具體實施方式】
[0010]為使對本發(fā)明的步驟及內容有更進一步的了解與認識，如圖1、2所示，用較佳的實施例配合詳細的說明如下:
[0011]玻璃基片I已鍍過功能膜層2，將已鍍功能膜層2的玻璃基片7通過輥道傳送至真空室4內，關閉真空室4兩端進出口門，抽真空，真空室內達到真空度0.1Pa時，設置在真空室內且在已鍍功能膜層2的玻璃基片7上方的SiAl靶5和ZrSiAl靶6通電并旋轉，在電場作用下，向已鍍功能膜層2的玻璃基片7上表面沉積含鋯膜層，沉積到設定的厚度時，真空釋放，充入隊/02保護氣體，保護氣體/02體積比小于等于8，已鍍功能膜層2的玻璃基片7的功能層2上鍍了一層含鋯膜層3。SiAl靶5和ZrSiAl靶6還可以調節(jié)安裝角度、擋板寬度，以便達到最佳的沉積效果，膜層中SiNx所占比例，由于同一環(huán)境下，ZrSiAl靶材濺射速率是SiAl靶的60%，含鋯膜層材料為SiNx和ZrS1xNy的混合物，該混合物中SiNx重量百分比為50% -70%，膜層厚度25-30nm，。當SiNx在含鋯膜層中重量百分比為58% -63%,膜層厚度尤以28nm時，其膜層附著力、耐磨性、耐腐蝕能力、熱穩(wěn)定性最佳。
【主權項】
1.一種含鋯膜層的鍍膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片、鍍制于玻璃基片表面的功能膜層、鍍制于功能膜層表面的含鋯膜層；含鋯膜層材料為SiNx和ZrS1xNy的混合物，該混合物中SiNx重量百分比為50% -70%，膜層厚度25-30nm。2.根據權利要求1所述的含鋯膜層的鍍膜玻璃，其特征在于功能膜層為一層或者為從里往外的保護層、功能層、電介質層疊加的多層。3.根據權利要求2所述的含鋯膜層的鍍膜玻璃，其特征在于功能膜層的電介質層材料為 S1204.根據權利要求1所述的含鋯膜層的鍍膜玻璃，其特征在于含鋯膜層材料中SiNx重量百分比為58% -63%。5.根據權利要求1所述的含鋯膜層的鍍膜玻璃，其特征在于含鋯膜層厚度28nm。6.一種含鋯膜層的鍍膜玻璃制備方法，其特征在于步驟:在玻璃基片上用磁控濺射方式沉積功能膜層，再用磁控濺射方式在功能膜層外沉積含鋯膜層；上述步驟在真空度0.1Pa的真空室內工作，鍍層沉積結束，釋放真空，充入隊/02體積比小于等于8的保護氣體，輥道輸送含鋯膜層玻璃出真空腔室。7.根據權利要求6所述的含鋯膜層的鍍膜玻璃制備方法，其特征在于SiAl靶(5)和ZrSiAl靶(6)可以調節(jié)安裝角度、擋板寬度。
【專利摘要】一種含鋯膜層的鍍膜玻璃及其制備方法，包括玻璃基片、鍍制于玻璃基片表面的功能膜層、鍍制于功能膜層表面的含鋯膜層，含鋯膜層材料為SiNx和ZrSiOxNy的混合物，該混合物中SiNx重量百分比為50％-70％，且58％-63％最佳；在玻璃基片上用磁控濺射方式沉積功能膜層，再用磁控濺射方式在功能膜層外沉積含鋯膜層；上述步驟在真空度0.1Pa真空室內工作，含鋯膜層沉積結束，釋放真空，充入N2/O2體積比小于等于8的保護氣體，輥道送出含鋯膜層玻璃。本方法得到的含鋯膜層鍍膜玻璃，可以有效解決傳統鍍膜基片劃傷、摩擦、氧化等問題，具有較高的實用價值和經濟價值。
【IPC分類】B32B37/10, B32B17/06, B32B15/04, B32B33/00
【公開號】CN104890324
【申請?zhí)枴緾N201510345204
【發(fā)明人】吳昌飛, 艾蒙雁
【申請人】蕪湖市晨曦新型建材科技有限公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年6月19日