質(zhì)涂層的聚酰亞胺覆蓋襯底 (圖 5)。
[0130] 〈實(shí)施例6>
[0131] 以實(shí)施例1中相同的方式，將氧化硅層形成于聚酰亞胺薄膜的兩個(gè)表面上，將透 明電極層形成于氧化硅層的外表面上，然后將硬質(zhì)涂層形成于透明電極層的外表面上。進(jìn) 一步地，將裝置保護(hù)層形成于硬質(zhì)涂層的外表面上，從而制造包括順序堆疊的裝置保護(hù)層、 硬質(zhì)涂層、透明電極層、氧化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層、透明電極層、硬質(zhì)涂層以及裝 置保護(hù)層的聚酰亞胺覆蓋襯底（圖6)。
[0132] 〈實(shí)施例7>
[0133] 以實(shí)施例1中相同的方式，將氧化硅層形成于聚酰亞胺薄膜的兩個(gè)表面上，將透 明電極層形成于氧化硅層的外表面上，然后將硬質(zhì)涂層形成于透明電極層的外表面上。進(jìn) 一步地，將裝置保護(hù)層形成于硬質(zhì)涂層的其中一個(gè)上，從而制造包括順序堆疊的電極保護(hù) 層、硬質(zhì)涂層、透明電極層、氧化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層、透明電極層以及硬質(zhì)涂層 的聚酰亞胺覆蓋襯底（圖7)。
[0134] 〈性能評(píng)價(jià)〉
[0135] 通過以下過程測(cè)量所述聚酰亞胺覆蓋襯底的性能。結(jié)果顯示在下面的表1和2中。
[0136] (1)平均透光率（％)的測(cè)定
[0137] 使用分光光度計(jì)（CU-3700D，KONICA MINOLTA)測(cè)量每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底在 350nm~700nm的透光率。
[0138] (2)黃度指數(shù)的測(cè)定
[0139] 利用分光光度計(jì)（CU-3700D，KONICA MINOLTA)測(cè)量每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底的黃 度指數(shù)。
[0140] (3)水蒸氣透過率（g/m2*天）的測(cè)定
[0141] 利用水蒸氣透過率測(cè)試儀（MOCON/US/Aquatran-型號(hào)-1)測(cè)量每一個(gè)聚酰亞胺覆 蓋襯底的水蒸氣透過率（WVTR)。
[0142] (4)鉛筆硬度的測(cè)定
[0143] 利用電子鉛筆硬度測(cè)試儀將三菱測(cè)試電筆（UNI)以180mm/min的速率在Ikg負(fù)重 下于每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底上畫50mm長的線5次，此后，當(dāng)沒有表面劃痕時(shí)，測(cè)試鉛筆硬 度。
[0144] (5)粘附力的測(cè)定
[0145] 根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法（ATSM D3359)，將每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底交叉（cross-cut)、 貼壓，然后測(cè)量。
[0146] (6)彎曲性能的測(cè)定
[0147] 每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底在直徑為IOmm的圓柱體上卷繞和解繞10000次，然后用 肉眼和顯微鏡觀測(cè)薄膜的破裂。有任何破裂的情況都標(biāo)記為"不合格"，沒有破裂的情況則 標(biāo)記為"合格"。
[0148] (7)抗劃傷性的測(cè)定
[0149] 利用鋼絲棉在負(fù)重500g條件下以50mm/sec的速度以IOOmm的長度在每一個(gè)聚酰 亞胺覆蓋襯底上前后摩擦500次，然后利用肉眼和光學(xué)顯微鏡計(jì)算劃痕的數(shù)目。沒有劃痕 的情況標(biāo)記為"〇"，劃痕數(shù)目少于1~5的情況標(biāo)記為"A"，然后劃痕數(shù)目為5以上的情況 標(biāo)記為"X"。
[0150] (8)抗沖擊性的測(cè)定
[0151] 每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底放置在0. rr玻璃上，然后一個(gè)球于距玻璃50cm的高處 掉下，然后用肉眼和光學(xué)顯微鏡觀測(cè)玻璃的損壞和裂紋。有任意一個(gè)細(xì)小裂紋形成的情況 都標(biāo)記為"不合格"，沒有細(xì)小裂紋的情況標(biāo)記為"合格"。
[0152] (9)耐化學(xué)性的測(cè)定
[0153] 每一個(gè)聚酰亞胺覆蓋襯底浸在2. 38%四甲基氫氧化銨（TMAH)、二甲基乙酰胺 (DMAc)、N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP)、1 %氫氧化鉀（KOH)、丙酮、異丙醇（IPA)、甲乙酮（MEK) 和NaSO2(硫酸鈉）中l(wèi)hr，然后用肉眼觀察。有云斑或不正常現(xiàn)象發(fā)生的情況標(biāo)記為"X"， 干燥后重量變化在〇. 01 %內(nèi)的情況標(biāo)記為"0"。
[0154] 【表1】
[0155]

[0158] 從表1中可以明顯看出，與沒有任何表面處理的對(duì)比實(shí)施例1相比，在聚酰亞胺薄 膜的表面上形成氧化硅層的對(duì)比實(shí)施例2中，透光率和黃度指數(shù)有提升，在聚酰亞胺薄膜 的表面上形成硬質(zhì)涂層的對(duì)比實(shí)施例3中，抗劃傷性和鉛筆硬度有提升。
[0159] 含有裝置保護(hù)層的實(shí)施例1至7與沒有裝置保護(hù)層的對(duì)比實(shí)施例4相比，彎曲性 能和抗沖擊性得到提升，并且展現(xiàn)了適用于光電裝置的5以下的黃度指數(shù)和85%以上的透 光率，，與沒有任何表面處理的對(duì)比實(shí)施例1相比有令人滿意的水蒸氣透過率、鉛筆硬度、 粘附力、彎曲性能、抗劃傷性、抗沖擊性和耐化學(xué)性。
[0160] 因此，根據(jù)本發(fā)明的聚酰亞胺覆蓋襯底可以被有效的用作柔性電子裝置的覆蓋襯 底。
[0161] 盡管為了說明性目的已經(jīng)公開了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人 員將理解可以在不背離所附的權(quán)利要求所公開的范圍和精神的情況下進(jìn)行各種變形、添加 和替換。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種聚酰亞胺覆蓋襯底，包括： 聚酰亞胺薄膜；以及 在所述聚酰亞胺薄膜的至少一個(gè)面上由聚氨酯丙烯酸酯化合物形成的裝置保護(hù)層。2. 如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述聚氨酯丙烯酸酯化合物是由下 面化學(xué)式1表示的聚氨酯丙烯酸酯化合物： 〈化學(xué)式1>其中，R各自獨(dú)立地為苯基、具有1至5個(gè)碳原子的烷基苯基、具有1至5個(gè)碳原子的烷 氧基苯基、環(huán)己烷基、具有1至5個(gè)碳原子的烷基環(huán)己烷基、二苯基甲烷基、^苯基乙烷基、 雙環(huán)己基甲烷基或具有1至10個(gè)碳原子的烷基。3. 如權(quán)利要求1或2所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述聚氨酯丙烯酸酯化合物的重 均分子量為1，〇〇〇~50, 000g/mol。4. 如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述裝置保護(hù)層的厚度為1. 0~ 30ym〇5. 如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，進(jìn)一步地包含選自氧化硅層、硬質(zhì)涂層以 及透明電極層中的一種或多種。6. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得裝置保護(hù)層、透明電極層、氧化 硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層以及硬質(zhì)涂層順序堆疊。7. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得裝置保護(hù)層、透明電極層、氧化 硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層、透明電極層以及硬質(zhì)涂層順序地堆疊。8. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得氧化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化 硅層、透明電極層、裝置保護(hù)層、透明電極層以及硬質(zhì)涂層順序地堆疊。9. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得裝置保護(hù)層、氧化硅層、聚酰亞 胺薄膜、氧化硅層、透明電極層、裝置保護(hù)層、透明電極層以及硬質(zhì)涂層順序地堆疊。10. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得透明電極層、裝置保護(hù)層、氧 化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層以及硬質(zhì)涂層順序地堆疊。11. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得裝置保護(hù)層、硬質(zhì)涂層、透明 電極層、氧化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層、透明電極層、硬質(zhì)涂層以及裝置保護(hù)層順序地 堆疊。12. 如權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，配置為使得裝置保護(hù)層、硬質(zhì)涂層、透明 電極層、氧化硅層、聚酰亞胺薄膜、氧化硅層、透明電極層以及硬質(zhì)涂層順序地堆疊。13. 如權(quán)利要求5至12中的任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述氧化硅層包括 含有由下面化學(xué)式2表示的單元結(jié)構(gòu)的氧化硅： 〈化學(xué)式2>其中，m和n各自獨(dú)立地是0~10的整數(shù)。14. 如權(quán)利要求5至12中的任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述氧化硅層的厚 度為0? 3~2. 0ym。15. 如權(quán)利要求5至12中的任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述硬質(zhì)涂層包括 由下面化學(xué)式4表示的化合物： 〈化學(xué)式4>其中，n是0~5的整數(shù)，m是1~5的整數(shù)，&是具有1至10個(gè)碳原子的烷基或氫原 子，以及R2是具有1至10個(gè)碳原子的烷基。16. 如權(quán)利要求5至12中的任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述硬質(zhì)涂層的厚 度為 1. 0 ~20. 0ym。17. 如權(quán)利要求5至12中的任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺覆蓋襯底，其中，所述硬質(zhì)涂層包括 選自銦-錫氧化物（ITO)、銦-鋅氧化物（IZO)以及銦-錫-鋅氧化物（ITZO)中的一種或 多種，而且厚度為10~50nm〇
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種聚酰亞胺覆蓋襯底，該聚酰亞胺覆蓋襯底配置為使得，在聚酰亞胺薄膜的至少一個(gè)面上由聚氨酯丙烯酸酯化合物形成裝置保護(hù)層，從而不僅展現(xiàn)出高彎曲性能和抗沖擊性，還有優(yōu)異的耐溶劑性、光學(xué)性能、抗劃傷性以及低水蒸氣透過率，并因此能夠有效地被用作柔性電子裝置的覆蓋襯底。
【IPC分類】B32B27/34, B32B27/08, B32B9/00
【公開號(hào)】CN105121159
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480019435
【發(fā)明人】禹學(xué)龍, 鄭鶴基, 洪起一
【申請(qǐng)人】可隆工業(yè)株式會(huì)社
【公開日】2015年12月2日
【申請(qǐng)日】2014年3月31日
【公告號(hào)】WO2014163352A1