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一種涂膠裝置及具有該涂膠裝置的納米壓印設(shè)備的制造方法

文檔序號(hào):9833777閱讀:408來源:國(guó)知局
一種涂膠裝置及具有該涂膠裝置的納米壓印設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及納米加工技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種涂膠裝置。此外,本發(fā)明還涉及一種包括上述的涂膠裝置的納米壓印設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]納米壓印光刻利用傳統(tǒng)機(jī)械模具微復(fù)型原理,代替包括光學(xué)、化學(xué)及光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的傳統(tǒng)投影光刻。其工作原理是通過模具下壓,導(dǎo)致光刻膠流動(dòng)并填充到模具表面的特征結(jié)構(gòu)中,隨后增大模具下壓載荷,使殘留層減薄到后續(xù)工藝允許的范圍內(nèi),停止模具下壓并固化光刻膠。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中,納米光刻壓印光刻技術(shù)包括滾動(dòng)型納米壓印裝置和平板對(duì)輥型納米壓印裝置,二者在使用時(shí),均需要使用納米壓印膠涂布裝置將光刻膠涂覆在設(shè)備上。常見的涂覆裝置上通過輥?zhàn)釉谑⒂泄饪棠z的容器中滾動(dòng)并沾取一定的光刻膠,將光刻膠傳遞給傳遞帶后,最終由傳遞帶將光刻膠傳遞到工作區(qū)域,在傳遞帶或工作區(qū)域部分設(shè)置有用于調(diào)整光刻膠用量的刮墨刀。然而,現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)是刮墨刀的刮取量固定,刮墨刀裝配完成后,難以根據(jù)實(shí)際納米壓印工藝需求調(diào)節(jié)膠層的厚度。
[0004]綜上所述,如何提供一種膠層厚度可調(diào)節(jié)的涂膠裝置,是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此,本發(fā)明的目的是提供一種涂膠裝置,該涂膠裝置的光刻膠刮取量可調(diào)節(jié),適用于多種壓印情況。本發(fā)明的另一目的是提供一種包括上述涂膠裝置的納米壓印設(shè)備。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0007]—種涂膠裝置,包括用于沾取光刻膠的取膠輥和用于將所述取膠輥上的光刻膠轉(zhuǎn)移到材料上的轉(zhuǎn)移輥,所述取膠輥和所述轉(zhuǎn)移輥可沿自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的平行設(shè)置在支撐架上,所述支撐架上還設(shè)置有用于調(diào)整所述取膠輥和所述轉(zhuǎn)移輥之間接觸緊密程度的微調(diào)件。
[0008]優(yōu)選的,所述微調(diào)件為設(shè)置在所述支撐架的通孔中的螺旋微調(diào)件,所述螺旋微調(diào)件設(shè)置在所述轉(zhuǎn)移輥的端部。
[0009]優(yōu)選的,所述支撐架上設(shè)置有刮墨刀架支撐架,所述刮墨刀架支撐架通過楔形的墊片與刮墨刀架連接,所述墊片用于調(diào)整所述刮墨刀架支撐架與所述刮墨刀架的角度,所述刮墨刀架上設(shè)置有刮墨刀。
[0010]優(yōu)選的,所述支撐架通過直線平移臺(tái)與所述刮墨刀架支撐架連接,所述直線平移臺(tái)包括上平臺(tái)和可與所述上平臺(tái)水平相對(duì)移動(dòng)并固定的下平臺(tái),所述下平臺(tái)與所述支撐架固定,所述上平臺(tái)與所述刮墨刀架支撐架固定。
[0011]優(yōu)選的,所述上平臺(tái)和所述下平臺(tái)中的一者為楔形平臺(tái),另一者與所述楔形平臺(tái)的楔形面貼合設(shè)置。
[0012]優(yōu)選的,所述刮墨刀為招片刮墨刀。
[0013]優(yōu)選的,所述取膠輥和所述轉(zhuǎn)移輥的端部均固定設(shè)有傳遞齒輪,所述取膠輥與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)傳動(dòng)連接,所述轉(zhuǎn)移輥的傳遞齒輪與所述取膠輥的傳遞齒輪嚙合。
[0014]優(yōu)選的,還包括用于分別控制所述取膠輥和所述轉(zhuǎn)移輥轉(zhuǎn)速的控制裝置,所述控制裝置通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)分別與所述取膠輥、所述轉(zhuǎn)移輥連接。
[0015]—種納米壓印設(shè)備,包括納米壓印頭和涂膠裝置,所述涂膠裝置為上述任意一項(xiàng)所述的涂膠裝置。
[0016]本發(fā)明提供的裝置中,用于沾取光刻膠的取膠輥和用于轉(zhuǎn)移光刻膠的轉(zhuǎn)移輥可轉(zhuǎn)動(dòng)的平行設(shè)置在支撐架上,且取膠輥和轉(zhuǎn)移輥之間的間距和接觸緊密程度可以通過微調(diào)件進(jìn)行調(diào)整。當(dāng)取膠輥轉(zhuǎn)動(dòng)地將光刻膠傳遞給傳遞輥的過程中,取膠輥與傳遞輥的間距直接影響傳遞的光刻膠量。通過用微調(diào)件控制二者的接觸緊密程度,實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠傳遞量的控制,合理控制光刻膠量的同時(shí),節(jié)省了材料。
[0017]本發(fā)明還提供了一種包括上述涂膠裝置的納米壓印設(shè)備,該設(shè)備由于設(shè)置了上述涂膠裝置,可以實(shí)現(xiàn)光刻膠量的可控設(shè)置和合理配置。
【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0020]圖2為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的右視圖;
[0021 ]圖3為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的正視圖;
[0022]圖4為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的另一個(gè)角度的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]上圖1-4 中:
[0024]I為支撐架、2為取膠輥、3為轉(zhuǎn)移輥、4為材料輥、5為傳動(dòng)齒輪、6為電機(jī)支撐架、7為伺服電機(jī)、8為膠盒、9為直線平移臺(tái)、10為刮墨刀架支撐架、11為刮墨刀架、12為微調(diào)螺栓。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0026]本發(fā)明的核心是提供一種涂膠裝置,該涂膠裝置的光刻膠刮取量可調(diào)節(jié),適用于多種壓印情況。本發(fā)明的另一核心是提供一種包括上述涂膠裝置的納米壓印設(shè)備。
[0027]請(qǐng)參考圖1至圖4,圖1為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的右視圖;圖3為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的正視圖;圖4為本發(fā)明所提供涂膠裝置的具體實(shí)施例的另一個(gè)角度的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]本發(fā)明所提供的一種涂膠裝置設(shè)置在納米壓印設(shè)備中,主要用于將納米光刻膠涂抹在壓印材料上。在結(jié)構(gòu)上包括支撐架1、取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3。取膠輥2用于沾取光刻膠,轉(zhuǎn)移輥3用于將取膠輥2上的光刻膠轉(zhuǎn)移到材料上,取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3可沿自身軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的平行設(shè)置在支撐架I上,支撐架I上還設(shè)置有用于調(diào)整取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3之間接觸緊密程度的微調(diào)件。另外,在取膠輥2的下方設(shè)置盛有光刻膠的膠盒8,以供取膠輥2進(jìn)行沾取。
[0029]需要提到的是,上述微調(diào)件有多種結(jié)構(gòu)和調(diào)整方式,其中一種情況中,微調(diào)件為設(shè)置在支撐架I的通孔中的螺旋微調(diào)件,螺旋微調(diào)件設(shè)置在轉(zhuǎn)移輥3的端部。該螺旋微調(diào)件可以為微調(diào)螺栓12,微調(diào)螺栓12設(shè)置在支撐架I的通孔上。
[0030]具體地,轉(zhuǎn)移輥3和取膠輥2的端部或非工作部設(shè)置在螺旋微調(diào)件相對(duì)于支撐架I的擰入方向上,螺旋微調(diào)件的擰入過程可以將轉(zhuǎn)移輥3向取膠輥2的方向推動(dòng),以實(shí)現(xiàn)調(diào)整轉(zhuǎn)移輥3與取膠輥2的距離。其中,非工作部指的是轉(zhuǎn)移輥3上不進(jìn)行光刻膠傳遞的部分。
[0031]可選的,上述微調(diào)件還可以為其他控制轉(zhuǎn)移輥3和取膠輥2距離的零件。需要提到的是,微調(diào)件對(duì)轉(zhuǎn)移輥3和取膠輥2間距的控制是在轉(zhuǎn)移輥3和取膠輥2均已經(jīng)確定轉(zhuǎn)動(dòng)軸線后的微調(diào)。
[0032]可選的,取膠輥2的端部和轉(zhuǎn)移輥3的端部均可以通過軸承設(shè)置在支撐架I上,從而使取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3的轉(zhuǎn)動(dòng)更加靈活。
[0033]上述涂膠裝置的具體涂膠過程如下:取膠輥2通過自身轉(zhuǎn)動(dòng)從膠盒8中沾取光刻膠,將光刻膠轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)移輥3上,最后由轉(zhuǎn)移輥3將光刻膠涂布在待涂膠材料上。上述過程中,可以人工操作微調(diào)件調(diào)整取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3之間接觸緊密程度,以實(shí)現(xiàn)取膠輥2向轉(zhuǎn)移輥3上傳遞的光刻膠用量、厚度的調(diào)節(jié)。
[0034]本實(shí)施例提供的裝置中,用于沾取光刻膠的取膠輥2和用于轉(zhuǎn)移光刻膠的轉(zhuǎn)移輥3可轉(zhuǎn)動(dòng)的平行設(shè)置在支撐架I上,且取膠輥2和轉(zhuǎn)移輥3之間的間距和接觸緊密程度可以通過微調(diào)件進(jìn)行調(diào)整。當(dāng)取膠輥2轉(zhuǎn)動(dòng)地將光刻膠傳遞給傳遞輥3時(shí),取膠輥2與傳遞輥3的間距直接影響傳遞的光刻膠量。通過用微調(diào)件控制二者的接觸緊密程度,實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠傳遞量的控制,合理控制光刻膠量的同時(shí),節(jié)省了材料。
[0035]在支撐架I上通常設(shè)置有刮墨刀架支撐架10,刮墨刀架支撐架10用于與刮墨刀架11連接。在本發(fā)明所提供的一個(gè)具體實(shí)施例中,刮墨刀架支撐架10通過楔形的墊片與刮墨刀架11連接,墊片用于調(diào)整刮墨刀架支撐架10與刮墨刀架11的角度,刮墨刀架11上設(shè)置有刮墨刀。具體地,刮墨刀架支撐架10與刮墨刀架11中的一者與墊片的楔形面連接,另一者與楔形面的對(duì)立面連接。
[0036]本實(shí)施例中,在支撐架I上設(shè)置的刮墨刀架支撐架10與用于設(shè)置刮墨刀的刮墨刀架11之間設(shè)置楔形的墊片,通過設(shè)置楔形角不同的楔形的墊片,調(diào)整刮墨刀架支撐架10與刮墨刀架11之間的角度關(guān)系,進(jìn)而得到刮墨刀與支撐架I之間的不同的角度關(guān)系,最終刮墨刀的角度調(diào)節(jié)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)取膠輥2上光刻
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