面由低摩擦系數(shù)的膜180形成。而且，可以是高壓側(cè)側(cè)密封板16的表面162由低摩擦系數(shù)的膜180形成，也可以是低壓側(cè)側(cè)密封板17的表面172由低摩擦系數(shù)的膜180形成。
[0101]如以上說明那樣，根據(jù)本實施方式，即使高壓側(cè)側(cè)密封板16被按壓于片20的側(cè)端部20c，由于片20及高壓側(cè)側(cè)密封板16中的至少一方被實施降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力的摩擦降低處理，因此能夠使高壓側(cè)側(cè)密封板16不阻止片20的前端部20b的位移(浮起)。因此，在旋轉(zhuǎn)軸50旋轉(zhuǎn)時，片20的前端部20c以從旋轉(zhuǎn)軸50分離的方式順暢地移動，與旋轉(zhuǎn)軸50成為非接觸狀態(tài)。因此，抑制旋轉(zhuǎn)軸50在片20與旋轉(zhuǎn)軸50接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)的情況，抑制密封性能的降低。
[0102]而且，在本實施方式中，摩擦降低處理是將相對面161及側(cè)端部20c的表面中的至少一方設為低摩擦系數(shù)的膜180的表面的處理，摩擦降低部包括低摩擦系數(shù)的膜180。例如，對高壓側(cè)側(cè)密封板16的表面實施鍍敷處理、噴鍍處理及蒸鍍處理中的至少一個而形成高潤滑性的膜180，由此能夠降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力。
[0103]〈第二實施方式〉
[0104]對第二實施方式進行說明。在以下的說明中，對于與上述的實施方式相同或同等的構(gòu)成部分，標注同一標號，簡化或省略其說明。
[0105]在本實施方式中，說明摩擦降低處理包括對高壓側(cè)側(cè)密封板16的相對面161進行織構(gòu)化的處理的例子。在本實施方式中，降低相對面161(高壓側(cè)側(cè)密封板16)與側(cè)端部20c的表面(片20)的摩擦力的摩擦降低部包括通過對相對面161進行織構(gòu)化處理而在相對面161上形成的凹凸面。
[0106]圖11及圖12分別是表示織構(gòu)化后的相對面161的一例的圖。例如，可以對高壓側(cè)側(cè)密封板16的相對面161實施噴砂加工那樣的織構(gòu)化處理，如圖11所示將相對面161形成為凹坑狀的微觀層次的凹凸面，也可以如圖12所示將相對面161形成為格子狀的微觀層次的凹凸面。在圖11中，I個凹坑的直徑可以為Iym以上且ΙΟΟμπι以下。在圖12中，I個格子的尺寸可以為Ιμπι以上且ΙΟΟμπι以下。
[0107]如以上說明那樣，根據(jù)本實施方式，對相對面161進行織構(gòu)化處理而形成為微觀層次的凹凸面，由此相對面161與側(cè)端部20c的表面的接觸面積變小，因此能夠降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力。
[0108]需要說明的是，在本實施方式中，可以是相對面161的全部被織構(gòu)化，也可以是相對面161的一部分被織構(gòu)化且相對面161的一部分未被織構(gòu)化。
[0109]需要說明的是，在本實施方式中，側(cè)端部20c的表面也可以被織構(gòu)化。而且，可以是低壓側(cè)側(cè)密封板17的相對面171被織構(gòu)化，也可以是側(cè)端部20d的表面被織構(gòu)化。而且，可以是高壓側(cè)側(cè)密封板16的表面162被織構(gòu)化，也可以是低壓側(cè)側(cè)密封板17的表面172被織構(gòu)化。
[0110]〈第三實施方式〉
[0111]對第三實施方式進行說明。在以下的說明中，對于與上述的實施方式相同或同等的構(gòu)成部分，標注同一標號，簡化或省略其說明。
[0112]在本實施方式中，說明摩擦降低處理包括將側(cè)端部20c的表面形成為凸面的處理的例子。在本實施方式中，降低相對面161(高壓側(cè)側(cè)密封板16)與側(cè)端部20c的表面(片20)的摩擦力的摩擦降低部包括側(cè)端部20c的凸面。
[0113]圖13是表示本實施方式的片20及高壓側(cè)側(cè)密封板16的一例的示意圖。如圖13所示，片20的側(cè)端部20c也可以是向高壓側(cè)側(cè)密封板16側(cè)鼓出的凸面。在圖13所示的例子中，側(cè)端部20c的凸面為曲面狀。由此，相對面161與側(cè)端部20c的表面的接觸面積減小，因此能夠降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力。
[0114]圖14是表示本實施方式的片20及高壓側(cè)側(cè)密封板16的一例的示意圖。如圖14所示，片20的側(cè)端部20c也可以是從高壓側(cè)側(cè)密封板16分離的凹面。在圖14所示的例子中，摩擦降低部包括側(cè)端部20c的凹面。在圖14所示的例子中，側(cè)端部20c的凹面為曲面狀。即便如此，相對面161與側(cè)端部20c的表面的接觸面積也減小，因此能夠降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力。
[0115]圖15是表示本實施方式的片20及高壓側(cè)側(cè)密封板16的一例的示意圖。如圖15所示，片20的側(cè)端部20c也可以包括凸面及凹面這兩方。在圖15所示的例子中，摩擦降低部包括側(cè)端部20c的凸面及凹面。即便如此，由于相對面161與側(cè)端部20c的表面的接觸面積減小，因此也能夠降低相對面161與側(cè)端部20c的表面的摩擦力。
[0116]需要說明的是，在本實施方式中，高壓側(cè)側(cè)密封板16的相對面161也可以包括凹面及凸面中的至少一方。而且，可以是低壓側(cè)側(cè)密封板17的相對面171包括凹面及凸面中的至少一方，也可以是側(cè)端部20d的表面包括凹面及凸面中的至少一方。
[0117]【標號說明】
[0118]I燃氣輪機系統(tǒng)
[0119]2壓縮機(旋轉(zhuǎn)機械)
[0120]3燃燒器
[0121]4渦輪(旋轉(zhuǎn)機械)
[0122]10軸密封裝置
[0123]11密封扇形體
[0124]12片層疊體
[0125]12c 偵U端部
[0126]12d 偵U端部
[0127]16高壓側(cè)側(cè)密封板
[0128]17低壓側(cè)側(cè)密封板
[0129]20 片
[0130]20c 偵U端部
[0131]20d 偵U端部
[0132]50旋轉(zhuǎn)軸
[0133]161相對面
[0134]162 表面
[0135]180 膜
【主權(quán)項】
1.一種軸密封裝置，具備: 片，在旋轉(zhuǎn)軸的周圍配置多個，將所述旋轉(zhuǎn)軸的周圍的空間在所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向上劃分成兩個空間；及 側(cè)密封板，在所述軸向上配置于所述片的一側(cè)，且具有與所述片的所述一側(cè)的側(cè)端部相對的相對面， 所述片及所述側(cè)密封板中的至少一方具有降低所述相對面與所述側(cè)端部的表面之間的摩擦力的摩擦降低部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軸密封裝置，其中， 所述摩擦降低部包括形成在所述相對面及側(cè)端部的表面中的至少一方的低摩擦系數(shù)的膜。3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的軸密封裝置，其中， 所述摩擦降低部在所述相對面及側(cè)端部的表面中的至少一方通過織構(gòu)化處理而形成。4.根據(jù)權(quán)利要求1?權(quán)利要求3中任一項所述的軸密封裝置，其中， 所述摩擦降低部包括形成在所述相對面及側(cè)端部的表面中的至少一方的凹面或凸面。5.一種旋轉(zhuǎn)機械，具備: 旋轉(zhuǎn)軸;及 在所述旋轉(zhuǎn)軸的周圍配置的權(quán)利要求1?權(quán)利要求4中任一項所述的軸密封裝置。6.—種軸密封裝置的制造方法，所述軸密封裝置具備片及以與所述片的側(cè)端部相對的方式配置的側(cè)密封板，所述軸密封裝置的制造方法包括如下工序: 對于所述片的所述側(cè)端部的表面及與所述側(cè)端部相對的所述側(cè)密封板的相對面中的至少一方，進行用于降低所述相對面與所述側(cè)端部的表面之間的摩擦力的摩擦降低處理的工序； 在旋轉(zhuǎn)軸的周圍配置多個所述片，將所述旋轉(zhuǎn)軸的周圍的空間在所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向上劃分成兩個空間的工序;及 在所述軸向上，在所述片的一側(cè)以使所述片的所述一側(cè)的側(cè)端部與所述相對面相對的方式配置所述側(cè)密封板的工序。
【專利摘要】軸密封裝置(10)具備在旋轉(zhuǎn)軸(50)的周圍配置多個并將旋轉(zhuǎn)軸的周圍的空間在旋轉(zhuǎn)軸的軸向上劃分成兩個空間的片(20)、及在軸向上配置于片的一側(cè)且具有與片的一側(cè)的側(cè)端部相對的相對面的側(cè)密封板，片及側(cè)密封板中的至少一方具有降低相對面與側(cè)端部的表面的摩擦力的摩擦降低部。
【IPC分類】F01D11/12, F02C7/28, F16J15/22, F01D11/00
【公開號】CN105683509
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】吉田亞積, 上原秀和, 尾崎昂平, 西本慎
【申請人】三菱重工業(yè)株式會社
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2014年11月10日