水浸線聚焦探頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種超聲波探頭，特別涉及一種水浸線聚焦探頭。
【背景技術(shù)】
[0002]為了提高探測精度，有些探頭的外殼上設(shè)置有刻度。而這種刻度大多數(shù)是通過人眼測量，誤差很大，特別是水浸探頭，與工件處于非接觸狀態(tài)，如何對準(zhǔn)刻度對檢測精度尤為重要。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種水浸線聚焦探頭。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種水浸線聚焦探頭，包括殼體，所述殼體具有探測面和兩個(gè)相對的側(cè)面，兩個(gè)側(cè)面均與探測面垂直，且其中一個(gè)側(cè)面上具有刻度線，所述刻度線延伸到刻度線所在的側(cè)面與探測面的相交線上，具有刻度線的側(cè)面上設(shè)置有一紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器的發(fā)射方向與刻度線的延伸方向平行。
[0005]為了方便調(diào)節(jié)紅外發(fā)射器的位置，便于對準(zhǔn)，具有刻度線的側(cè)面上開設(shè)有凹槽，所述紅外發(fā)射器與所述側(cè)面在凹槽處滑動(dòng)連接，所述凹槽的長度延伸方向與刻度線的分布方向相同。因此，紅外發(fā)射器能夠沿凹槽的長度方向前后移動(dòng)，即沿刻度線的分布方向前后移動(dòng)。
[0006]為了便于滑動(dòng)，所述凹槽底部和紅外發(fā)射器之間嵌入有玻璃珠，所述凹槽底部和紅外發(fā)射器均與玻璃珠滾動(dòng)連接。
[0007]所述紅外發(fā)射器具有一個(gè)側(cè)面為弧面。這樣，弧面部位可以方便手持。
[0008]為了防止刻度線對紅外發(fā)射器的移動(dòng)產(chǎn)生干擾，所述刻度線內(nèi)凹于所述殼體。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果是，本實(shí)用新型的水浸線聚焦探頭，設(shè)置了紅外發(fā)射器，可以用于對準(zhǔn)起始刻度或探傷位置，減少探測誤差。
【附圖說明】
[0010]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0011]圖1是本實(shí)用新型的水浸線聚焦探頭的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2是本實(shí)用新型的水浸線聚焦探頭的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖3是本實(shí)用新型的水浸線聚焦探頭的局部剖面示意圖。
[0014]圖中1、殼體，1-1、凹槽，1-2、刻度線，a、探測面，b、相交線，2、紅外發(fā)射器，2_1、弧面，3、玻璃珠，y、刻度線的延伸方向，X、刻度線的分布方向。
【具體實(shí)施方式】
[0015]現(xiàn)在結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0016]如圖1-3所示，本實(shí)用新型的一種水浸線聚焦探頭，包括殼體1，殼體I具有探測面a和兩個(gè)相對的側(cè)面，兩個(gè)側(cè)面均與探測面a垂直，且其中一個(gè)側(cè)面上具有刻度線1-2，刻度線1-2延伸到刻度線1-2所在的側(cè)面與探測面a的相交線b上，具有刻度線1-2的側(cè)面上設(shè)置有一紅外發(fā)射器2，紅外發(fā)射器2的發(fā)射方向與刻度線1-2的延伸方向平行。紅外發(fā)射器2具有一個(gè)側(cè)面為弧面2-1。
[0017]具有刻度線1-2的側(cè)面上開設(shè)有凹槽1-1，紅外發(fā)射器2與側(cè)面在凹槽1-1處滑動(dòng)連接，凹槽1-1的長度延伸方向與刻度線1-2的分布方向相同。凹槽1-1底部和紅外發(fā)射器2之間嵌入有玻璃珠3，凹槽1-1底部和紅外發(fā)射器2均與玻璃珠3滾動(dòng)連接。
[0018]以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種水浸線聚焦探頭，其特征在于:包括殼體(I)，所述殼體(I)具有探測面(a)和兩個(gè)相對的側(cè)面，兩個(gè)側(cè)面均與探測面(a)垂直，且其中一個(gè)側(cè)面上具有刻度線(1-2)，所述刻度線(1-2)延伸到刻度線(1-2)所在的側(cè)面與探測面(a)的相交線(b)上，具有刻度線(1-2)的側(cè)面上設(shè)置有一紅外發(fā)射器(2)，所述紅外發(fā)射器⑵的發(fā)射方向與刻度線(1-2)的延伸方向平行。2.如權(quán)利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:具有刻度線(1-2)的側(cè)面上開設(shè)有凹槽(1-1)，所述紅外發(fā)射器(2)與所述側(cè)面在凹槽(1-1)處滑動(dòng)連接，所述凹槽(1-1)的長度延伸方向與刻度線(1-2)的分布方向相同。3.如權(quán)利要求2所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述凹槽(1-1)底部和紅外發(fā)射器(2)之間嵌入有玻璃珠(3)，所述凹槽(1-1)底部和紅外發(fā)射器(2)均與玻璃珠(3)滾動(dòng)連接。4.如權(quán)利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述紅外發(fā)射器(2)具有一個(gè)側(cè)面為弧面(2-1)。5.如權(quán)利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述刻度線(1-2)內(nèi)凹于所述殼體⑴。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種水浸線聚焦探頭，包括殼體，所述殼體具有探測面和兩個(gè)相對的側(cè)面，兩個(gè)側(cè)面均與探測面垂直，且其中一個(gè)側(cè)面上具有刻度線，所述刻度線延伸到刻度線所在的側(cè)面與探測面的相交線上，具有刻度線的側(cè)面上設(shè)置有一紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器的發(fā)射方向與刻度線的延伸方向平行。本實(shí)用新型的水浸線聚焦探頭，設(shè)置了紅外發(fā)射器，可以用于對準(zhǔn)起始刻度或探傷位置，減少探測誤差。
【IPC分類】G01C15/00
【公開號(hào)】CN204757986
【申請?zhí)枴緾N201520514816
【發(fā)明人】周南岐
【申請人】常州市常超電子研究所有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年7月15日