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鈦及鈦合金基臺狀電極的制作方法

文檔序號:10352827閱讀:855來源:國知局
鈦及鈦合金基臺狀電極的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及電子器件領(lǐng)域,特別涉及一種鈦及鈦合金基臺狀電極。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的飛速發(fā)展,小微型化的電子器件越來越多的受到人們的青睞。與之相對應(yīng),對電子器件中電極的結(jié)構(gòu)也提出了更高的要求。如電極的小微型化、耐腐蝕性、耐磨性等。以圓柱和四方結(jié)構(gòu)為典型代表的傳統(tǒng)電極,由于其結(jié)構(gòu)過于簡單,很難保證其在滿足電子器件對電極感應(yīng)面積(與被測物體的接觸面積)的同時降低電極的體積和質(zhì)量。其次,電子設(shè)備中傳統(tǒng)的Fe、N1、Cu等賤金屬基電極由于自身材料的特點易受到人體汗液的腐蝕,導(dǎo)致電極導(dǎo)電性能的下降、損耗的上升。因此開發(fā)具有能夠適應(yīng)電子設(shè)備小型化需求、具有良好耐腐蝕性、耐磨性、導(dǎo)電性及價格低廉的電極材料顯得尤為重要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服上述缺陷,本實用新型提供了一種可以根據(jù)電子器件實際需求調(diào)整上下端面面積及電極高度,更好的滿足電子器件小型化的需求,具有耐腐蝕性強(qiáng)、耐磨性好和電導(dǎo)率高鈦及鈦合金基臺狀電極。
[0004]本實用新型為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種鈦及鈦合金基臺狀電極,所述電極為臺狀,其上端面小于下端面,其上端面和下端面形狀為圓形、或三角形、或四邊形。
[0005]作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn),所述電極的材質(zhì)為鈦及鈦合金、或兩者基礎(chǔ)上的摻雜材料組成。
[0006]本實用新型的有益效果是:本實用新型的鈦及鈦合金基臺狀電極結(jié)構(gòu)通過調(diào)節(jié)電極上下端面面積及高度,降低電極質(zhì)量和體積,更好滿足電子器件的小微型化需求。所述電極基體為鈦及鈦合金材質(zhì),具有耐腐蝕、耐磨和導(dǎo)電性好的特點,且機(jī)械性能和可加工性能優(yōu)異、成本低廉、與人體兼容性好,是替代普通金屬電極的理想材料。
【附圖說明】
[0007]圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)不意圖;
[0008]圖2為本實用新型結(jié)構(gòu)另一不意圖;
[0009]圖中標(biāo)示:1_電極。
【具體實施方式】
[0010]為了加深對本實用新型的理解,下面將結(jié)合實施例和附圖對本實用新型作進(jìn)一步詳述,該實施例僅用于解釋本實用新型,并不構(gòu)成對本實用新型保護(hù)范圍的限定。
[0011]圖1示出了本實用新型一種鈦及鈦合金基臺狀電極的一種實施方式,所述電極I為臺狀,其上端面小于下端面,其上端面和下端面形狀為圓形、或三角形、或四邊形。所述電極I的材質(zhì)為鈦及鈦合金、或兩者基礎(chǔ)上的摻雜材料組成。
[0012]使用所述鈦或者鈦合金的粉末,通過冶金方法制備圓臺狀鈦及鈦合金電極;并將電極的一端通過焊接或者粘和的方式連接到電路中,其結(jié)構(gòu)設(shè)計靈活,能夠根據(jù)電子儀器實際需要調(diào)整上下端面面積及電極高度;導(dǎo)電性良好,電阻率在10—7歐姆*米;抗腐蝕性能優(yōu)良;耐磨性能優(yōu)良;成本低廉。
【主權(quán)項】
1.一種鈦及鈦合金基臺狀電極,其特征在于:所述電極(I)為由臺狀,其上端面小于下端面,其上端面和下端面形狀為圓形、或三角形、或四邊形。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦及鈦合金基臺狀電極,其特征在于:所述電極(I)為鈦及鈦合金的混合體。
【專利摘要】本實用新型公開了一種鈦及鈦合金基臺狀電極,所述電極為臺狀,其上端面小于下端面,其上端面和下端面形狀為圓形、或三角形、或四邊形,所述電極的材質(zhì)為鈦及鈦合金、或兩者基礎(chǔ)上的摻雜材料組成,本實用新型的鈦及鈦合金基臺狀電極結(jié)構(gòu)通過調(diào)節(jié)電極上下端面面積及高度,降低電極質(zhì)量和體積,更好滿足電子器件的小微型化需求。所述電極基體為鈦及鈦合金材質(zhì),具有耐腐蝕、耐磨和導(dǎo)電性好的特點,且機(jī)械性能和可加工性能優(yōu)異、成本低廉、與人體兼容性好,是替代普通金屬電極的理想材料。
【IPC分類】H01L23/49
【公開號】CN205264689
【申請?zhí)枴緾N201520834945
【發(fā)明人】龐勝利, 趙程, 沈湘黔, 潘鐵政, 陳濤, 范景波
【申請人】蘇州攀特電陶科技股份有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2015年10月27日
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