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技術(shù)編號(hào)：10045319

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本實(shí)用新型涉及化學(xué)機(jī)械拋光裝置用承載頭的隔膜，詳細(xì)地，涉及可以在開始實(shí)施化學(xué)機(jī)械拋光工序，并向隔膜底板的上側(cè)的壓力腔室施加靜壓，使得隔膜底板向下側(cè)移動(dòng)時(shí)，緩沖作用于隔膜底板和固定片之間的應(yīng)力的不均衡的化學(xué)機(jī)械拋光裝置用承載頭的隔膜。背景技術(shù)化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)裝置是為了在半導(dǎo)體元件的制造過程中去除因反復(fù)執(zhí)行掩膜、蝕刻及布線工序等而生成的晶片表面的凹凸所導(dǎo)致的單元區(qū)域和周邊電路區(qū)域之間的高度差，實(shí)現(xiàn)廣域平坦化，并且為了提高隨著電路形成用觸點(diǎn)/布線膜分離及高...
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