技術編號：10127595
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。在晶片的制造過程中，表面會有油污、化學藥劑、蠟、金屬的殘留，清洗站用于將這些殘留物清洗掉，清洗后的晶片需要進行烘干?，F(xiàn)有的烘干裝置為普通烤箱，對晶片的單一位置烘干，使晶片受熱不均，導致晶片的一面烘干不到位，而另一面容易烤壞。實用新型內容本實用新型提供了一種晶片烘干裝置，它結構設計合理，使用方便，能夠使晶片表面均勻受熱，晶片的兩面均能烘干到位且不會被烤壞，解決了現(xiàn)有技術中存在的問題。本實用新型為解決上述技術問題所采用的技術方案是它包括工作臺、一個主動齒輪和若...
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