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技術(shù)編號：10529219

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物理氣相沉積(physical vapor deposit1n；PVD)一般用于半導(dǎo)體工業(yè)內(nèi)，以及用于太陽能、玻璃涂層及其他工業(yè)內(nèi)。PVD系統(tǒng)用以在諸如半導(dǎo)體晶圓的定位在真空等離子體腔室中的基板上沉積金屬層。PVD工藝用以在半導(dǎo)體晶圓上沉積諸如鈦或氮化鈦的靶材。在典型的PVD系統(tǒng)中，待涂覆的靶材置于真空腔室中，此腔室包含諸如氬的惰性氣體。金屬層可用作擴(kuò)散阻障層、黏附層或種晶層、主要導(dǎo)體、抗反射涂層、蝕刻停止層，等等。理論上，靶材相對于半導(dǎo)體晶圓應(yīng)為極寬，以...
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