技術(shù)編號：10607895
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。現(xiàn)有的薄膜制備技術(shù)中的磁控濺射薄膜制備裝置，可以實現(xiàn)金屬、非金屬單質(zhì)及化合物等鍍膜，但是在現(xiàn)有的平面反應(yīng)磁控濺射裝置所應(yīng)用的幾乎都是剛性襯底，如硅片，玻璃，云母等。這類襯底無法應(yīng)用于柔性器件，嚴重影響了該類薄膜進一步的加工與使用。其次，對于存在變價的金屬，如氧化銪薄膜等，當其暴露與空氣中后，將被進一步氧化進而影響功能，最終造成器件功能喪失或損壞。因此，為了解決上述存在的問題，本發(fā)明特提供了一種新的技術(shù)方案。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供了，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中剛...
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