技術編號：10625673
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 在用于制造諸如先進的微計算機的半導體產品、先進的S0C(片上系統(tǒng)）產品或者 高功能液晶驅動器的工藝中，使用了利用ArF準分子激光的ArF光刻或者其中將互連層形成 為埋入絕緣膜的鑲嵌工藝。 當在鑲嵌工藝中在絕緣膜中制作溝槽（互連溝槽）時，使用以下部件作為蝕刻掩 膜通過將光刻膠膜、無機薄膜(諸如底部抗反射(BARC底部抗反射涂層)膜和S0G(旋涂玻 璃)膜)和有機膜(諸如TE0S(正硅酸四乙酯)膜）中的一些相互堆疊而得到的多層抗蝕劑。 在使用這種多層抗蝕劑的...
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